陈波
- 作品数：3 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 300mm硅片CMP设备装载技术研究
- 2011年
- 定位装载机构是硅片化学机械抛光(CMP)设备的一个重要组成部分。本文通过对目前CMP设备中硅片定位装载机构的介绍、分析与比较,介绍了一种新型定位装载机构的功能、结构原理及控制原理,并最终通过在工艺试验中的实际应用确定了该机构已基本达到设计要求。
- 高文泉陈威陈波柳滨
- 关键词：化学机械抛光CMP控制原理
- 6R机械手在CMP设备中的运动空间分析
- 2011年
- 工作空间是一个衡量机械手工作能力的重要运动学指标。通过分析抛光机中机械手的工作流程,确定了机械手工作空间;并利用D-H坐标法,建立6R机械手的数学模型,得到机械手末端坐标系相对于基坐标系的传递矩阵。最后,采用蒙特卡洛数值分析法,仿真了机械手的运动空间,结果显示,该机械手的运动空间大于设备要求的工作空间,满足CMP设备的使用需求。
- 徐存良陈波高文泉柳滨
- 关键词：机械手蒙特卡洛法
- CMP大盘结构研究被引量：1
- 2013年
- 在CMP设备中,大盘的整体性能直接影响抛光后晶圆的表面质量和整体面型精度。分析了三种大盘的受力结构,选择应用交叉圆锥滚子轴承的结构为最优。给出了抛光大盘的陶瓷台面的温度控制水道的三个分布模式。
- 陈波徐存良
- 关键词：水压温度
