闫少健
- 作品数：12 被引量：17H指数：3
- 供职机构：武汉大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：国际科技合作与交流专项项目国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学核科学技术文化科学更多>>
- CrTiAlN及CrTiAlN:Si纳米多层复合涂层的制备及力学性能研究
- 以金属Cr和AlTi合金为靶材料,在沉积过程中引入SiH气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CrTiAlN和CrTiAlSiN硬质涂层,用X射线衍射、透射电镜等方法研究了衬底偏压、N气分...
- 付酮程闫少健田灿鑫杨兵付德君
- 关键词：多弧离子镀显微硬度
- 文献传递
- CRALTIN及CRALTIN:SI纳米多层复合涂层的制备及力学性能研究
- 以金属CR和ALTI合金为靶材料,在沉积过程中引入SIH4气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CRALTIN和CRALTISIN硬质涂层.实验表明,衬底偏压和反应气体流量对膜层的机械性能...
- 付酮程闫少健田灿鑫杨兵黄志宏付德君
- 关键词：多弧离子镀显微硬度
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- CrAlTiN及CrAlTiSiN纳米多层复合涂层的制备及力学性能被引量：5
- 2013年
- 以金属Cr和AlTi合金为靶材料,在沉积过程中引入SiH4气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CrAlTiN和CrAlTiSiN硬质涂层。通过X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)分析涂层的组织和形貌,结果表明:衬底偏压和反应气体流量对膜层的力学性能有较大影响,在优化条件下得到CrAlTiN涂层的硬度为29GPa。且CrAlTiSiN涂层为CrSiN和AlTiSiN组成的纳米多层复合涂层,随着SiH4流量的增加,薄膜中的硅含量明显增加,在优化条件下,涂层的显微硬度达到37GPa,摩擦因数为0.58。刀具涂层检测试验表明,涂覆CrAlTiN涂层的铣刀使用寿命可提高3倍,而CrAlTiSiN涂层较CrAlTiN涂层还会进一步提高刀具使用寿命。
- 付酮程闫少健田灿鑫杨兵黄志宏付德君
- 关键词：多弧离子镀纳米多层膜显微硬度
- 一种具有MoN/Cr/CrN/Cr纳米复合超厚涂层的活塞环及其制备方法
- 一种具有MoN/Cr/CrN/Cr纳米复合超厚涂层的活塞环包括活塞环基体及其表面附着的MoN/Cr/CrN/Cr纳米复合超厚涂层；所述MoN/Cr/CrN/Cr纳米复合超厚涂层包括冶金层、金属层、应力梯度层和工作层。其制...
- 闫少健杨兵万强付德君
- 文献传递
- 加速器联机装置研究
- 本文介绍武汉大学加速器联机装置,包括加速器-电镜联机、团簇负离子和RBS/PIXE/C装置,由串列加速器、离子注入机和透射电镜构成,离子束沿水平方向传输,与透射电镜的电子束垂直,与电镜样品的夹角为0～52°可调,实验观测...
- 王泽松王世旭张早娣何俊田灿鑫闫少健刘传胜郭立平付德君
- 关键词：DAMAGE
- 文献传递
- 碳含量对TiCN涂层的结构和力学性能的影响被引量：2
- 2015年
- 采用多弧离子镀技术,以N2为氮源,C2H2为碳源,Ti为靶源,在单晶硅和硬质合金衬底上沉积Ti CN硬质涂层,系统地研究制备工艺对Ti CN涂层的结构、形貌、硬度及摩擦学性能的影响.用X射线衍射、原子力显微镜和扫描电子显微镜测量了涂层的形貌和晶体结构;用HX-1000显微硬度计和HH-3000划痕仪测量了涂层的硬度和结合强度.研究结果表明:Ti CN和Ti N涂层同为单相的Na Cl型面心立方结构;在优化条件下制备的Ti CN涂层的最高硬度为38.5 GPa,远高于Ti N涂层的27.9 GPa硬度;Ti CN涂层与硬质合金的膜基结合力超过70 N.
- 李银成闫少健韩滨王微付德君
- 关键词：多弧离子镀TICN显微硬度结合力
- 多弧离子镀制备TiN/TiBN纳米复合涂层的结构和性能被引量：3
- 2014年
- 为了满足复合材料高速切削加工的需要,用金属Ti靶和纯TiB2靶作为靶材料,在N2气氛下用多弧离子镀方法制备了TiN/TiBN纳米复合涂层。利用X射线衍射仪（XRD）、X射线光电子能谱仪（XPS）、扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）分析涂层的组织结构、成分和表面形貌;利用显微硬度计、划痕仪和球盘摩擦仪分析调制周期对涂层力学性能的影响。结果表明：TiN/TiBN纳米复合涂层的调制周期范围为5.5-21nm,主要成分为晶相TiN、非晶BN和TiB2;调制周期对涂层的力学性能有较大的影响,随着调制周期的减小,硬度增加,调制周期最小时最大硬度达到29GPa;最大膜基结合力为88N,且所有样品均表现出较高的膜基结合力。随着转速的增大,摩擦因数与表面粗糙度两者表现出相同的变化趋势,摩擦因数最大值为0.31,其低摩擦因数与自润滑的BN相的存在有关。调制周期减少,界面积增加,TiN/TiBN纳米复合涂层的力学性能增强。
- 刘丹韩滨闫少健柯贤文付德君王浪平
- 关键词：多弧离子镀
- 离子源辅助中频磁控溅射法在活塞环表面沉积CrN涂层被引量：4
- 2010年
- 用热丝弧光放电离子源辅助的中频磁控溅射装置在单晶硅和渗氮钢质活塞环上沉积CrN涂层,并用X射线衍射、原子力显微镜和电子显微镜测量涂层的微结构,用显微硬度计和球盘式摩擦磨损仪测量涂层的硬度和摩擦性能。与常规的中频磁控溅射法相比,采用离子源辅助磁控溅射法制备CrN涂层的沉积速率提高30%以上,达到4.0μm/h。在靶基距为90 mm,氮气分压比为0.14的优化条件下,沉积在活塞环上的CrN涂层结构为CrN(200)取向,涂层厚度达到25μm,硬度高达17.85 GPa,平均摩擦因数为0.48。
- 闫少健王玲玲林宝珠刘传胜田灿鑫王泽松付德君
- 关键词：中频磁控溅射CRN离子源显微硬度
- 多弧离子镀制备的CrTiAlN涂层的结构和摩擦学性能被引量：4
- 2010年
- 用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积CrTiAlN硬质涂层,用X射线衍射、X射线光电子能谱和扫描电镜系统研究衬底偏压和N2气分压对CrTiAlN涂层结构、形貌和摩擦学性能的影响。结果表明CrTiAlN涂层为面心立方CrN和TiAlN的复合涂层。衬底偏压、N2气分压对涂层的表面形貌、显微硬度和抗磨损性能有较大影响,在氮气分压为5.0 Pa、衬底偏压为-200 V的优化条件下,得到表面光滑的CrTiAlN涂层,涂层硬度为29 GPa,涂层对氮化硅摩擦副的摩擦因数为0.37,沉积速率3.8μm/h。
- 刘传胜闫少健田灿鑫杨兵付德君
- 关键词：多弧离子镀显微硬度表面形貌
- CrTiAlN及CrTiAlN:Si纳米多层复合涂层的制备及力学性能研究
- 以金属Cr和A1Ti合金为靶材料,在沉积过程中引入SiH4气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CrTiAlN和CrTiAlSiN硬质涂层,用X射线衍射、透射电镜等方法研究了衬底偏压、N2...
- 付酮程闫少健田灿鑫杨兵付德君
- 关键词：MICROHARDNESS
- 文献传递
