舒勇华
- 作品数：55 被引量：60H指数：5
- 供职机构：中国科学院力学研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家杰出青年科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺电气工程更多>>
- 多源蒸发物理气相沉积系统
- 本发明公开了多源蒸发物理气相沉积系统，包括真空子系统、多蒸发源子系统、运动子系统和加热子系统；真空子系统包括真空室和真空获得系统，真空获得系统保证真空室内流场的均匀分布；多蒸发源子系统包括多个蒸发源，根据薄膜组分的数量，...
- 樊菁舒勇华刘宏立
- 文献传递
- 无磁性立方织构铜镍合金基带及其制备方法
- 一种多晶立方织构无磁性铜镍合金基带，其特征在于：该铜镍合金基带中的镍的含量小于40重量％，该基带在涂层超导带材应用条件下不具有磁性；该基带具有单一组分立方织构或双轴织构{100}<001>。其方法将高纯度铜和...
- 杨坚史锴刘慧舟舒勇华胡广勇
- 文献传递
- 固态NaCl和水蒸气协同作用下高纯铁的腐蚀行为被引量：7
- 1999年
- 研究了高纯铁在５００－７００℃于水蒸气与ＮａＣｌ沉积盐协同作用下的腐蚀行为结果表明：在各实验温度条件下，高纯铁在单纯空气中腐蚀 １０ ｈ后，增重已较为明显，但形成的腐蚀膜均匀致密；表面沉积 ＮａＣＩ盐的存在抑制了高纯铁的腐蚀；与单纯空气相比，氧气和水蒸气的存在可以使高纯铁的腐蚀加剧Ｚ涂 ＮａＣＩ与水蒸气的协同作用则更显著地加剧了高纯铁腐蚀用金相、 Ｘ射线衍射、扫描电镜及能谱分析了腐蚀产物，提出了
- 舒勇华王福会周龙江
- 关键词：高纯铁水蒸气氯化钠
- 电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布(英文)
- 大面积薄膜的组分和厚度分布是实际工艺中最为关心的问题之一。本文利用实验和直接模拟Monte Carlo(DSMC)方法,分别研究了双电子束和三电子束物理气相沉积(EB- PVD)中,钇和钛蒸气原子的三维低密度、非平衡射流...
- 李帅辉舒勇华樊菁
- 关键词：电子束物理气相沉积
- 文献传递
- 多源气相共沉积界面原子吸附行为与机理研究
- 多源物理气相沉积在功能薄膜制备领域有着广泛的应用,精确控制沉积组分是保证薄膜具有优异性能的先决条件.在沉积生长过程中,各类原子/分子在沉积界面上的吸附几率影响着薄膜的组分比,而在特定条件下沉积界面的组分也会反作用于入射粒...
- 刘崇王连红舒勇华樊菁
- 四氧化二氮对卫星漫反射试片氟化镁涂层的污染和侵蚀
- 2005年
- 利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2 O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2 )涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2 O4对MgF2 涂层有严重侵蚀作用,N2 O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了2 0 %～30 % .在一定的时间内,气态N2 O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6 9×10 4Pa和2 0 0Pa的N2 O4蒸气中分别放置10min ,前者厚度为4 0 μm的MgF2 涂层基本消失,表面漫反射率下降约2 0 % ;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2 涂层表面N2 O4分子吸附摩尔密度,以及与涂层表面碰撞的N2 O4分子通过化学吸附过程提取MgF2
- 舒勇华刘宏立樊菁崔季平谢冲
- 关键词：表面污染
- 一种整体式热电偶
- 本发明涉及温度测量技术领域，尤其涉及一种整体式热电偶。整体式热电偶，包括第一极和第二极，其中，所述第二极设置在第一极内部，所述第一极和第二极采用不同的金属材料制成，且两者之间设置有绝缘层；所述第一极的端部设置有热结点层，...
- 吴松舒勇华李进平俞鸿儒
- 文献传递
- 物理气相沉积界面吸附系数与薄膜组分的相互依赖关系
- 以YBa2Cu3O7-δ高温超导薄膜制备中的组分控制问题为背景,通过电子束三源共蒸发实验定性分析了Y,,BaF2和Cu3种组元的吸附系数对温度、界面组分的依赖关系.结果表明:Y,和BaF2的吸附系数与温度、沉积界面组分的...
- 刘崇王连红马月芬舒勇华樊菁
- 对称布置的真空获得系统
- 本发明公开了一种对称布置的真空获得系统，包括真空腔体，在所述真空腔体外侧相对于所述真空腔体水平截面的几何中心线对称设置有若干个真空泵接口。由于本发明真空泵设置于底法兰盘的边缘或真空腔体侧壁，因此真空泵的安装不影响电子枪及...
- 刘宏立樊菁舒勇华
- 文献传递
- 电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布
- 大面积薄膜的组分和厚度分布是实际工艺中最为关心的问题之一。本文利用实验和直接模拟Monte Carlo (DSMC)方法,分别研究了双电子束和三电子束物理气相沉积(EBPVD)中,钇和钛蒸气原子的三维低密度、非平衡射流,...
- 李帅辉舒勇华樊菁
- 关键词：电子束物理气相沉积
- 文献传递
