宗润福
- 作品数：12 被引量：3H指数：1
- 供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
- 发文基金：教育部人文社会科学研究基金黑龙江省高等教育教学改革工程项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信社会学医药卫生自动化与计算机技术更多>>
- 校企文化与协同培养工程科技人才研究被引量：3
- 2016年
- 我国高等工程教育体系是随着中国工业化发展进程而形成的,工程科技人才的培养始终坚持走教育与生产劳动相结合、校企产学研合作的道路。校企产学研合作,产教融合协同育人是培养工程科技人才的有效途径。从校企合作的本质需要来看,校企文化融合能够有效促进二者深度合作机制的形成,使学校与企业从供给和需求的不同角度产生协同育人的内动力。
- 艾红崔玉祥宗润福
- 关键词：校企合作文化融合
- 神经网络多源数据融合磨机料位检测
- 2014年
- 针对火电厂磨煤机储煤量难与直接精准测量,造成磨机长期处于保守工况运行,制粉系统能耗损失巨大,效率低下的现实问题,,提出了基于神经网络多传感器信息融合的磨机料位智能软测量方法,仿真实验的数据融合结果表明了该方法的可行性和有效性,为进一步开展制粉系统的优化控制奠定了基础.
- 艾红宗润福刘振起杨毅王健
- 关键词：神经网络多源数据融合软测量
- 一种超微雾化喷涂方法
- 本发明涉及半导体微观结构的加工技术，更具体的说，本发明是一种可以提高产能的化学品雾化喷涂加工工艺方法，解决现有技术中存在的表面均匀性不好，生产率较低等问题。利用超声波或者二流体喷嘴，两个或两个以上喷嘴同态沿X-Y轴做二维...
- 宗润福汪明波
- 文献传递
- 超大规模集成电路制造专用显影设备国产化开发
- 胡延兵王绍勇宗润福徐春旭张怀东侯宪华
- 1、技术来源及背景:集成电路制造历经1.0μm、0.50μm、0.25μm、0.18μm、0.13μm、90nm、65nm等技术节点，朝向32nm、22nm迈进。这一技术进步是依靠工艺开发、先进专用设备、新材料应用等三大...
- 关键词：
- 关键词：超大规模集成电路
- 真空显影机构
- 本实用新型涉及显影技术，具体为一种真空显影机构，解决现有技术在已有图形的基片表面进行曝光后，显影时容易出现图形底部显影不足甚至显不到等问题。该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上盖和显影腔体扣合，上盖和...
- 宗润福陈焱
- 文献传递
- 集成电路制造匀胶显影设备
- 宗润福胡延兵徐春旭王绍勇郑春海张军苗涛陈焱张怀东李东海刘正伟
- 匀胶显影(又称Track系统)是集成电路制造的关键设备之一，用于集成电路制造光刻工艺中晶圆的涂胶和显影。该成果技术指标达到了预期目标： 1.满足线宽工艺达到0.25微米 2.涂胶考核均匀度：10000±25 3.光...
- 关键词：
- 关键词：集成电路
- 基于磁通观测器的转矩速度双闭环变频调速系统
- 1989年
- 本文推导了以磁通分量描述的电流型逆变器供电异步电动机的降阶三阶数学模型,构造了三阶双线性磁通观测器。基于观测出的状态信息,构成了转差频率控制的转矩速度双闭环新型变频调速系统。实验结果表明,新系统的静、动态品质较普通电流型变频调速系统有很大提高。
- 赵昌颖宗润福
- 关键词：变频调速系统电流型逆变器磁通
- 真空显影机构
- 本发明涉及显影技术，具体为一种真空显影机构，解决现有技术在已有图形的基片表面进行曝光后，显影时容易出现图形底部显影不足甚至显不到等问题。该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上盖和显影腔体扣合，上盖和显影...
- 宗润福陈焱
- 一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统
- 本发明涉及半导体生产领域，具体地说是一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统，包括涂胶显影设备、晶圆传输模块、接口站模块和光刻机，其中各个接口站模块通过晶圆传输模块依次串联，所述光刻机与所述接口站模块一一对应连接，涂胶...
- 洪旭东宗润福
- 文献传递
- 真空显影机构
- 本发明涉及显影技术，具体为一种真空显影机构，解决现有技术在已有图形的基片表面进行曝光后，显影时容易出现图形底部显影不足甚至显不到等问题。该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上盖和显影腔体扣合，上盖和显影...
- 宗润福陈焱
- 文献传递
