付德君
- 作品数：136 被引量：124H指数：6
- 供职机构：武汉大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国际科技合作与交流专项项目国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺一般工业技术核科学技术更多>>
- Ti掺杂纳米复合类金刚石涂层的摩擦磨损和抗水蚀性能的研究
- 利用改进型闭合场孪生非平衡中频磁控系统在基体温度低于100℃的条件下沉积了 Ti掺杂类金刚石纳米复合涂层。研究了不同偏压和Ti靶电流对涂层的结构,摩擦磨损性能和抗水蚀性能的影响,结果表明在100V偏压,Ti靶电流4A时制...
- 黄志宏杨兵刘传胜郭立平范湘军付德君
- 关键词：类金刚石纳米复合涂层中频磁控溅射水蚀
- 文献传递
- 替代电镀的超厚CrN及CrN/MoN涂层的制备
- 采用自行设计的多弧离子镀系统,在试样和各种材质活塞环上制备了氮化铬厚膜涂层,用X射线衍射和扫描电镜系统研究N2气分压和涂层厚度对CrN涂层结构、形貌、耐腐蚀性能和摩擦学性能的影响.在试样上沉积的CrN涂层,随沉积N2气压...
- 田灿鑫杨兵付德君
- 一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置
- 本发明公开了一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置，包括真空室，真空室设有抽真空口，真空室内设有磁控靶和工件架及支撑工件架的支座，磁控靶呈对靶对向设置，每对磁控靶由一个中频电源供电，工件架位于对靶之间；每对磁控靶磁场布置方向...
- 范湘军彭友贵杨兵付德君
- 文献传递
- Mn^+离子注入GaN薄膜的磁性研究被引量：2
- 2005年
- 在(0001)面的蓝宝石衬底上用MOCVD法生长纤锌矿结构的GaN。GaN膜总厚度为4μm,表层为0.5μm厚的掺Mg的p型层。用90keV的Mn+离子对处于室温下的GaN进行离子注入,注入剂量为1×1015~5×1016ions/cm2。对注入的样品在N2气流中经约800℃进行快速热退火处理,时间为30~90s。样品的磁性用超导量子干涉仪(SQUID)进行分析。未注入的p型GaN薄膜是抗磁性的,而Mn+注入的GaN显现顺磁性(注入剂量为1×1015ions/cm2)和铁磁性(注入剂量为5×1015~5×1016ions/cm2)。结合X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对GaN薄膜在注入和退火后的结构和形貌研究,揭示Mn+注入是进行GaN磁性掺杂的有效手段,在Mn+注入p型GaN、制备得到的(Ga,Mn)N稀磁半导体中,空穴调制铁磁性是其主要的磁性机制。
- 石瑛付德君林玲蒋昌忠范湘军
- 关键词：GAN离子注入磁性
- CRALTIN及CRALTIN:SI纳米多层复合涂层的制备及力学性能研究
- 以金属CR和ALTI合金为靶材料,在沉积过程中引入SIH4气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CRALTIN和CRALTISIN硬质涂层.实验表明,衬底偏压和反应气体流量对膜层的机械性能...
- 付酮程闫少健田灿鑫杨兵黄志宏付德君
- 关键词：多弧离子镀显微硬度
- 文献传递网络资源链接
- 加速器-电镜联机装置及其应用研究
- 汉大学建立了我国首台加速器-电镜联机装置,该装置由美国GIC 2×1.7MV 串列加速器、国产200kV 离子注入机和日立H800 型透射电镜组成,经自行设计的离子传输管道进行了联机实验,离子传输系统用LEAD...
- 黎明J.C.Lee付德君范湘军何俊杨铮周霖刘传胜郭立平蒋昌忠杨世柏刘家瑞
- 关键词：加速器离子注入机电子显微镜
- CrAlTiN及CrAlTiSiN纳米多层复合涂层的制备及力学性能被引量：5
- 2013年
- 以金属Cr和AlTi合金为靶材料,在沉积过程中引入SiH4气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CrAlTiN和CrAlTiSiN硬质涂层。通过X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)分析涂层的组织和形貌,结果表明:衬底偏压和反应气体流量对膜层的力学性能有较大影响,在优化条件下得到CrAlTiN涂层的硬度为29GPa。且CrAlTiSiN涂层为CrSiN和AlTiSiN组成的纳米多层复合涂层,随着SiH4流量的增加,薄膜中的硅含量明显增加,在优化条件下,涂层的显微硬度达到37GPa,摩擦因数为0.58。刀具涂层检测试验表明,涂覆CrAlTiN涂层的铣刀使用寿命可提高3倍,而CrAlTiSiN涂层较CrAlTiN涂层还会进一步提高刀具使用寿命。
- 付酮程闫少健田灿鑫杨兵黄志宏付德君
- 关键词：多弧离子镀纳米多层膜显微硬度
- 一种获得固体材料表面孔洞直径可控范围广的团簇离子轰击法
- 本发明公开了一种获得固体材料表面孔洞直径可控范围广的团簇离子轰击法。为克服现有技术固体表面尺寸控制的局限性，提出了采用压制所需材料的纳米粉体来制作基体。在这种压制材料中，布氏硬度可以很容易地通过调节压片机在基体形成过程中...
- 瓦西里·帕里诺维奇曾晓梅付德君杨兵
- 文献传递
- 电弧离子镀制备TiSiN纳米复合涂层被引量：13
- 2015年
- 目的在SiH4气氛下制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,为SiH4用于工业化TiSiN涂层生产提供依据。方法采用电弧离子镀技术,在SiH4气氛下,于单晶硅和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层,研究SiH4流量对TiSiN涂层化学组分、微观结构、硬度和耐磨性能的影响。结果 SiH4流量对TiSiN纳米复合涂层的微观结构、硬度及摩擦系数的影响明显。随着SiH4流量的增加,TiSiN涂层由柱状晶生长的晶体结构逐渐转变为纳米晶镶嵌于非晶基体的复合结构。Si在涂层中以Si3N4非晶相存在,随着涂层中Si含量逐渐增加,TiN晶粒尺寸逐渐减小,Si3N4起到细化晶粒的作用。在42 m L/min的SiH4流量下,涂层硬度高达4100HV0.025。在对磨材料为硬质合金的条件下,TiSiN涂层摩擦系数小于0.6。结论 SiH4气氛下可以制备出Ti N纳米晶镶嵌于Si3N4非晶相结构的TiSiN纳米复合涂层,涂层的显微硬度较高。SiH4可以作为Si源用于TiSiN纳米复合涂层的工业化生产。
- 田灿鑫周小东周思华杨兵付德君
- 关键词：电弧离子镀力学性能
- 一种纳米复合类金刚石涂层制备方法
- 本发明公开了一种纳米复合类金刚石涂层制备方法，利用磁场控制的阴极电弧放电，通入乙炔气体使金属靶前乙炔过量，靶面形成金属碳化物层，当电弧运动时从靶面蒸发出金属碳化物，此外电弧靶前方在辅助磁场作用下利用电弧放电产生的强等离子...
- 杨兵丁辉付德君
- 文献传递
