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吕宇皓

作品数:1 被引量:1H指数:1
供职机构:华东理工大学化工学院化学工程联合国家重点实验室更多>>
发文基金:上海市科委纳米专项基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇压印
  • 1篇紫外纳米压印
  • 1篇酯型
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米压印
  • 1篇含硅
  • 1篇表面能
  • 1篇丙烯
  • 1篇丙烯酸
  • 1篇丙烯酸酯
  • 1篇丙烯酸酯型

机构

  • 1篇华中科技大学
  • 1篇华东理工大学
  • 1篇武汉纺织大学

作者

  • 1篇陆馨
  • 1篇吕宇皓
  • 1篇辛忠
  • 1篇董会杰
  • 1篇王磊

传媒

  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2012
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
新型含硅丙烯酸酯型纳米压印胶的研究与应用被引量:1
2012年
纳米压印技术因其成本低、产量高的优点广受关注,而开发可适用于纳米压印的压印胶成为该工艺的关键。合成了一种硅含量高的单体三(三甲基硅氧基)甲基丙烯酰氧丙基硅烷(TRIS),制备了一种新型紫外纳米压印用含硅丙烯酸酯型压印胶,用四点弯曲实验机和接触角测试仪表征了压印胶与模板的黏附性能,研究了配方组成对模板黏附性能的影响,优化得到了抗黏附性能优异的配方。压印实验结果表明,该压印胶与模板分离时无粘连。AFM与SEM测试结果表明,压印胶上复制得到了线宽149 nm、周期298 nm、深宽比为1的纳米光栅图形,图形结构完整。
董会杰辛忠陆馨吕宇皓王磊
关键词:紫外纳米压印表面能
共1页<1>
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