张德恒
- 作品数：6 被引量：18H指数：3
- 供职机构：中南大学物理与电子学院更多>>
- 发文基金：湖南省自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学更多>>
- 氟化类金刚石薄膜的微观结构及性能研究
- 氟化类金刚石薄膜(FDLC)是基于传统类金刚石膜的基础上发展起来的一种改性材料，该膜具有许多比金刚石薄膜更加良好的性能，因此引起了人们的极大关注。深入研究掺氟量以及工艺条件改变对FDLC薄膜性能的影响有很重要的现实意义。...
- 张德恒
- 关键词：气相沉积微观结构
- 文献传递
- F-DLC疏水性能的研究被引量：3
- 2006年
- 用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法沉积氟化类金刚石(F-DLC)薄膜。俄歇电子能谱分析表明,制备的碳膜为典型的类金刚石结构。接触角测量仪测量了沉积在玻璃基底上的F-DLC薄膜的接触角,采用傅里叶红外分析了薄膜价键结构,原子力显微镜分析了薄膜表面粗糙度;结果表明,氟的掺入稳定了弱极化基团CF2的含量,同时使得薄膜表面平整,薄膜与水的浸润性变差,改善了薄膜疏水性能。研究表明,流量比、沉积温度、退火温度、沉积功率对接触角的影响是先增后减,这主要是由于CF2含量和薄膜表面粗糙度的变化造成的。
- 刘雄飞张德恒齐海兵
- 关键词：接触角
- FDLC薄膜的化学结构对光学性能的影响被引量：1
- 2007年
- 研究氟化类金刚石(FDLC)薄膜化学结构对光学性能的影响,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法在玻璃基底上沉积氟化类金刚石(FDLC)薄膜,用俄歇能谱、傅里叶红外光谱(FT IR)、紫外-可见光分光光度计(UV-V IS)对薄膜进行分析。分析结果表明:沉积薄膜是典型的类金刚石结构,薄膜中氟主要以C-F2键存在;随着沉积温度的提高,C-F2含量先增后减;随着F含量的增加,FDLC薄膜的sp3含量减少,sp2含量增加;光学带隙与sp2键含量密切相关,sp2含量越大,薄膜的光学带隙越小。
- 刘雄飞张德恒齐海兵
- 关键词：氟化类金刚石薄膜光学带隙沉积温度
- 一种基于DDS的2FSK调制器设计方案被引量：1
- 2006年
- 为了提高频率的分辨率和快速实现频率切换,采用A ltera公司的DSP Bu ilder开发软件和DDS技术,介绍了一种基于FPGA的2FSK调制器的软件设计过程。仿真结果表明:在频率切换处2FSK信号能满足设计要求,该方案简易可行。
- 齐海兵张德恒
- 关键词：直接数字合成器二进制频移键控FPGA
- 基于FPGA的数字滤波器的设计与实现被引量：8
- 2006年
- 提出了一种采用Altera公司开发的DSP Builder技术实现数字滤波器的设计方案。以一个16阶低通FIR数字滤波器,并采用状态机控制采样信号作为滤波器的输入信号,通过生成的.bsf文件设计系统的顶层电路,设计并完成了在联星科技的NC EDA 2000C实验箱上滤波器的软硬件仿真与验证。结果表明,电路工作正确可靠,能满足设计要求。
- 齐海兵刘雄飞张德恒
- 关键词：数字滤波器现场可编程门阵列DSP状态机
- 氟化类金刚石(F-DLC)薄膜的红外分析被引量：5
- 2007年
- 以CF4和CH4为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜,并进行了退火处理。红外分析表明,F-DLC薄膜中主要有C-Fx(x=1,2,3)、C-C、C-H2、C-H3和C=C化学键等。低功率下制备的薄膜主要由C-C、CF和CF2键构成,功率增加时,薄膜内C-C键含量相对增加;气体流量比R(R=CF4/[CF4+CH4])增大,薄膜内F的含量增加,C-C键相对减少;高温退火后,薄膜内部分F和几乎全部的H从膜内逸出,薄膜的稳定温度在300℃以上。低功率、高流量比下制备的薄膜,F含量相对较大,介电常数较低。
- 肖剑荣徐慧张德恒马松山
- 关键词：化学键傅里叶变换红外光谱
