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郭颖

作品数:79 被引量:91H指数:6
供职机构:东华大学更多>>
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相关领域:理学轻工技术与工程一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

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领域

  • 38篇理学
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  • 1篇电子电信
  • 1篇文化科学

主题

  • 38篇等离子体
  • 20篇介质阻挡
  • 19篇阻挡放电
  • 19篇介质阻挡放电
  • 16篇介质
  • 14篇辉光
  • 13篇辉光放电
  • 12篇大气压
  • 11篇纤维
  • 9篇射频放电
  • 9篇放电
  • 8篇等离子体射流
  • 8篇常压等离子体
  • 8篇超疏水
  • 7篇射频辉光放电
  • 7篇纳米
  • 7篇放电等离子体
  • 6篇脉冲偏压
  • 6篇改性
  • 6篇常压

机构

  • 79篇东华大学
  • 1篇大连理工大学
  • 1篇复旦大学
  • 1篇福建华峰新材...
  • 1篇福建华锦实业...

作者

  • 79篇郭颖
  • 49篇张菁
  • 49篇石建军
  • 12篇黄晓江
  • 10篇丁可
  • 10篇杨沁玉
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  • 8篇张杰
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  • 5篇王超梁
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  • 4篇赵建钢
  • 4篇申亚军
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  • 3篇夏磊
  • 3篇刘磊
  • 3篇方忻生
  • 3篇解艳凤

传媒

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  • 4篇第十六届全国...
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  • 1篇合成技术及应...
  • 1篇力学学报
  • 1篇印染助剂
  • 1篇纺织学报
  • 1篇上海纺织科技
  • 1篇核聚变与等离...
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇江西科学
  • 1篇光散射学报
  • 1篇复合材料学报
  • 1篇纺织科学与工...
  • 1篇第十五届全国...

年份

  • 1篇2024
  • 3篇2023
  • 8篇2021
  • 4篇2020
  • 6篇2019
  • 6篇2018
  • 6篇2017
  • 4篇2016
  • 3篇2015
  • 4篇2014
  • 9篇2013
  • 6篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 5篇2008
  • 2篇2006
  • 2篇2005
  • 3篇2004
  • 2篇2003
79 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
常压等离子体对柔性多孔材料表面处理均匀性的研究进展被引量:6
2021年
柔性多孔材料在当今众多前沿科学与技术领域发挥着重要作用,其表面改性将进一步赋予其多样和优异的表面性能,拓展其在功能和智能可穿戴等领域的应用.常压等离子体技术由于低温、低能耗、高效、环保、低成本、不改变材料本体特性、易于实现卷对卷制备等优势,在应用环境、样品材料选择上展现出良好的适应性,在低熔点柔性材料大面积低成本表面处理方面具有很好的应用前景和研究价值.本文综述了近年来常压等离子体柔性多孔材料表面改性的几个实例及在新材料、新能源、环保、生物医学中的应用.探讨了柔性多孔材料常压等离子体均匀处理所遇到的稳定性及渗透性的问题与挑战.综述了本课题组在常压等离子体稳定放电、卷对卷常压等离子体多孔介质处理及内部渗透性和均匀性方面的研究工作,介绍了本课题组在常压等离子体纳米颗粒膜沉积动力学及膜结构调控方面的突破和思路.常压等离子体柔性多孔介质表面处理技术走向应用仍然存在诸多挑战,需要结合常压等离子体的放电方式及特性、处理材料的结构及加工特性、等离子体和材料的相互作用等来进行综合考虑,才能提供合理可行的解决方案.
徐雨王超梁覃思成张宇何涛郭颖丁可张钰如杨唯石建军杜诚然张菁
关键词:常压等离子体材料改性均匀性
低温等离子体表面改性提高聚四氟乙烯黏结性能被引量:4
2020年
探究不同气体氛围、等离子体放电功率和处理时间对聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene,PTFE)表面黏附性和亲水性的影响,以表征其黏结性能。使用场发射扫描电子显微镜(field emission scanning electron microscopy,FE-SEM)和X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)表征分析PTFE膜黏结性能改善的机理。结果表明,等离子体处理能提高PTFE膜的表面亲水性,经不同气体等离子体处理后PTFE表面黏附性均有显著提升。FE-SEM分析表明PTFE膜表面粗糙度增加,这是促使其黏结性能提升的原因之一;XPS显示等离子体处理后PTFE膜表面引入新的含氧、含氮基团,这是黏结性能提升的主要原因。
李高原赵建钢郭颖
关键词:低温等离子体聚四氟乙烯水接触角粗糙度
大气压脉冲放电等离子体射流特性及机理研究被引量:3
2021年
通过实验和数值模拟研究了大气压脉冲放电等离子体射流,其中在脉冲电压上升沿阶段的放电中形成等离子体子弹并向接地电极输运,其传播速度在10~4 m·s~(–1)量级.数值模拟研究还发现等离子体子弹邻近区域内增强的电场强度可达到10~6 V·m~(–1),说明等离子体子弹的形成主要由放电空间局域增强的电场导致,在接地电极附近会得到进一步增强.放电空间的电子密度时空演变过程揭示了等离子体子弹经过的区域会保持较高的电子密度,说明等离子体子弹的拖尾现象;而等离子体子弹头部增强的电子产生率与局域增强的电场强度对应,这说明了等离子体子弹产生的动力学过程.该大气压脉冲放电等离子体射流中等离子体子弹的特性和机理研究为发展大气压等离子体射流提供了理论和技术基础.
张亚容韩乾翰郭颖张菁石建军
关键词:等离子体射流数值模拟脉冲放电
等离子体协同碱减量刻蚀聚酯纤维的研究
<正>引言聚酯纤维(PET)具有优良的物理机械性能,是目前应用最广泛的化学纤维。但因其光泽较强,染色性和吸湿透气性较差,往往需要进行表面改性。工业化应用的碱减量刻蚀处理能有效的改善PET纤维表面性能,但环境污染严重,能耗...
彭释李炜高明郭颖黄晓江石建军张菁
文献传递
大气压低温射频等离子体连续处理纤维表面的装置及方法
本发明涉及一种大气压低温射频等离子体连续处理纤维表面的装置和方法,装置包括管体和第一陶瓷管,第一陶瓷管通过设置在管体两端和管体中间的支撑连接块设置在管体中;管体两端的支撑连接块内设有第二陶瓷管,第二陶瓷管与第一陶瓷管相通...
石建军刘小虎郭颖黄晓江张菁
文献传递
等离子体制备自修复超疏水涂层纤维被引量:3
2021年
通过低温等离子体聚合交联作用,制备了基于PDMS@ZnO纳米颗粒复合涂层的超耐久、自修复超疏水涤纶纤维.研究了制备工艺对超疏水性、自修复性以及涂层的耐久性和稳定性的影响.结果显示, PET-g-PDMS@ZnO织物表面的水接触角(WCA)可达162.7°,滚动角(SA)为7.5°,经过300次水洗循环和1300次摩擦循环后仍然保持超疏水特性, WCA和SA分别为150.0°和35.0°.分别采用等离子体和加热方法对磨损破坏的涂层进行自修复处理,结果表明等离子体修复效果明显,而热修复只在小载荷下效果明显,并利用扫描电子显微镜、纳米压痕以及X射线光电子能谱测量结果探讨了自修复机理.该研究为等离子体技术在超疏水织物制备中的开发和应用提供理论和技术支撑.
韩乾翰张亚容赖玉玲徐利云郭颖†张菁俞建勇石建军
关键词:等离子体涤纶超疏水耐久性自修复
一种常压脉冲辅助平板射频辉光放电的装置与方法
本发明公开了一种常压脉冲辅助平板射频辉光放电的装置与方法。所述装置为一种等离子体放电反应器,其包括放电腔体,放电腔体内填充有放电气体;放电腔体顶部设有进气口,放电腔体内设有与高压电源连接的上电极及与射频电源连接的下电极,...
石建军邱慎杰韩乾翰郭颖张菁
文献传递
基于常压协同射流等离子体改性国产高强中模碳纤维表面的研究被引量:1
2021年
国产高强中模碳纤维性能优异,但其表面活性低,与树脂基体的结合能力较差。为了改善国产高强中模碳纤维表面活性,提高其与环氧树脂的界面性能,采用常压脉冲放电与射频放电协同的射流等离子体放电形式,对碳纤维表面进行改性处理,并系统研究了改性前后碳纤维的表面形貌、单丝强度、与环氧树脂的接触角、表面O/C比、含氧活性基团含量、复合材料层间剪切强度(ILSS)等参量。结果发现:等离子体处理3次时(约为120 s)碳纤维表面性能最佳,与原样相比,其接触角降低了21.3%,O/C比提升了53.3%,C1s峰上的C-O和COOH含量分别提高了95.61%与179.37%,复合材料的层间剪切强度提高了64.49%,说明其界面性能得到了大幅度提升。此外,常压协同射流等离子处理对纤维本体未造成明显损伤,且一定程度上起到修复纤维表面疵点的作用,增加了表面粗糙度,有效提高了碳纤维对树脂的浸润性能。
蔡超迁韩乾翰黄壮阳泽濠张辉石建军郭颖俞建勇
关键词:碳纤维等离子体处理表面改性
容性耦合等离子体的均匀性研究被引量:7
2014年
使用朗缪尔双探针诊断方法,研究放电极板配置和放电参数对13.56 MHz容性耦合等离子体的电子温度、电子密度和电子能量密度分布的影响。其中极板配置包括圆孔极板、极板数量和极板间距,放电参数包括放电功率和放电气压。实验结果表明:极板配置和放电参数不仅影响等离子体的电子温度、电子密度和电子能量密度,而且影响等离子分布的均匀性;两对放电极板和接地圆孔极板均提高了等离子体的均匀性,但降低了等离子体的电子密度和电子能量密度,其中两对放电极板可将电子密度的均匀性由77.9%提高至93.5%,而圆孔极板则可将电子密度的均匀性由77.9%提高至96.4%;高功率可获得高电子密度、高电子能量密度但低均匀性的等离子体。
唐优青丁可郭颖赵建钢
射频等离子体功率参数对硅基发光薄膜生长与结构的影响
2012年
采用射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以SiH4和Ar的混合气体为源气体,在石英玻璃衬底上制备了硅基发光薄膜.利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和傅里叶红外光谱(FTIR)对薄膜的形貌、结构和性能进行了表征,并利用发射光谱(OES)对薄膜等离子体生长过程进行了分析.研究结果表明,随着射频功率的增加,等离子体发射光谱中Hβ谱线强度激增,薄膜的红外光谱中Si—O键在1095cm-1处振动吸收峰强度减小,Si—Si键在613cm-1处特征吸收峰强度增加,说明射频功率增加加剧了硅烷的裂解与氧化硅的还原,提高了薄膜结晶度和纳米晶粒的融合度,并降低了沉积薄膜的表面粗糙度.
邵宇光杨沁玉王德信石建军徐金洲郭颖张菁
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