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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇等离子清洗
  • 1篇电路
  • 1篇影响因素
  • 1篇射频
  • 1篇微波等离子体
  • 1篇系统设计
  • 1篇集成电路
  • 1篇封装
  • 1篇封装工艺

机构

  • 2篇中国电子科技...

作者

  • 2篇师筱娜
  • 2篇柳国光
  • 1篇廖鑫
  • 1篇苗俊芳
  • 1篇胡文平

传媒

  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇国防制造技术

年份

  • 2篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
射频等离子清洗系统设计被引量:2
2012年
等离子清洗具有优越的环境特性和去污能力,但缓慢的清洗速度限制了等离子清洗技术的应用,近期等离子领域的研究及实践表明通过控制等离子体的生成条件和工艺气体可以显著提高等离子清洗的去污速度,从而为扩展等离子技术在工业中的应用提供可能。介绍了等离子清洗的原理和方法,分析了影响等离子清洗效果的因素,并完成了射频等离子清洗系统的设计。
柳国光苗俊芳胡文平师筱娜
关键词:等离子清洗影响因素射频
微波等离子清洗技术及应用被引量:7
2012年
集成电路封装过程中,会产生各类污染物,包括氟、镍、光刻胶、环氧树脂和氧化物等,其存在会降低产品质量。微波等离子清洗技术作为一种精密干法清洗技术,可以有效去除这些污染物,改善材料表面性能,增加材料表面能量。本文介绍了微波频等离子清洗原理、设备及其应用,并对清洗前后的效果做了对比。
师筱娜柳国光廖鑫
关键词:等离子清洗微波等离子体集成电路封装工艺
共1页<1>
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