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杨宗辉

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电机
  • 1篇电机发热
  • 1篇温度
  • 1篇稳定性
  • 1篇进给
  • 1篇工件台
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻机

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇杨宗辉
  • 1篇陈正国

传媒

  • 1篇光电工程

年份

  • 1篇1992
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
同步辐射X射线光刻机中电机发热对进给工件台定位测量的影响
1992年
本文针对X射线光刻机联调中发现的工件台定位测量漂移现象进行了实验分析和理论计算,证实电机发热是导致工件台温升和定位漂移的主要因素。这种现象在微细加工光刻机中是普遍存在的,可以通过合理的结构设计和必要的措施减少热漂移,以满足微细加工的要求。
杨宗辉陈正国
关键词：光刻机温度稳定性
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共1页<1>
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