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吴桂君

作品数：5 被引量：4H指数：1
供职机构：中国科学院电工研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 5篇电子电信

主题

  • 2篇电子束曝光
  • 2篇缩小投影电子...
  • 1篇电镜
  • 1篇掩模
  • 1篇照明
  • 1篇射电
  • 1篇透射
  • 1篇透射电镜
  • 1篇透射率
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子机械
  • 1篇微电子机械系...
  • 1篇微机械
  • 1篇微机械元件
  • 1篇微细
  • 1篇微细加工
  • 1篇下一代光刻
  • 1篇机械系统
  • 1篇光刻

机构

  • 5篇中国科学院
  • 1篇中国科学院微...

作者

  • 5篇吴桂君
  • 4篇张福安
  • 4篇顾文琪
  • 4篇彭开武
  • 1篇唐晖
  • 1篇张今朝
  • 1篇叶甜春
  • 1篇杨清华
  • 1篇王理明
  • 1篇靳鹏云
  • 1篇薛虹
  • 1篇初明璋
  • 1篇陈大鹏
  • 1篇刘明
  • 1篇方光荣

传媒

  • 3篇微细加工技术
  • 1篇电工电能新技...

年份

  • 3篇2002
  • 1篇2001
  • 1篇1994
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
电子束缩小投影成像曝光系统研究
顾文琪张福安方光荣薛虹靳鹏云彭开武张今朝唐晖初明璋吴桂君王理明
该项目通过对电子束缩小投影成像曝光系统的关键技术及相关部件的研究，探索纳米级缩小投影成像曝光、散射型掩模制备及角度限制机理和高精度对准定位等核心技术。项目组制定了详细又切合实际的总体方案和合理可行的技术路线。为加快研究进...
关键词：
电子束缩小投影曝光系统的掩模研究
2002年
介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备。
吴桂君彭开武张福安顾文琪陈大鹏杨清华刘明叶甜春
关键词：掩模透射率下一代光刻
缩小投影电子束曝光系统的成像反差
2002年
结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差 。
彭开武顾文琪张福安吴桂君
关键词：缩小投影电子束曝光
缩小投影电子束曝光原理论证机被引量：4
2001年
系统阐述了缩小投影 (或纳米投影 )电子束曝光技术的原理 ,以及如何将一台透射电镜改装为原理论证机的主要过程。内容包括机械结构的变动、电子光路的选择、调焦及曝光、成像系统的逐步演化。
彭开武顾文琪吴桂君张福安
关键词：电子束曝光透射电镜微细加工
微电子机械系统的研究现状
1994年
在同一介质上，应用集成电路微细加工技术制作出尺寸在微米范畴的微机械部件，微传感器，微传动装置并将它们与微电子线路在一起形成高性能的闭环控制的微电子机械系统是一门新兴的边缘学科，也开辟了一个全新的工业加工领域，本文简述了微电子机械系统的研究现状及其基础技术。
吴桂君颐文琪
关键词：微电子机械系统微机械元件
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