您的位置： 专家智库 > >

梁厚蕴

作品数：3 被引量：2H指数：1
供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电子束
  • 1篇氧化锆
  • 1篇蒸发
  • 1篇蒸发法
  • 1篇热反射
  • 1篇二氧化锆
  • 1篇TI-AL
  • 1篇ZRO
  • 1篇N
  • 1篇V

机构

  • 3篇北京有色金属...

作者

  • 3篇娄朝刚
  • 3篇张学华
  • 3篇梁厚蕴
  • 1篇石东奇

传媒

  • 2篇稀有金属
  • 1篇真空

年份

  • 1篇1996
  • 2篇1992
共 3 条 记 录，以下是 1-3
全选 清除 导出
排序方式：
大面积热反射薄膜材料的制备
1996年
大面积热反射薄膜材料的制备梁厚蕴娄朝刚张学华闫宝明（北京有色金属研究总院１０００８８）关键词：磁控溅射热反射薄膜材料薄膜材料以其特有的物理、化学性能应用在材料改性、微电子学、建筑材料以及装饰、装璜等方面。其中，在玻璃上制备热反射薄膜材料在现代建筑上用...
梁厚蕴娄朝刚张学华闫宝明
关键词：磁控溅射热反射
用电子束蒸发法制备ZrO_2薄膜被引量：1
1992年
采用电子束蒸发的方法制备ＺｒＯ２薄膜，经Ｘ射线衍射和Ｘ光电子能谱分析证实：薄膜为具有立方结构的ＺｒＯ２薄膜，薄膜中缺氧，Ｙ原子的百分含量比蒸发原料中高．
娄朝刚张学华梁厚蕴石东奇华寿美
关键词：电子束蒸发二氧化锆
磁控溅射Ti-Al-V-N涂层研究被引量：1
1992年
用两种靶材,采用磁控反应溅射沉积Ti-Al-V-N薄膜。XRD和XPS测定薄膜的结构主要为BI-NaCl型Ti(Al、V)N相。SEM观察确定微观结构比较致密,晶粒直径约0.1μm;元素面分布均匀;主要成份与靶材基本一致。氧化试验表明Ti(Al、V)N抗氧化性远优于TiN,高铝薄膜尤为明显,对Cu、Al等浸润角动态观察和测量结果表明:Ti(Al、V)N涂层明显区别于无涂层的合金钢抛光表面。
华寿美娄朝刚梁厚蕴祁光禄张学华
关键词：磁控溅射
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0