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孔岑
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52
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供职机构:
中国电子科技集团公司第五十五研究所
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相关领域:
电子电信
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合作作者
周建军
中国电子科技集团公司第五十五研...
孔月婵
中国电子科技集团公司第五十五研...
陈堂胜
中国电子科技集团公司第五十五研...
郁鑫鑫
中国电子科技集团公司第五十五研...
张凯
中国电子科技集团公司第五十五研...
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一种GaN HEMT上低温欧姆接触的制备方法
本发明涉及的是一种基于微电子工艺,一种GaN HEMT上低温欧姆接触的制备方法,具体实施步骤包括:(1)生长介质层;(2)制作欧姆接触窗口;(3)制作欧姆接触通孔;(4)制作扩散层;(5)生长介质层;(6)扩散;(7)刻...
孔岑
周建军
孔月婵
郁鑫鑫
郁元卫
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一种基于矢网测试的氮化镓器件载流子浓度分布分析方法
本发明涉及一种基于矢网测试的氮化镓器件载流子浓度分布分析方法,通过矢网测试器件在不同偏压下的散射参数,通过特定截止等特定状态下数据对器件去嵌,表征出器件本征散射参数,提取低频单频点状态下栅源电容及电压变化规律,进而提取出...
陆海燕
孔岑
周建军
陈堂胜
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一种基于二次氧化法的GaN E/D集成器件制备方法
本发明公开了一种基于二次氧化法的GaN E/D集成器件的制备方法,基于传统耗尽型AlGaN(AlInN)/AlN/GaN异质结构,采用氧化方法精确控制势垒层厚度,一次氧化使势垒层减薄到原来厚度的一半,沟道中仍保持高浓度二...
孔月婵
周建军
孔岑
文献传递
一种GaN基肖特基二极管及其制备方法
本发明涉及一种GaN基肖特基二极管及其制备方法,属于半导体器件技术领域。GaN基肖特基二极管包括衬底、缓冲层、沟道层、势垒层、p‑GaN帽层、绝缘介质、电极以及钝化层。所述电极中阴极是在势垒层上沉积低功函数金属并退火而形...
王登贵
周建军
陈韬
孔岑
孔月婵
陈堂胜
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GaN高电子迁移率晶体管复合介质绝缘栅的制造方法
本发明公开了一种GaN高电子迁移率晶体管复合介质绝缘栅的制造方法,其通过热氧化方法将AlGaN表面氧化为氧化铝,能够有效降低介质与半导体之间的界面态。通过选择合适的钛金属,提高了HEMT器件的跨导。整个制造工艺与现有Ga...
孔岑
周建军
孔月婵
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一种GaN HEMT上低温欧姆接触的制备方法
本发明涉及的是一种基于微电子工艺,一种GaN HEMT上低温欧姆接触的制备方法,具体实施步骤包括:(1)生长介质层;(2)制作欧姆接触窗口;(3)制作欧姆接触通孔;(4)制作扩散层;(5)生长介质层;(6)扩散;(7)刻...
孔岑
周建军
孔月婵
郁鑫鑫
郁元卫
一种软磁磁芯螺旋微电感的制作方法
本发明涉及的是一种软磁磁芯螺旋微电感的制作方法,其特征在于集成NiFe-AlO<Sub>x</Sub>软磁磁芯螺旋电感,工艺步骤包括1)制备电感下层金属;2)制备第一层苯并环丁烯BCB介质层;3)制备NiFe-AlO<S...
孔岑
周建军
李辉
陈效建
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一种抗辐照GaN基高电子迁移率晶体管及其制备方法
本发明公开了一种抗辐照GaN基高电子迁移率晶体管及其制备方法,晶体管结构包含衬底、缓冲层、沟道层、势垒层、源极、漏极、栅极、第一钝化层和第二钝化层。本发明针对常规GaN HEMT经过高能粒子辐照后器件性能退化明显的问题,...
王登贵
周建军
孔岑
张凯
戚永乐
陈堂胜
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一种基于再生长技术降低GaN HEMT器件欧姆接触电阻的方法及GaN HEMT器件
本发明涉及的是一种基于微电子工艺,一种基于再生长技术降低GaN HEMT器件欧姆接触电阻的方法,具体实施步骤包括(1)生长高阻缓冲层/超晶格结构;(2)生长SiO<Sub>2</Sub>;(3)定义欧姆接触区域;(4)制...
周建军
孔月婵
孔岑
郁鑫鑫
张凯
郁元卫
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一种基于p-GaN结构的三维增强型高电子迁移率晶体管及其制造方法
本发明涉及一种基于p‑GaN结构的三维增强型高电子迁移率晶体管及其制造方法,其结构自下而上依次包括衬底、缓冲层、GaN基三维鳍片、栅极、源极和漏极,其特征在于,还包括内置高阻GaN区,它位于所述栅极的下方与GaN基三维鳍...
张凯
朱广润
孔岑
周建军
陈堂胜
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