李艳琴
- 作品数:5 被引量:16H指数:2
- 供职机构:大连理工大学更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:理学一般工业技术电子电信更多>>
- 大气压介质阻挡放电制备ε-Fe3N磁性液体及其特性研究
- 由于氮化铁磁性液体饱和磁化强度较高,且相对稳定,自1992年Nakatani等人宣布采用气相-液相法成功研制氮化铁磁性液体后,开始了氮化铁磁性液体研究的热潮。氮化铁磁性液体主要制备方法有气相-液相法和等离子体CVD法。气...
- 李艳琴
- 关键词:大气压介质阻挡放电放电参数
- 文献传递
- 微波ECR等离子体增强磁控溅射制备SiNx薄膜及其性能分析被引量:12
- 2006年
- 利用微波ECR磁控反应溅射法在室温下制备无氢SiNx薄膜.通过傅里叶红外光谱、X射线电子谱、膜厚仪、纳米硬度仪、原子力显微镜等分析手段,分析了N2流量、Si靶溅射功率等实验参数对SiNx薄膜结构、化学配比以及机械性质的影响.结果表明,SiNx薄膜中Si-N结构、化学配比及机械性质与等离子体中的Si元素含量关系密切,随着N2流量的增加或者Si靶溅射功率的降低,等离子体中的Si元素含量降低,SiNx薄膜结构、化学配比及硬度发生变化,红外光谱发生偏移,硬度下降,沉积速率降低.
- 丁万昱徐军李艳琴朴勇高鹏邓新绿董闯
- 关键词:SINX磁控溅射
- 等离子体中Si原子相对密度对SiNx薄膜结构、性能的影响
- 本试验利用微波ECR增强非平衡磁控溅射方发制备不同结构、性能的SiNx薄膜,在实验过程中利用发射光谱法(OEs)对等离子体中Si原子的相对密度进行检测,并利用傅立叶变换红外光谱(FT-IR)、X光电子能谱(XPS)等方法...
- 丁万昱徐军李艳琴高鹏朴勇邓新绿董闯
- 关键词:磁控溅射发射光谱X光电子能谱
- 文献传递
- SiN<,x>硬盘保护膜的制备及其性能表征
- 本文采用微波ECR等离子体增强非平衡磁控反应溅射法制备了SiNx薄膜,系统的研究了SiNx薄膜的结构和性能。
利用傅立叶变换红外吸收光谱和X射线光电子能谱分析了薄膜的结构和组分;使用摩擦磨损仪测试了薄膜的摩擦学...
- 李艳琴
- 关键词:氮化硅薄膜磁控反应溅射
- 文献传递
- 超薄磁盘保护膜的制备技术被引量:3
- 2005年
- 类金刚石薄膜和氮化硅薄膜都是性能很好的绝缘材料,可以用于对磁盘进行保护,在本文中主要讨论了它们各自的制备方法。随着巨磁阻读写磁头(g ian tm agneto-res istive heads)技术的引入,磁盘的存储密度以每年100%的速度在增加,这就要求磁盘保护膜的厚度要尽量的小,所以对制备方法有一定的要求。对类金刚石磁盘保护膜,可以使用等离子体磁控溅射沉积、磁过滤阴极弧沉积、等离子体化学气相沉积来制备;对氮化硅磁盘保护膜,可以使用射频反应溅射沉积来制备。
- 李艳琴丁万昱邓新绿董闯徐军陈小猛
- 关键词:类金刚石氮化硅