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王淑艳

作品数:2 被引量:6H指数:2
供职机构:华北光电技术研究所更多>>
发文基金:陕西省教育厅省级重点实验室科研与建设计划项目更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇锑化铟
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体表面
  • 1篇扩散
  • 1篇焦平面
  • 1篇焦平面器件
  • 1篇非接触
  • 1篇非接触式
  • 1篇INSB
  • 1篇表面处理

机构

  • 2篇华北光电技术...
  • 1篇清华大学

作者

  • 2篇王淑艳
  • 1篇张钢
  • 1篇刘理天
  • 1篇杜红燕
  • 1篇曹凌霞
  • 1篇肖钰
  • 1篇李海燕

传媒

  • 1篇红外
  • 1篇激光与红外

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
InSb晶体表面碟形坑缺陷被引量:2
2006年
文章用金相显微镜观察、统计了InSb晶片扩散前、后,经择优腐蚀后呈碟形坑的表面微缺陷。结果显示这类缺陷的一部分是InSb晶体原生缺陷,一部分由扩散诱生。分析后认为由扩散诱生这类缺陷的原因主要为晶片表面粘污,已证实清洗更洁净的晶片,能有效抑制扩散过程中诱生的这类缺陷。
杜红燕王淑艳张钢刘理天
关键词:INSB扩散
锑化铟焦平面器件背面减薄后的表面处理方法研究被引量:4
2020年
经传统的背面减薄工艺处理后,锑化铟焦平面器件的表面上经常会有细微划道;采用传统的表面清洗方式时也容易对器件表面造成划道,导致工艺重复性差。因此,当器件经过背面减薄后,利用腐蚀液去除划道,并采用基于石油醚和无水乙醇的非接触式清洗方法,有效降低了器件表面产生划道的几率,同时避免了由于表面腐蚀速率不均匀导致测试时部分区域电平较高、在测试图像上出现亮斑等情况;另外还提高了工艺的重复性,使锑化铟器件的红外成像均匀且没有划道,从而提高了该器件的成品率。
肖钰李家发王淑艳曹凌霞李海燕
关键词:锑化铟表面处理
共1页<1>
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