干泰原
- 作品数：2 被引量：0H指数：0
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- CHN薄膜化学结构和成分分析
- 2011年
- 采用外置式电容耦合低压等离子化学气相沉积法制备非晶CHN薄膜。X射线光电子能谱仪分析表明薄膜表面C、N和O的相对含量比,同时随着N2/CH4比例增大,薄膜中N元素的含量逐渐增加;并且对薄膜中存在的C-N共价键进行了讨论;傅里叶红外透射光谱分析表明薄膜中存在C-N键和其他官能团;拉曼光谱分析表明随着N2/CH4比例增大,D峰和G峰的中心位置先远离然后靠近,并且D峰和G峰的面积比逐渐增加,源于薄膜无序度增加且逐渐趋于石墨化。
- 李建根吴卫东干泰原曹林洪
- 关键词：化学气相沉积X射线光电子能谱拉曼光谱化学键
- ICP-CVD制备a-CHON及光学性能分析
- 2013年
- 采用外置电感耦合等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/CO2/H2作为反应气体,制备出非晶的a-CHON薄膜。研究了放电功率对薄膜沉积速率、表面形貌及光学性能的影响。结果表明沉积速率随着放电功率的增加而增加,而非线性增加;原子力显微镜分析结果表明放电功率对薄膜粗糙度有较大的影响;红外光谱分析表明了薄膜内部存在C-O,C=O,C≡N以及C-H键;紫外-可见-近红外光分析表明,薄膜的光学带隙随放电功率的增加而减小;薄膜折射率在可见光区的色散图表明,折射率随入射光频率的增加而减小,出现反常色散关系;而在同一波长下薄膜的折射率先随放电功率的增加而减小,而后又有所增加。
- 陈飞吴卫东干泰原曹林洪
- 关键词：沉积速率表面形貌光学性能
