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贡萨洛·阿尔塞

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:北京理工大学更多>>
相关领域:文化科学电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文专利

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇文化科学

主题

  • 2篇电场
  • 2篇电场强度
  • 2篇掩膜
  • 2篇梯度信息
  • 2篇透射
  • 2篇相干
  • 2篇相干光
  • 2篇相干光源
  • 2篇计算复杂度
  • 2篇光刻
  • 2篇光刻分辨率
  • 2篇光刻机
  • 2篇光源
  • 2篇分辨率
  • 2篇复杂度
  • 2篇干点
  • 2篇边界层
  • 2篇层模型
  • 2篇场强
  • 2篇成像分辨率

机构

  • 4篇北京理工大学

作者

  • 4篇马旭
  • 4篇贡萨洛·阿尔...
  • 4篇李艳秋

年份

  • 2篇2013
  • 2篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
获取基于BL模型的三维掩膜空气中成像的方法
本发明提供一种获取基于BL模型的三维掩膜空气中成像的方法,属于光刻分辨率增强技术领域。当所述的掩膜为二值掩膜时,通过计算掩膜图形对应的总中央透射区域对应的透射率以及边界层的透射率,获取掩膜图形中各像素点对应的F<Sup>...
马旭贡萨洛·阿尔塞李艳秋
一种基于边界层模型的三维相移掩膜优化方法
本发明公开了一种基于BL模型的三维相移掩膜(PSM)优化方法,将PSM的优化目标函数D构造为目标图形与空气中成像之差的欧拉距离的平方,利用优化目标函数的梯度信息引导PSM优化方向,同时优化相移掩膜的拓扑结构及光线通过掩膜...
马旭贡萨洛·阿尔塞李艳秋
文献传递
一种基于边界层模型的三维相移掩膜优化方法
本发明公开了一种基于BL模型的三维相移掩膜(PSM)优化方法,将PSM的优化目标函数D构造为目标图形与空气中成像之差的欧拉距离的平方,利用优化目标函数的梯度信息引导PSM优化方向,同时优化相移掩膜的拓扑结构及光线通过掩膜...
马旭贡萨洛·阿尔塞李艳秋
获取基于BL模型的三维掩膜空气中成像的方法
本发明提供一种获取基于BL模型的三维掩膜空气中成像的方法,属于光刻分辨率增强技术领域。当所述的掩膜为二值掩膜时,通过计算掩膜图形对应的总中央透射区域对应的透射率以及边界层的透射率,获取掩膜图形中各像素点对应的F<Sup>...
马旭贡萨洛·阿尔塞李艳秋
文献传递
共1页<1>
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