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陈正国

作品数：3 被引量：5H指数：1
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇电机
  • 1篇电机发热
  • 1篇调制
  • 1篇调制器
  • 1篇掩模
  • 1篇液晶
  • 1篇射线
  • 1篇铁电液晶
  • 1篇热辐射
  • 1篇温度
  • 1篇稳定性
  • 1篇进给
  • 1篇空间光调制器
  • 1篇工件台
  • 1篇光调制器
  • 1篇光刻机
  • 1篇光寻址空间光...
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光刻

机构

  • 3篇中国科学院

作者

  • 3篇陈正国
  • 2篇张秉华
  • 1篇杨宗辉
  • 1篇杨忠

传媒

  • 2篇光电工程
  • 1篇光学工程

年份

  • 1篇1994
  • 1篇1992
  • 1篇1989
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
同步辐射X射线光刻机中电机发热对进给工件台定位测量的影响
1992年
本文针对X射线光刻机联调中发现的工件台定位测量漂移现象进行了实验分析和理论计算,证实电机发热是导致工件台温升和定位漂移的主要因素。这种现象在微细加工光刻机中是普遍存在的,可以通过合理的结构设计和必要的措施减少热漂移,以满足微细加工的要求。
杨宗辉陈正国
关键词：光刻机温度稳定性
同步辐射X射线光刻中热辐射引起掩模畸变的研究
1989年
在同步辐射X射线光刻中,由于掩模的初始张应力和掩膜的非均匀受热将使掩模产生热畸变。本文基于BEPC(北京正负电子对撞机)的运行参数和光刻机系统,建立了掩模受热畸变研究的二维动态模型,对同步辐射X射线光刻中热辐射引起的掩模畸变进行了研究。这种研究方法对其他同步辐射光源和等离子脉冲X射线作用下的掩模畸变研究都是普遍适用的。
陈正国张秉华
关键词：光刻X射线热辐射掩模
铁电液晶光寻址空间光调制器特性测试与分析被引量：5
1994年
通过实验对一只美国某大学最新研制的新型高速空间光调制器──氢键非晶硅铁电液晶（ａ－Ｓｉ：Ｈ／ｐｉｎ／ＦＬＣ）光寻址空间光调制器（ＯＡＳＬＭ）的几个关键性能参数进行了测试并分析讨论。结果，此器件分辨率达４０ｌｐ／ｍｍ，对比度为２０∶１，响应上升时间为３．２ｍｓ，响应下降时间为２．６ｍｓ，光学灵敏度为５ｐＪ（写入光源λ＝６３３ｎｍ）。这种器件所表现出的高速、高分辨率和低功耗特性使之在光计算和光学信息处理领域中具有很大的应用潜力。
杨忠陈正国张秉华
关键词：空间光调制器调制器铁电液晶
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