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崔健磊

作品数:7 被引量:18H指数:3
供职机构:武汉理工大学材料科学与工程学院光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
相关领域:电子电信机械工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程

主题

  • 4篇激光
  • 3篇微加工
  • 2篇深紫外
  • 2篇深紫外激光
  • 2篇神经网
  • 2篇神经网络
  • 2篇紫外激光
  • 2篇刻蚀
  • 1篇在线检测
  • 1篇石英玻璃
  • 1篇石英光纤
  • 1篇曲面
  • 1篇自动编程
  • 1篇自动化
  • 1篇自动化编程
  • 1篇微加工工艺
  • 1篇微器件
  • 1篇基于神经网络
  • 1篇激光技术
  • 1篇激光微加工

机构

  • 7篇武汉理工大学

作者

  • 7篇崔健磊
  • 6篇戴玉堂
  • 5篇徐刚
  • 3篇白帆

传媒

  • 2篇应用激光
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇机械制造
  • 1篇中国激光
  • 1篇激光技术

年份

  • 1篇2011
  • 3篇2010
  • 3篇2009
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
基于神经网络的157nm激光微加工
2010年
157nm激光被视为光刻和微加工的有力工具之一,其加工的表面质量强烈依赖于激光参数。针对157nm微加工的特点,提出建立人工神经网络优化工艺参数的方法。分析与实验结果表明,利用优化的工艺参数进行激光微加工,其刻蚀质量得到明显提高。
崔健磊戴玉堂徐刚白帆
关键词:微加工神经网络
光纤三维微结构的157nm激光微刻蚀被引量:2
2010年
研究了157 nm激光刻蚀光纤三维微结构的基本性能。实验结果表明,石英材料的刻蚀率随脉冲数的增加呈下降的趋势,大光斑的刻蚀率高于同等条件下小光斑的刻蚀率。为提高微孔加工的质量,脉冲频率不宜高于25 Hz。
戴玉堂徐刚崔健磊
关键词:石英光纤微加工光纤传感器
透明材料的深紫外激光三维微刻蚀工艺被引量:6
2009年
57nm深紫外激光因其波长短且具有较高的光子能量,被视为较理想的微刻蚀工具之一。介绍了157nm深紫外激光的刻蚀机理,并利用先进的157nm激光微加工设备,进行了一系列微刻蚀实验。研究了激光工艺参数对石英玻璃的刻蚀效率和表面粗糙度的影响,进行了多种三维微结构的加工试验,证实了157nm激光微刻蚀工艺在制备MOEMS器件方面的实用性。
戴玉堂徐刚崔健磊
关键词:深紫外激光石英玻璃微器件
基于在线检测的曲面光学零件加工技术
2009年
提出了一种基于在线面形检测与补偿加工相结合的光学曲面零件的超精密加工方法,在线面形检测系统由空气静压浮动探针和光纤式激光干涉位移计构成。利用该加工方法实际加工了一个光学球面零件,其综合面形精度达到了P-V值0.41μm。
刘长明戴玉堂崔健磊
关键词:曲面光学零件在线检测
157nm激光微加工工艺及自动化编程
157nm深紫外激光是准分子激光中波长较短的激光,其光子能量大,可直接击断超硬陶瓷及半导体材料的化学结合键,产生的热作用极小。由于其波长极短,可获得更小的加工分辨率,非常适合制作精细二维图形和三维微结构,有望成为微器件加...
崔健磊
关键词:深紫外激光微加工工艺神经网络自动编程表面形貌
文献传递
157nm激光微加工过程中激光参量对刻蚀性能的影响被引量:3
2011年
为了研究157nm激光工艺参量对刻蚀性能的影响,采用157nm深紫外激光对两种宽禁带材料(石英玻璃和蓝宝石)进行微刻蚀试验,得到了理想的工艺参量范围,蓝宝石的刻蚀速率大约是石英玻璃的一半,并且蓝宝石的刻蚀表面要比石英玻璃粗糙得多。随着刻蚀深度的增加,光解生成物的脱出变得困难,从而导致刻蚀速率的降低。选用较高的扫描速率和较低脉冲频率的组合进行激光扫描刻蚀能有效地降低刻蚀面的粗糙度。结果表明,对非金属材料的刻蚀,激光的能量密度在材料刻蚀阈值的2.5倍~4倍时能获得较好的刻蚀效果。
戴玉堂崔健磊徐刚白帆
关键词:激光技术
GaN基半导体材料的157nm激光微刻蚀被引量:9
2009年
采用157 nm波长准分子激光,对LED-GaN半导体薄膜进行了刻蚀试验研究。探讨了GaN基半导体材料的基本刻蚀特性和刻蚀机理。结果表明,157 nm激光在能量密度高于2.5 J/cm2时,刻蚀速率可达50 nm/pulse以上。以低于16 Hz脉冲频率和高于0.25 mm/min的扫描速度进行激光直写刻蚀时,可以获得Ra30 nm以下的表面粗糙度。采用扫描刻蚀方法,可以加工出75°左右的刻蚀壁面。实验也证明157 nm激光在三维微结构加工方面具有较大的潜力。单光子吸收电离引起的光化学反应是157 nm激光刻蚀GaN基材料的主要机理。
戴玉堂徐刚崔健磊白帆
关键词:光学制造GAN基材料
共1页<1>
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