谢冲
- 作品数：4 被引量：0H指数：0
- 供职机构：中国科学院力学研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 二阶速度滑移边界条件的评估
- <正> 为了扩展Navier-Stokes方程在微尺度气体流动中的应用范围,近年来引入了二阶速度滑移边界条件。了解二阶滑移速度边界条件的适用范围对于实际应用有重要的意义。本文利用基于动理论方法得到的微槽道气体流动的质量流...
- 谢冲樊菁
- 文献传递
- 微槽道气体流动测量数据的评估
- <正> 许多研究者仔细地测量了微槽道气体的质量流量和流向压力分布[Pong et al.1994;Harley et al.1995;Shih et al.1996;Arkilic et al.1997,2001;Zoh...
- 樊菁谢冲蒋建政
- 文献传递
- 大面积薄膜物理气相沉积中真空均匀辐射加热器的优化设计
- <正> 大面积薄膜物理气相沉积中,基片温度的均匀性是制备工艺中的关键问题之一。本文研究了真空辐射加热中影响基片温度均匀性的几个关键因素。首先考虑加热器表面热辐射物理参数和加热丝材料的选取的影响。然后通过解耦基片与加热器表...
- 李帅辉舒勇华刘宏立谢冲唐锦荣樊菁
- 文献传递
- 四氧化二氮对卫星漫反射试片氟化镁涂层的污染和侵蚀
- 2005年
- 利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2 O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2 )涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2 O4对MgF2 涂层有严重侵蚀作用,N2 O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了2 0 %～30 % .在一定的时间内,气态N2 O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6 9×10 4Pa和2 0 0Pa的N2 O4蒸气中分别放置10min ,前者厚度为4 0 μm的MgF2 涂层基本消失,表面漫反射率下降约2 0 % ;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2 涂层表面N2 O4分子吸附摩尔密度,以及与涂层表面碰撞的N2 O4分子通过化学吸附过程提取MgF2
- 舒勇华刘宏立樊菁崔季平谢冲
- 关键词：表面污染
