朱伟忠
- 作品数：5 被引量：11H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海应用物理研究所更多>>
- 发文基金：国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 内衬弹簧冷却槽晶体的热缓释实验研究被引量：1
- 2007年
- 介绍了同步辐射光束线单色仪晶体内衬弹簧圆形冷却槽改善换热能力的实验研究,并给出实验结果。在热负载和其它冷却条件相同的情况下,由于冷却槽内衬弹簧增大了固液间换热系数,从而增大了晶体的热承受能力,减小了晶体的热形变。
- 刘学朱毅朱伟忠罗宏瀚王纳秀
- 基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计被引量：2
- 2008年
- 基于严格的矢量耦合波方法,对13.4nm(92.5eV)软X射线正入射于周期140nm的Si光栅和SiO2光栅的一级衍射效率进行了模拟计算,结果表明SiO2光栅的最大一级衍射效率远比Si光栅高,同时也比目前用于13.4nm软X射线干涉光刻的Cr/Si3N4复合光栅高。本文提出用高级硅刻蚀工艺和硅氧化工艺制作深高宽比纳米级SiO2光栅的新方法,可以解决直接刻蚀制作此光栅难度大的问题,适用于制作上海光源(SSRF)软X射线干涉光刻分束光栅。
- 朱伟忠吴衍青史沛熊郭智邰仁忠徐洪杰
- 关键词：衍射效率
- 13．4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计被引量：4
- 2008年
- 基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作用对光栅衍射起重要影响,其中非金属材料Si3N4比金属材料Cr、Au的相位作用更明显。最后优化得到了用Si(或Si3N4)做衬底的Si3N4、Cr、Au光栅,分析结果显示,其一级衍射效率优于目前用于13.4 nm软X射线干涉光刻的Cr、Si3N4复合光栅。
- 朱伟忠吴衍青陈敏王纳秀邰仁忠徐洪杰
- 关键词：干涉光刻复折射率衍射效率
- 大面积10000线/毫米软X射线金属型透射光栅的设计、制作与检测被引量：5
- 2008年
- 基于严格的矢量耦合波理论,优化设计了用于13.4 nm软X射线干涉光刻的透射型双光栅掩模版.采用电子束光刻技术,在国内首次成功制作了周期为100 nm的大面积金属型透射光栅.光栅面积为1.5 mm×1.5 mm,Cr浮雕厚度为50 nm,Gap/period为0.6,衬底Si3N4厚度为100 nm.此光栅将用于上海光源软X射线干涉光刻实验站.利用其1级衍射光和2级衍射光将可以经济高效地制作周期为50和25 nm的大面积周期结构.最后,测量了该光栅对波长为13.4 nm同步辐射光的衍射光强度,并且推算得出该光栅的1级和2级衍射效率分别为4.41%和0.49%,与理论设计值比较符合.实验结果与理论模拟结果的对比表明该光栅侧壁陡直,Gap/period的控制也与设计值符合.
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- 关键词：衍射效率
- 软X射线干涉光刻相关技术研究
- 周期性的纳米级线、点、孔等结构在许多方面都有重要的应用价值。例如探究下一代的计算技术及高密度数据存储技术的量子点阵、磁点阵。周期性的表面结构已经被用来进行半导体外延生长。模板表面结构的共聚物导向自组装及胶体自组装生长成二...
- 朱伟忠
- 关键词：电子束光刻衍射效率
