余忠
- 作品数:250 被引量:334H指数:12
- 供职机构:电子科技大学更多>>
- 发文基金:国防科技技术预先研究基金四川省科技攻关计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:电气工程一般工业技术电子电信理学更多>>
- La-Co取代对M型钡铁氧体微观结构和磁性能的影响
- 邬传健余忠孙科蒋晓娜郭荣迪许志勇兰中文
- ZnO对锰锌铁氧体磁性能温度特性的影响被引量:5
- 2009年
- 采用氧化物陶瓷工艺制备MnZn功率铁氧体,通过在不同温度下对铁氧体磁性能的测试,研究了ZnO含量对MnZn功率铁氧体磁性能温度特性的影响。结果表明,MnZn功率铁氧体室温下的起始磁导率和饱和磁感应强度随ZnO含量的增加呈先升高后下降的趋势,当w(ZnO)=12%时,起始磁导率和饱和磁感应强度达到最大值。同时,ZnO含量增加,起始磁导率-温度(μi-T)曲线Ⅱ峰所对应的温度点向低温移动,居里温度则一直降低。在100kHz、200mT条件下,随着ZnO含量的增加,常温下铁氧体的损耗先减小后增大,且损耗最低点温度也逐渐降低,并对应着μi-T曲线的Ⅱ峰位置。
- 李乐中兰中文余忠孙科许志勇姬海宁
- ZnFe<Sub>2</Sub>O<Sub>4</Sub>铁氧体薄膜制备方法
- ZnFe<Sub>2</Sub>O<Sub>4</Sub>铁氧体薄膜制备方法,属于电子材料技术领域。本发明包括下述步骤:1)ZnFe<Sub>2</Sub>O<Sub>4</Sub>铁氧体靶材的制备:采用氧化物陶瓷工艺,...
- 孙科余忠李金龙蒋晓娜兰中文
- 文献传递
- 移相器用低损耗LiZn铁氧体材料及制备方法
- 移相器用低损耗LiZn铁氧体材料,涉及铁氧体材料制备技术领域。本发明由主料、添加剂和粘合剂构成,以Fe<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>、ZnO、Mn<Sub>3</Sub>O<Sub>4</Sub>、L...
- 蒋晓娜兰中文余忠孙科姬海宁刘培元庄亚明
- 文献传递
- 高剩磁比的U型六角铁氧体材料及制备方法
- 一种高剩磁比的U型六角铁氧体材料及其制备方法,属于铁氧体材料制备技术领域。包括主料和掺杂剂,主料:19.2~20.7wt%BaCO<Sub>3</Sub>、0.2~1.3wt%La<Sub>2</Sub>O<Sub>3<...
- 蒋晓娜焦斌邬传健余忠孙科兰中文
- 文献传递
- 宽温宽频MnZn功率铁氧体材料及制备方法
- 宽温宽频MnZn功率铁氧体材料,涉及铁氧体材料制备技术领域。本发明的宽温宽频MnZn功率铁氧体材料包括主成分和添加剂,其特征在于,所述主成分包括51.5~53.0mol%Fe<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Su...
- 余忠易耀华王宏邬传健窦海之孙科杨仕机兰中文蒋晓娜余勇
- 宽温高B<Sub>s</Sub> MnZn软磁铁氧体材料及制备方法
- 宽温高B<Sub>s</Sub> MnZn软磁铁氧体材料及制备方法,属于软磁铁氧体材料制备技术领域,本发明的铁氧体材料由主料和掺杂剂构成,其特征在于,主料的组分包括:58.0-62.0mol%Fe<Sub>2</Sub>...
- 余忠傅膑孙科蒋晓娜张凯刘培元兰中文周晓军
- 文献传递
- ZrO_2添加剂对MnZn功率铁氧体温度特性的影响被引量:2
- 2011年
- 采用氧化物陶瓷工艺制备MnZn功率铁氧体。通过对铁氧体微结构的表征及电、磁性能的测试,研究了ZrO2对MnZn功率铁氧体起始磁导率(iμ)和损耗(Pcv)温度特性的影响。结果表明,随着ZrO2添加量的增加,室温下MnZn功率铁氧体的iμ及电阻率均先增大后减小,损耗则先减小后增大;当w(ZrO2)=0.02%时,iμ和电阻率达到最大值,损耗最低。此外,铁氧体的iμ-T曲线Ⅱ峰及损耗最低点所对应的温度随着ZrO2掺杂量的增加向低温移动。当w(ZrO2)=0.02%时,MnZn功率铁氧体在25~120℃的宽温范围内保持较低损耗。
- 智彦军余忠姬海宁李乐中孙科兰中文
- 关键词:MNZN功率铁氧体电磁性能温度特性
- 较高磁导率宽温低损耗MnZn铁氧体材料及制备方法
- 较高磁导率宽温低损耗MnZn铁氧体材料,由主成分和添加剂组成,其中,主成分按摩尔百分比,以氧化物计算:51~54mol%Fe<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>,9~13mol%ZnO,0.1~0.7mol...
- 许志勇孙科余忠蒋晓娜兰中文
- 厚度对M型钡铁氧体薄膜结构及磁性能的影响被引量:1
- 2015年
- 采用射频(RF)磁控溅射法在蓝宝石基片上制备M型钡铁氧体(BaM)薄膜,研究了薄膜厚度对BaM铁氧体薄膜的结构及磁性能影响.结果显示,样品的衍射峰全部为BaM薄膜的(00l)衍射峰,表明样品都具有良好的c轴取向性.显微结构分析结果表明,在膜厚为40~90nm范围内,薄膜样品表面主要为c轴取向的片状晶粒,未出现c轴随机取向的针状晶粒;当样品厚度增加至140nm时,出现了较明显的针状晶粒;随着薄膜厚度进一步增加到190nm时,样品表面出现了大量c轴随机取向的针状晶粒,且部分针状晶粒长度达到了μm级.磁性能测试结果显示,随着薄膜厚度的增加,薄膜样品饱和磁化强度降低,垂直膜面方向矫顽力和剩磁比减小,膜厚40~90nm范围的薄膜在垂直膜面方向获得了最大剩磁比和矫顽力,表现出较好的磁晶各向异性.
- 郭辉莉杨艳柴治孙科李强余忠蒋晓娜兰中文
- 关键词:射频磁控溅射薄膜厚度磁性能