王连红
- 作品数：20 被引量：8H指数：2
- 供职机构：中国科学院力学研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学环境科学与工程一般工业技术石油与天然气工程更多>>
- 单晶硅基底上铜薄膜沉积生长的分子动力学模拟
- 由于铜有较好的导电性和较高的抗电迁移能力,铜已逐步代替铝在超大规模集成电路中作为连接线使用。另一方面,铜/硅界面有着较好的欧姆接触,因此广泛应用于微机电系统。近年来已有一些单晶硅基底上铜薄膜外延生长的实验研究,包括电子束...
- 张俊刘崇王连红舒勇华樊菁
- 关键词：分子动力学
- 文献传递
- 多源气相共沉积界面原子吸附行为与机理研究
- 多源物理气相沉积在功能薄膜制备领域有着广泛的应用,精确控制沉积组分是保证薄膜具有优异性能的先决条件.在沉积生长过程中,各类原子/分子在沉积界面上的吸附几率影响着薄膜的组分比,而在特定条件下沉积界面的组分也会反作用于入射粒...
- 刘崇王连红舒勇华樊菁
- X射线衍射技术测量残余应力在研究生实验教学中的应用被引量：5
- 2018年
- 利用X射线衍射技术测量残余应力,开设科学探究性实验教学项目,让学生了解表面残余应力的概念、分类、产生原因及测试方法,学习X射线衍射(XRD)方法测量铝合金或者薄膜材料残余应力的实验原理和理论方法,熟练掌握XRD仪器设备的操作过程。通过该教学实验,培养学生的科研素养和能力,增强学生的科学探索与创新精神。
- 耿红霞王连红李航飞
- 关键词：残余应力X射线衍射铝合金实验教学
- 多源气相共沉积界面原子吸附行为与机理研究
- <正>多源物理气相沉积在功能薄膜制备领域有着广泛的应用,精确控制沉积组分是保证薄膜具有优异性能的先决条件。在沉积生长过程中,各类原子/分子在沉积界面上的吸附几率影响着薄膜的组分比,而在特定条件下沉积界面的组分也会反作用于...
- 刘崇王连红舒勇华樊菁
- 文献传递
- 沉积温度对电子束物理气相沉积制备YBCO薄膜性能与结构的影响
- <正>采用力学研究所自主研制的多元电子束物理气相沉积系统两步法生长YBCO薄膜。所用衬底为{001}LaAlO_3(简称LAO)单晶,尺寸为15mm×15mm,厚度为0.5mm。蒸发源选用Y,BaF_2和Cu,其纯度均高...
- 王连红刘崇樊菁舒勇华李帅辉张俊马月芬
- 文献传递
- 物理气相沉积界面吸附系数与薄膜组分的相互依赖关系
- <正>以YBa_2Cu_3O_(7-δ)高温超导薄膜制备中的组分控制问题为背景,通过电子束三源共蒸发实验定性分析了Y_t,BaF_2和Cu_3种组元的吸附系数对温度、界面组分的依赖关系。结果表明:Y_t和BaF_2的吸附...
- 刘崇王连红马月芬舒勇华樊菁
- 文献传递
- 气相沉积制备高温超导薄膜中的若干物理力学问题探究
- 刘崇王连红舒勇华樊菁
- 大面积YBCO超导薄膜退火气氛研究
- 本文在新研制的退火炉中开展大面积YBCO超导薄膜退火气氛(氧气和水蒸气)的研究实验.实验发现,不同的退火炉炉内温度下氧气的通入对退火薄膜的超导性能(主要考评微波表面电阻Rs)有较大的影响,本文从化学反应动力学对这几种退火...
- 王连红刘崇樊菁
- 关键词：退火炉微波表面电阻
- 沉积温度对电子束物理气相沉积制备YBCO薄膜性能与结构的影响
- 采用力学研究所自主研制的多元电子束物理气相沉积系统两步法生长YBCO薄膜.所用衬底为{001}LaAlO3(简称LAO)单晶,尺寸为15mm×15mm,厚度为0.5mm.蒸发源选用Y,BaF2和Cu,其纯度均高于99％....
- 王连红刘崇樊菁舒勇华李帅辉张俊马月芬
- 低压退火对YBCO超导薄膜结构和性能的影响
- 王连红刘崇樊菁
