吴衍青
- 作品数：41 被引量：59H指数：4
- 供职机构：中国科学院上海应用物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家杰出青年科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信核科学技术更多>>
- Matlab/VC++/Access组合编程方法及其应用被引量：19
- 2001年
- 提出了一种Ｍａｔｌａｂ／ＶＣ＋＋／Ａｃｃｅｓｓ。组合编程的方法，并阐述了将３种编程环境的功能优势与应用系统无缝集程的方式．最后，在惯性约束核聚变实验数据处理及管理系统的具体事例中详细说明实现步骤．
- 刘静吴衍青汤宇晖
- 关键词：编程方法MATLABVC++ACCESS数学库
- p型SnO薄膜及其p-n结二极管的制备方法
- 本发明提供一种p型SnO薄膜的制备方法，以SnO陶瓷靶为靶材，采用射频磁控溅射在石英衬底上原位沉积形成p型SnO薄膜，其中，衬底温度为150-300℃，溅射功率为50-150W，工作气体为Ar气，气压为0.5-2.0Pa...
- 杨铁莹赵俊李晓龙高兴宇薛超凡吴衍青邰仁忠
- 文献传递
- 时频分布技术在激光与等离子体相互作用粒子模拟诊断中的应用
- 2000年
- 在对超短超强激光与等离子体相互作用进行粒子模拟诊断的研究中 ,输出量普遍为时间或空间上的非平稳信号。将时频分布技术引入粒子模拟结果的诊断 ,指出用时频分布技术等现代信号处理技术诊断模拟结果中的非平稳信号具有重要意义。作为实例 ,考察了用线性啁啾激光打靶条件下 ,包含 nc/ 4 (nc为等离子体临界密度 )的非均匀等离子体区域中的受激拉曼散射的演化 ,并用时频分布技术得到了清晰的物理图像。
- 吴衍青刘静韩申生
- 关键词：时频分布激光等离子体
- 一种同步辐射软X射线无损实时位置分辨电离室
- 本实用新型提供一种同步辐射软X射线无损实时位置分辨电离室，包括密封壳体以及在所述密封壳体中上下平行对置的高压电极板和收集电极板，其特征在于，所述收集电极板呈矩形，并由两个呈直角三角形的微通道板模块拼接而成。本实用新型通过...
- 薛超凡吴衍青王勇邰仁忠
- 文献传递
- 粒子云-点扩散函数在X射线闪烁体成像中的应用被引量：1
- 2018年
- 针对X射线闪烁体成像系统图像复原过程中点扩函数难以通过实验精确测量又难以通过理论简单构建,导致图像信噪比不高的问题。粒子云点扩散函数模型利用粒子云分配方法,分解系统成像的各种退化因素,然后将所有退化图像卷积;同时配合目标信息反馈,筛选并确定模型参数,最终获得系统的粒子云点扩散函数。由图像复原效果可知,相比实验获得的系统点扩散函数,粒子云点扩散函数模型可以更有效的复原图像;其信噪比提高约15 dB,远远高于实验测量点扩散函数的复原结果。而且构建相对简单,避免了大量复杂的光学原理分析,具有很强的实用性和适用性。
- 赵文聪吴衍青夏慧娟张磊
- 关键词：X射线点扩散函数
- 一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统
- 本发明涉及一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统，其包括：依次排列的波荡器光源、多个反射聚焦镜、掩膜光栅、具有光阑孔的级选光阑、具有观察孔的样品台、铝膜以及CCD探测器。本发明通过在掩膜光栅与样品之间增设级选光阑，并通过C...
- 薛超凡吴衍青刘海岗杨树敏王连升赵俊邰仁忠
- 一种光栅单色器的优化方法
- 本发明涉及一种光栅单色器的优化方法，其包括以下步骤：步骤S0，提供一光源、一前置聚焦镜、一平面镜以及一变线距光栅；步骤S1，使所述光源发出的光线经过所述前置聚焦镜汇聚后入射至所述平面镜，再由所述平面镜反射至所述变线距光栅...
- 薛超凡吴衍青王勇邰仁忠
- 文献传递
- 基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计被引量：2
- 2008年
- 基于严格的矢量耦合波方法,对13.4nm(92.5eV)软X射线正入射于周期140nm的Si光栅和SiO2光栅的一级衍射效率进行了模拟计算,结果表明SiO2光栅的最大一级衍射效率远比Si光栅高,同时也比目前用于13.4nm软X射线干涉光刻的Cr/Si3N4复合光栅高。本文提出用高级硅刻蚀工艺和硅氧化工艺制作深高宽比纳米级SiO2光栅的新方法,可以解决直接刻蚀制作此光栅难度大的问题,适用于制作上海光源(SSRF)软X射线干涉光刻分束光栅。
- 朱伟忠吴衍青史沛熊郭智邰仁忠徐洪杰
- 关键词：衍射效率
- 啁啾展宽激光脉冲的有限带宽效应对参量不稳定性及超热电子的抑制被引量：1
- 1999年
- 若驱动激光的相干时间小于不稳定性增长时间，则有可能直接控制参量不稳定性。研究了有限带宽的啁啾展宽脉冲对等离子体冕区参量不稳定性及超热电子的抑制效果，给出解析分析及用 Ｐ Ｉ Ｃ程序数值模拟结果，考察了电子—离子碰撞对超热电子的影响。
- 吴衍青韩申生
- 关键词：激光脉冲参量不稳定性超热电子
- 一种原位光通量监测及曝光剂量补偿方法
- 本发明涉及一种原位光通量监测及曝光剂量补偿方法，该方法通过采用光电二极管在光刻实验开始前对经过出射狭缝进入真空腔体内的主光束的光通量进行测量，并在进行实验曝光时对经过出射狭缝进入真空腔体内的强度与主光束成正比的杂散光的光...
- 薛超凡胡纯刘平吴衍青王连升杨树敏赵俊郑丽芳邰仁忠
- 文献传递
