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魏葳

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：东北大学更多>>
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合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇声子
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇拉曼光谱分析
  • 1篇光谱
  • 1篇光谱分析
  • 1篇光学
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇包埋
  • 1篇PECVD

机构

  • 1篇东北大学

作者

  • 1篇支壮志
  • 1篇杨华哲
  • 1篇魏葳
  • 1篇祁阳

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
二氧化硅基质中包埋硅纳米晶薄膜的光学性质研究被引量：1
2006年
本文采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方法,在不同的SiH4和CO2气体流量比率(GFRRSC)下,制备了基质中包埋硅纳米晶的二氧化硅薄膜。微区拉曼光谱计算结果表明,随着GFRRSC降低,硅晶粒平均尺寸逐渐减小。吸收光谱的计算结果表明,由量子限制效应所致光学带隙随着GFRRSC降低而逐渐展宽。在1.4 eV^2.4 eV能量区间发现多个发光峰。在低温下(80 K)观测到声子参与的发射光谱,表明在1.7 eV附近的发光峰源于Si-O振动模式参与的Si-SiO2界面的跃迁。
支壮志祁阳杨华哲魏葳
关键词：光致发光PECVD拉曼光谱分析声子
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