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严清峰

作品数:23 被引量:53H指数:5
供职机构:中国科学院半导体研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信文化科学更多>>

文献类型

  • 16篇期刊文章
  • 4篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 21篇电子电信
  • 1篇文化科学

主题

  • 14篇SOI
  • 10篇波导
  • 7篇光开关
  • 5篇多模
  • 5篇多模干涉
  • 5篇刻蚀
  • 5篇光学
  • 4篇电光
  • 4篇调制器
  • 4篇耦合器
  • 4篇集成光学
  • 4篇光波
  • 4篇光调制
  • 4篇光调制器
  • 3篇电光调制
  • 3篇电光调制器
  • 3篇电光开关
  • 3篇多模干涉耦合...
  • 2篇导光
  • 2篇英文

机构

  • 23篇中国科学院
  • 1篇山东大学

作者

  • 23篇严清峰
  • 20篇余金中
  • 7篇夏金松
  • 6篇陈少武
  • 3篇刘忠立
  • 3篇陈媛媛
  • 3篇魏红振
  • 2篇李晋闽
  • 2篇杜成孝
  • 2篇樊中朝
  • 2篇王军喜
  • 2篇王良臣
  • 2篇郑海洋
  • 2篇魏同波
  • 2篇吴奎
  • 2篇董鹏
  • 2篇张逸韵
  • 1篇房昌水
  • 1篇李艳萍
  • 1篇王小龙

传媒

  • 6篇Journa...
  • 2篇光电子.激光
  • 1篇光纤与电缆及...
  • 1篇光子学报
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇激光与红外
  • 1篇半导体光电
  • 1篇中国科学院研...
  • 1篇飞通光电子技...
  • 1篇光子技术
  • 1篇第十二届全国...
  • 1篇第十二届全国...
  • 1篇第十三届全国...
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2005
  • 2篇2004
  • 10篇2003
  • 5篇2002
  • 3篇2001
23 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
SOI波导弯曲损耗影响因素的分析
采用有效折射率方法EIM(Effective Index Method)和二维束传播算法(2D-BPM)对SOI(Silicon-on-insulator)波导弯曲损耗的几种影响因素进行了分析.通过模拟发现弯曲损耗随弯曲...
陈媛媛余金中严清峰陈少武
关键词:SOI弯曲波导弯曲损耗集成光学
文献传递
快速响应SOI马赫曾德热光调制器被引量:10
2002年
给出了 Y分支 MZI热光调制器的模型 ,实验研制了基于 SOI( silicon- on- insulator)的 MZI热光调制器 ,调制器的消光比为 - 16.5 d B,开关的上升时间为 10 μs,下降时间为 2 0 μs,相应的功耗为 0 .3
魏红振余金中夏金松严清峰刘忠立房昌水
关键词:集成光学调制器SOI热光开关
湿法腐蚀制备的SOI光波导(英文)
2003年
用化学湿法腐蚀的方法制作了SOI光波导 ,并且用三维波束传播方法分析和设计了单模波导和 1× 2 3dB多模干涉分束器 ,修正了有效折射率和导模传输方法的误差 .制作的器件具有低传输损耗 (- 1 37dB/cm)、低附加损耗 (- 2 2dB)、良好的均衡性 (0 3dB)等优良性能 .
王小龙严清峰刘敬伟陈少武余金中
关键词:SOI湿法腐蚀多模干涉单模波导
SOI电光开关中热光效应分析被引量:4
2003年
分析了 SOI(silicon- on- insulator) 2× 2电光开关工作时热光效应对等离子色散效应的影响。采用二维半导体器件模拟器 PISCES- 对器件进行了模块。结果表明 ,热光效应对等离子色散效应的影响与调制区长度密切相关 ,当调制区长度较短时 ,热光效应的影响不容忽视 ;当调制区长度大于 5 0 0μm时 ,这种影响可以忽略不计。
严清峰余金中
关键词:电光开关热光效应SOI
利用自组装小球制作用于光刻版的金属网格模板的方法
本发明公开了一种利用自组装小球在透明衬底上制作用于光刻版的金属网格模板的方法,包括如下步骤:选择表面平整的透明材料作为透明衬底;在透明衬底上铺上单层自组装密排小球;将单层自组装密排小球刻蚀拉开,形成非密排小球;在非密排小...
杜成孝董鹏郑海洋魏同波严清峰吴奎张逸韵王军喜李晋闽
反应离子刻蚀制作SOI脊形光波导
SOI(silicon-on-insulator)光波导是硅基光波导器件的基础上,也是实现其它有源器件无源器件以及光学器件交叉连接的基础.三维脊形光波导引入水平方向的折射率差,加强了波导对光场的限制,可以实现大截面尺寸单...
严清峰魏红振夏金松余金中
关键词:SOI反应离子刻蚀刻蚀速率
文献传递
光开关及其在WDM光网络中的应用被引量:5
2001年
介绍了光开关在WDM光网络中的应用情况,简述了光开关的发展概况并着重介绍了硅基SOI光开关的研究进展。
严清峰余金中夏金松
关键词:光开关波分复用光通信网
等离子色散效应在硅导波光学中的应用
硅的等离子色散效应反映了硅的折射率及吸收系数随硅中自由载流子(包括自由电子和自由空穴)浓度的变化.本文介绍了硅的等离子色散效应在硅导波光学中的应用.利用硅的等离子色散效应,可以制作重掺杂硅光波导、硅基电光调制器及电光开关...
严清峰余金中
关键词:导波光学电光调制器电光开关半导体材料
文献传递
SOI光波导开关研究进展被引量:2
2001年
SOI光波导是硅基光波导器件的基础 ,也是实现其它集成光学器件的基础。文章论述了 SOI材料、SOI光波导以及 SOI光波导开关的一些特性和研究进展。
严清峰余金中
关键词:SOI光开关
利用自组装小球制作用于光刻版的金属网格模板的方法
本发明公开了一种利用自组装小球在透明衬底上制作用于光刻版的金属网格模板的方法,包括如下步骤:选择表面平整的透明材料作为透明衬底;在透明衬底上铺上单层自组装密排小球;将单层自组装密排小球刻蚀拉开,形成非密排小球;在非密排小...
杜成孝董鹏郑海洋魏同波严清峰吴奎张逸韵王军喜李晋闽
文献传递
共3页<123>
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