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张学华
作品数:
10
被引量:2
H指数:1
供职机构:
北京有色金属研究总院
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相关领域:
金属学及工艺
一般工业技术
电子电信
电气工程
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合作作者
程世德
北京有色金属研究总院
梁厚蕴
北京有色金属研究总院
娄朝刚
北京有色金属研究总院
石东奇
北京有色金属研究总院
王裕昌
北京有色金属研究总院
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作者
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张学华
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年份
1篇
1996
2篇
1992
1篇
1991
2篇
1990
1篇
1989
3篇
1986
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10
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物理气相沉积用杆状基体夹持装置
物理气相沉积用的杆状基体夹持装置用于向挤压针表面上沉积TiN、TiC、WC等超硬涂层,它主要包括移动小车及其传动装置,夹具及其传动装置,使挤压针同时作自转、公转和平移运动。该装置的优点是使涂层厚度均匀致密;可同时夹持多个...
张学华
王东辉
程世德
王裕昌
石东奇
文献传递
磁控溅射Ti-Al-V-N涂层研究
被引量:1
1992年
用两种靶材,采用磁控反应溅射沉积Ti-Al-V-N薄膜。XRD和XPS测定薄膜的结构主要为BI-NaCl型Ti(Al、V)N相。SEM观察确定微观结构比较致密,晶粒直径约0.1μm;元素面分布均匀;主要成份与靶材基本一致。氧化试验表明Ti(Al、V)N抗氧化性远优于TiN,高铝薄膜尤为明显,对Cu、Al等浸润角动态观察和测量结果表明:Ti(Al、V)N涂层明显区别于无涂层的合金钢抛光表面。
华寿美
娄朝刚
梁厚蕴
祁光禄
张学华
关键词:
磁控溅射
用电子束蒸发法制备ZrO_2薄膜
被引量:1
1992年
采用电子束蒸发的方法制备ZrO2薄膜,经X射线衍射和X光电子能谱分析证实:薄膜为具有立方结构的ZrO2薄膜,薄膜中缺氧,Y原子的百分含量比蒸发原料中高.
娄朝刚
张学华
梁厚蕴
石东奇
华寿美
关键词:
电子束
蒸发
二氧化锆
磁控溅射TiN涂层的工艺参数及特征
张学华
程世德
陈观吾
关键词:
涂层
气相沉积
氮化钛
显微硬度
相分析
磁控溅射
硬质合金PVD涂层技术的发展
1986年
本文简要介绍了世界发达国家PVD(物理气相沉积)涂层刀具的发展趋势。对可用于硬质合金涂层的三种PVD技术、涂层的组织结构特征、性能进行了评述,同时与未涂屡、CVD(化学气相沉积)涂层作了比较。
张学华
程世德
关键词:
PVD
CVD
耐磨涂层
硬质合金
大面积热反射薄膜材料的制备
1996年
大面积热反射薄膜材料的制备梁厚蕴娄朝刚张学华闫宝明(北京有色金属研究总院100088)关键词:磁控溅射热反射薄膜材料薄膜材料以其特有的物理、化学性能应用在材料改性、微电子学、建筑材料以及装饰、装璜等方面。其中,在玻璃上制备热反射薄膜材料在现代建筑上用...
梁厚蕴
娄朝刚
张学华
闫宝明
关键词:
磁控溅射
热反射
带涂层的挤压工模具及其制造方法
本发明提出了一种适合热挤压管材用的带涂层的工模具及其制造工艺,设计的工模具由基材,基材上气相沉积的中间层及中间层上的耐磨涂层组成,中间层为高氮的氮化钛层,厚度为0-1微米。采用物理气相沉积工艺分别在基材上进行沉积。通过控...
张学华
王裕昌
石东奇
程世德
王东辉
文献传递
钛在离子镀过程中的蒸发特征
张学华
邹鸿
周国治
关键词:
钛
离子镀
蒸发
涂层
精密Nd-Fe-B永磁体的HCD法防蚀涂层
1989年
本文介绍了用HCD方法在精密Nd—Fe—B永磁体表面沉积耐高温高压水蒸气腐蚀涂层技术,并研究了涂层和基底近界面处的某些成分和结构特征。
张学华
王东辉
潘树明
李东培
关键词:
永磁体
表面处理
永磁材料
反应磁控溅射TiN涂层的工艺参数反涂层特征
应磁控溅射技术在硬质合金表面沉积TiN涂层,最高显微硬度达到4000Kgf/mm以上。通过多因素多水平正交设计实验研究了工艺参数与显微硬度反晶体学取向间关系,并对不同硬质合金的TiN涂层作了比较。用Auger扫描显微探...
张学华
程世德
关键词:
涂层
显微硬度
电子显微镜分析
断口检查
溅射
磁控溅射
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