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林立强

作品数：13 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>

合作作者

文献类型

  • 13篇中文专利

主题

  • 6篇钛酸
  • 6篇钛酸锶
  • 6篇钛酸锶钡
  • 6篇玻璃钝化
  • 4篇制成品
  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇电泳沉积
  • 2篇钝化
  • 2篇钝化工艺
  • 2篇氧化物
  • 2篇真空
  • 2篇真空热处理
  • 2篇熔点
  • 2篇射频
  • 2篇试剂
  • 2篇损耗
  • 2篇涂敷
  • 2篇内应力

机构

  • 13篇中国电子科技...

作者

  • 13篇林立强
  • 7篇朱健
  • 4篇刘萍
  • 4篇张龙
  • 2篇卓敏
  • 2篇戴精武
  • 2篇吕振中
  • 2篇吴璟

年份

  • 4篇2007
  • 2篇2006
  • 5篇2005
  • 2篇2003
共 13 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法
本发明提供一种射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法。即在通用的锌系钝化玻璃或铅系钝化玻璃组分中添加成核剂或能提高烧结时玻璃粘度的高熔点氧化物；采用电泳沉积术涂敷于硅器件表面经热成型后即形成一薄层均匀的旨在改善台...
林立强刘萍
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磁控溅射介质靶防龟裂加固箍环
本实用新型提供一种磁控溅射介质靶防龟裂加固箍环，该加固箍环由金属材料构成，其加工的内径尺寸与介质靶的直径尺寸紧配合。本实用新型的磁控溅射介质靶的加固箍环，使用45<Sup>#</Sup>钢、不锈钢或铜等，采用金属机械加工...
林立强朱健
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射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法
本发明提供一种射频台式硅二极管电泳沉积玻璃钝化共形膜制备方法。即在通用的锌系钝化玻璃或铅系钝化玻璃组分中添加成核剂或能提高烧结时玻璃粘度的高熔点氧化物；采用电泳沉积术涂敷于硅器件表面经热成型后即形成一薄层均匀的旨在改善台...
林立强刘萍
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钛酸锶钡与堇青石玻璃陶瓷复合介质材料的制备方法
本发明公开了一种可大幅度地拓宽其制成品的介电常数范围，降低其高频损耗，提高介电特性随频率和温度变化的稳定性的钛酸锶钡与堇青石混合介质材料的制备方法，包括：a.配制钛酸锶钡介质材料，按要求研磨制成超细粉；b.将配制堇青石玻...
林立强朱健张龙
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改善玻璃钝化硅器件高温反向特性的钝化玻璃涂敷液
本发明提供一种通过玻璃涂敷液中添加剂的作用，尽可能地消除游离的可动离子的沾污影响并抑制玻璃钝化器件在高温反偏作用下可动离子的电徙动，从而达到进一步提高玻璃钝化器件反向特性，提高器件可靠性的目的。添加剂可采用H<Sub>2...
林立强刘萍
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硅半导体器件玻璃钝化工艺
一种硅半导体器件玻璃钝化工艺，其特征在于：a.将配制钝化玻璃的各种氧化物或相应的氢氧化物或碳酸盐制成颗粒直径≤1μm的超细微粉作为原材料；b.经高温烧结后，将已成的钝化玻璃重新制成颗粒直径≤1μm的超细微粉作为钝化器件的...
林立强
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钛酸锶钡薄膜材料的制备方法
本发明在制备钛酸锶钡靶材的原材料中添加微量的敏化剂和成核剂，在磁控溅射过程中使这类添加剂均匀地转移到薄膜中去，通过适当的晶化处理能够强化在薄膜的非晶态固体中均匀地析出大量微晶化晶体，并使其生长，这种方法可显著地提高所制薄...
林立强朱健张龙卓敏吴璟
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改善玻璃钝化硅器件高温反向特性的钝化玻璃涂敷液
本发明提供一种通过玻璃涂敷液中添加剂的作用，尽可能地消除游离的可动离子的沾污影响并抑制玻璃钝化器件在高温反偏作用下可动离子的电徙动，从而达到进一步提高玻璃钝化器件反向特性，提高器件可靠性的目的。添加剂可采用H<Sub>2...
林立强刘萍
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钛酸锶钡薄膜材料的制备方法
本发明在制备钛酸锶钡靶材的原材料中添加微量的敏化剂和成核剂，在磁控溅射过程中使这类添加剂均匀地转移到薄膜中去，通过适当的晶化处理能够强化在薄膜的非晶态固体中均匀地析出大量微晶化晶体，并使其生长，这种方法可显著地提高所制薄...
林立强朱健张龙卓敏吴璟
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钛酸锶钡介质靶的制备方法
本发明在制备钛酸锶钡靶材的原材料中添加少量的发泡剂或微量的助泡剂，在制靶烧结过程中使这类添加剂均匀地产生气泡而基本不留残渣，在最终的靶材制成品中，均匀地产生大量的微孔，具备这种微孔结构的靶材可极其有效地吸收、消除由于严酷...
林立强朱健吕振中戴精武
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