冯仕猛
- 作品数：58 被引量：145H指数：7
- 供职机构：上海交通大学更多>>
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- 相关领域：理学电气工程机械工程电子电信更多>>
- 太阳能单晶硅片制绒液及其应用方法
- 一种太阳光伏电池技术领域的太阳能单晶硅片制绒液及其应用方法，该制绒液组分为：NaOH9.6～12.5g/L、乙醇50～100mL/L、乙醇钠0.25～2g/L、维生素1～2g/L以及0.5～2.5g/L的全氟烷基醚羧酸钾...
- 单以洪冯仕猛
- 文献传递
- 表面钝化对多晶硅绒面形貌的影响被引量：6
- 2012年
- 多晶硅表面制绒技术是太阳能光伏产业亟待突破的一个关键技术.本文根据多晶硅强酸制绒的基本原理,提出了表面活性剂钝化多晶硅表面以降低硅原子与酸反应速度从而改善多晶硅绒面形貌的方法.实验研究了不同含量的添加剂对酸液刻蚀多晶硅绒面形貌的影响,用扫描电镜观察对应的绒面结构,用积分反射仪测量其绒面的表面反射率.实验结果表明:加入活性剂后酸液能使多晶硅表面陷阱坑分布更加均匀,并且能有效消除产生漏电流的缺陷性深沟槽,样品表面反射率比较低,其表面反射率降低到21.5%.与传统酸液腐蚀的多晶硅绒面结构相比,陷阱坑密度明显增加,这种方法在多晶硅太阳电池的生产中是有价值的.
- 王坤霞冯仕猛徐华天单以洪田嘉彤黄建华杨树泉黄璐周利荣
- 关键词：多晶硅反射率
- 亚硝酸钠刻蚀液对多晶硅表面陷阱坑形貌的影响被引量：4
- 2012年
- 酸刻蚀多晶硅表面技术是当前太阳能研究的热点之一。利用亚硝酸钠比硝酸钠氧化能力弱的特点,在普通酸刻蚀液中用亚硝酸钠取代硝酸配制多晶硅表面刻蚀液,然后在相同的工艺条件下刻蚀多晶硅表面。实验样品的SEM显示:含有NaNO2酸刻蚀液使多晶硅表面能布满蚯蚓状的腐蚀坑,腐蚀坑的深度比传统的酸刻蚀的陷阱坑深,而且密度分布比较均匀,样品平均反射率下降到23.5%,与传统配方酸刻蚀液刻蚀的多晶硅表面相比,平均反射率下降了8%左右。
- 钱勇冯仕猛
- 关键词：多晶硅表面修饰形貌反射率
- 基于矩阵理论的螺旋液晶透射光偏振态研究被引量：1
- 2008年
- 将螺旋型液晶看作是N层双折射材料晶片叠合而成,而每层光轴相对于相邻的晶片有一个小的旋转。本文基于矩阵理论,研究了光在螺旋液晶中传输时偏振态的变化。经过详细的数学推导,理论研究表明,线性偏振光经过螺旋液晶后偏振态会发生改变。当满足一定的条件时,线偏振光的偏振方向旋转90°,左旋圆偏振光经过左旋螺旋液晶后转变为右旋圆偏振光。
- 谢嘉宁冯仕猛陈婷
- 关键词：矩阵偏振态透射光
- 基于Tracepro软件的LCD TV直下式背光源均匀性仿真被引量：3
- 2009年
- 采用Tracepro软件模拟背光源不均匀现象时,模拟结果与人眼实际观察之间存在差异。分析了造成二者之间差异的原因,根据韦伯定律最小可觉差概念,提出了应用于判断液晶显示器背光源均匀性的公式。将该公式拟合得到的人眼实际观察图与Tracepro的模拟追迹图相对比,以二者吻合度判断Tracepro参数设置的正确性。该仿真方法将Tracepro软件模拟与人眼实际观察结合起来,可帮助设计者在开发阶段更好地对产品进行评估。
- 李郑阳冯仕猛
- 关键词：TRACEPRO差别感觉阈限分辨率
- 金属单层膜的小角X射线衍射强度的研究被引量：3
- 1999年
- 本文对金属单层膜进行研究，在多种样品中没有发现Ｘ射线衍射峰．我们在基底上预先淀积一层重金属膜，然后再淀积所需样品，发现样品有较好的衍射峰产生．
- 冯仕猛易葵赵强汤兆胜范正修
- 关键词：X射线衬底单层膜衍射强度金属膜
- 一种近似计算金属多层膜界面过渡层厚度的方法
- 2000年
- 在用小角射线衍射研究离子束溅射法制备的多层膜基本结构时 ,提出了一个可以计算界面过渡层厚度公式。由实验曲线和文中提出公式得到过渡层厚度 ,并与用实验曲线和理论曲线进行拟合所得值进行了对比 。
- 冯仕猛易葵邵建达范正修
- 关键词：多层膜金属
- 单晶硅表面金字塔生长过程的实验研究被引量：8
- 2011年
- 在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2mL的刻蚀液中,经过10min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区;刻蚀15min后金字塔大小趋向一致,平滑区面积缩小;刻蚀20min硅片表面形成平均尺寸为2～4μm金字塔绒面结构,并且均匀性好、覆盖率高;刻蚀25min后,进入过腐蚀阶段,金字塔出现变大的现象.研究表明:与传统碱腐蚀相比,添加剂可以缩短单晶硅刻蚀时间,并获得较为理想的绒面结构,在工业上应用可以降低生产成本和生产时间,提高生产率.
- 田嘉彤冯仕猛王坤霞徐华天刘峰黄建华杨树泉裴俊
- 关键词：单晶硅微结构绒面
- 短波软X射线多层膜性能和制备技术研究
- 软X射线多层膜反射元件在天文学、生物样品的全息术、X射线平板印刷术、和X射线激光以及同步辐射装置上等方面都有非常重要的用途.论文用X射线的衍射理论系统分析多层膜中杂质对X射线多层膜反射率的影响,并给出了一个反映杂质含量和...
- 冯仕猛
- 关键词：软X射线多层膜光子能量入射角
- 文献传递
- 入射光单色性与界面粗糙度对多层膜反射性能的不同影响被引量：2
- 2006年
- 多层膜界面粗糙度、入射光单色性对软X射线多层膜实际反射率均有影响。利用数学卷积积分,理论上推导出一个在入射光不同单色性下精确计算多层膜反射率的公式。利用给出的理论计算公式,简要分析了入射光不同单色性、不同界面粗糙度对Mo/Si多层膜反射率的影响。理论分析发现这两种因素对Mo/Si多层膜反射率影响完全不同:入射光低的单色性不但极大降低Mo/Si多层膜峰值反射率,而且使反射曲线的半峰全宽增加;而界面粗糙度是降低Mo/Si多层膜反射曲线上各点对应值,基本不改变Mo/Si反射曲线的半峰全宽,不改变反射曲线的形状。说明这两个因素在软X射线的长波段对多层膜反射性能的影响不同。
- 冯仕猛田晨王宇兴
- 关键词：X射线光学多层膜单色性反射率
