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岑龙斌

作品数:6 被引量:11H指数:1
供职机构:北京大学物理学院人工微结构与介观物理国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇会议论文
  • 2篇期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇探测器
  • 3篇肖特基
  • 3篇肖特基接触
  • 2篇紫外光探测器
  • 2篇光探测
  • 2篇光探测器
  • 2篇AL
  • 1篇带间跃迁
  • 1篇电场
  • 1篇电光
  • 1篇电光调制
  • 1篇电光调制器
  • 1篇调制器
  • 1篇多量子阱
  • 1篇多量子阱结构
  • 1篇跃迁
  • 1篇双量子阱
  • 1篇欧姆接触
  • 1篇中子
  • 1篇紫外探测

机构

  • 6篇北京大学

作者

  • 6篇岑龙斌
  • 5篇秦志新
  • 5篇张国义
  • 4篇桑立雯
  • 3篇沈波
  • 3篇周绪荣
  • 1篇张小平
  • 1篇许福军
  • 1篇鲁麟
  • 1篇杨志坚
  • 1篇黄呈橙
  • 1篇俞大鹏
  • 1篇潘建海
  • 1篇宋杰
  • 1篇苗振林
  • 1篇闫晓东
  • 1篇王新强
  • 1篇陈志忠

传媒

  • 2篇第十四届全国...
  • 1篇发光学报
  • 1篇半导体光电
  • 1篇第十六届全国...
  • 1篇第十五届全国...

年份

  • 1篇2010
  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 2篇2006
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
基于3—5μm波段子带间跃迁的AlxGa1-xN/GaN多量子阱结构的材料生长研究
@@半导体多量子阱结构的子带间跃迁(ISBT)是电子吸收光子从量子阱导带中的基态子带到激发态子带之间的跃迁,其在光探测器,电光调制器和光开关等光电器件方面有巨大的应用前景。
黄呈橙许福军闫晓东宋杰苗振林岑龙斌潘建海王新强沈波
文献传递
AlGaN紫外光探测器
我们通过AlN插入层技术,成功生长出了高Al组份的AlGaN材科.研究并优化了AlGaN材料上的欧姆接触形成条件,而且还优化了Ni/Au肖特基接触,从而成功研制出了AlGaN紫外光肖特基型探测器.其中,器件最短的截止波长...
岑龙斌桑立雯周绪荣秦志新张国义
关键词:ALGAN材料紫外光探测器肖特基接触欧姆接触
文献传递
外电场对AlN/GaN双量子阱中子带间跃迁的影响
通过薛定谔-泊松方程的自恰求解,计算了外电场对AlN/GaN耦合双量子阱中子带间跃迁吸收系数和子带间距的影响。当外电场作用在AlN/GaN耦合双量子阱上时,基态到第二激发态(1奇-2奇)的了带间跃迁吸收系数能够变为零。这...
岑龙斌沈波秦志新张国义
关键词:电光调制器
文献传递
蓝宝石衬底上GaN/Al_xGa_(1-x)N超晶格插入层对Al_xGa_(1-x)N外延薄膜应变及缺陷密度的影响被引量:10
2008年
室温300 K下,由于AlxGa1-xN的带隙宽度可以从GaN的3.42 eV到AlN的6.2 eV之间变化,所以AlxGa1-xN是紫外光探测器和深紫外LED所必需的外延材料。高质量高铝组分AlxGa1-xN材料生长的一大困难就是AlxGa1-xN与常用的蓝宝石衬底之间大的晶格失配和热失配。因而采用MOCVD在GaN/蓝宝石上生长的AlxGa1-xN薄膜由于受张应力作用非常容易发生龟裂。GaN/AlxGa1-xN超晶格插入层技术是释放应力和减少AlxGa1-xN薄膜中缺陷的有效方法。研究了GaN/AlxGa1-xN超晶格插入层对GaN/蓝宝石上AlxGa1-xN外延薄膜应变状态和缺陷密度的影响。通过拉曼散射探测声子频率从而得到材料中的残余应力是一种简便常用的方法,AlxGa1-xN外延薄膜的应变状态可通过拉曼光谱测量得到。AlxGa1-xN外延薄膜的缺陷密度通过测量X射线衍射得到。对于具有相同阱垒厚度的超晶格,例如4 nm/4 nm,5 nm/5 nm,8 nm/8 nm的GaN/Al0.3Ga0.7N超晶格,研究发现随着超晶格周期厚度的增加AlxGa1-xN外延薄膜缺陷密度降低,AlxGa1-xN外延薄膜处于张应变状态,且5 nm/5 nmGaN/Al0.3Ga0.7N超晶格插入层AlxGa1-xN外延薄膜的张应变最小。在保持5 nm阱宽不变的情况下,将垒宽增大到8 nm,即十个周期的5 nm/8 nm GaN/Al0.3Ga0.7N超晶格插入层使AlxGa1-xN外延层应变状态由张应变变为压应变。由X射线衍射结果计算了AlxGa1-xN外延薄膜的刃型位错和螺型位错密度,结果表明超晶格插入层对螺型位错和刃型位错都有一定的抑制效果。透射电镜图像表明超晶格插入层使位错发生合并、转向或是使位错终止,且5 nm/8 nm GaN/Al0.3Ga0.7N超晶格插入层导致AlxGa1-xN外延薄膜中的刃型位错倾斜30°左右,释放一部分压应变。
周绪荣秦志新鲁麟沈波桑立雯岑龙斌张国义俞大鹏张小平
关键词:超晶格
307-325nm波长AlGaN基紫外光探测器被引量:1
2007年
通过在GaN缓冲层上先生长一层20 nm厚的AlN插入层,成功地在此插入层上生长出了200 nm厚的AlxGa1-xN(0.220.20时,其上Ni基肖特基势垒高度几乎是不变的。在O2氛围中,300℃下,对AlxGa1-xN材料上10 nm厚的金属Ni层氧化90 s,得到了此Ni层在314 nm的透射率由57.5%提高到78.2%。在器件的光电流谱测量中,得到了器件最短的截止波长为307 nm,紫外/可见光达到103以上。
岑龙斌桑立雯周绪荣秦志新张国义
关键词:ALGAN紫外光探测器肖特基接触
氧化对Ni/n-AlGaN透明电极肖特基接触的影响
在蓝宝石(0001)衬底上,用金属有机气相沉积(MOCVD)方法外延生长AlGaN样品,溅射10nmNi作为透明的肖特基接触,研究了在氧气氛下低温退火对电极透明性和肖特基结的影响.结果表明,由于Ni表面形成的一层薄的Ni...
桑立雯岑龙斌陈志忠杨志坚秦志新张国义
关键词:肖特基接触紫外探测器
文献传递
共1页<1>
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