程仲元
- 作品数：14 被引量：37H指数：5
- 供职机构：南京航空航天大学机电学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术理学金属学及工艺更多>>
- 真空电弧涂镀TiN膜中宏观颗粒的电镜分析被引量：5
- 1997年
- 用扫描电镜（ＳＥＭ）分析了真空电弧沉积ＴｉＮ膜中宏观颗粒（ＭＰ）的形态，并对观察结果给出了理论解释。电镜分析表明，ＴｉＮ膜中ＭＰ的形态与其粒径有关，粒径大的呈椭球形，粒径小的呈圆球形；ＭＰ与膜层之间有微小孔隙。理论分析表明，形成ＭＰ的液滴在飞行中温度降低的幅度是决定其形态的主要因素。
- 程仲元王珉邹积岩
- 关键词：真空电弧镀膜SEM氮化钛
- 物理气相沉积法沉积类金刚石膜时触发电路的设计
- 1999年
- 在物理气相沉积过程中,触发真空间隙是整个试验过程中最基本的一步,很多因素影响真空间隙的成功触发,本文对此加以讨论,并提供一个合适的触发电路.
- 袁安富程仲元王珉
- 关键词：类金刚石膜PVD触发电路
- 纯净化真空电弧沉积非晶硅薄膜
- 1996年
- 本文阐述了真空电弧沉积（ＶＡＤ）的各种净化方法，并讨论了纯净化的真空电弧在非晶硅膜层沉积方面的应用，包括在制造太阳能电池方面的应用前景。分析表明，真空电弧沉积非晶硅膜，关键在于合理设计弧源使电弧纯净化，采取各种有效方法抑制宏观颗粒对膜层的污染，同时采用适当的等离子体诊断设备，通过调节等离子体微观参数来控制膜层质量。
- 邹积岩程仲元杨磊
- 关键词：非晶硅薄膜半导体材料
- 真空电弧镀膜中金属液滴的热过程研究被引量：1
- 1996年
- 本文建立了真空电弧镀膜中液滴热过程的理论模型，求解了沉积ＴｉＮ膜过程中液滴的温度与粒径变化。计算表明，液滴在飞行过程中温度和粒径不断减小；粒径较小的液滴温度降低较大，甚至可能发生凝固。计算实例能较好解释早期ＴｉＮ膜的电镜分析结果，揭示液滴在薄膜中引起两种不同微孔的机理。
- 程仲元邹积岩
- 关键词：真空电弧镀膜半导体器件
- 磁控真空电弧沉积TiN膜的扫描电镜分析被引量：1
- 1996年
- 利用扫描电镜，分析了磁控电弧沉积的氨化钛膜微观形貌。实验表明，阴极磁场对膜层的形貌有显著的影响，合理的磁场设计可减少膜层中的宏观颗粒（ＭＰ）；膜的表面形貌主要受ＭＰ的影响，但当基片表面起弧时，弧痕对表面形貌的影响比ＭＰ的影响大；ＭＰ粒径多数在１～３微米之间，但少数的ＭＰ也可能大于十几微米或１微米以下。对ＭＰ的形貌分析表明，ＭＰ的形态与其粒径有关，较小的ＭＰ顶部呈圆球形，而较大的ＭＰ顶部扁平，且底部有微孔。
- 程仲元邹积岩杨磊
- 关键词：扫描电镜真空镀膜
- 真空电弧镀膜等离子体参数的测量被引量：1
- 1997年
- 本文介绍了真空电弧镀膜（VAD）环境下用法拉第杯分析等离子参数的实验系统。利用该系统，着重测量了气压、电流等参数对离子能量的影响，以及离子能量在固定位置的角分布。由测量结果，讨论了VAD中的复合离子参数值（Ep），在100A、0．66Pa、偏压-100V下，典型的最大离子能量为75eV，到达工件Ep值为8286V／atom。
- 邹积岩杨磊程仲元张汉明
- 关键词：真空电弧镀膜等离子体
- 灭弧室用磁控真空计的研究被引量：2
- 1998年
- 介绍了同轴场式脉冲磁控真空计的测量原理以及设计中的有关问题。给出了某些真空灭孤室的压强－离子电流曲线。测量结果表明，该磁控计的压强－离子电流曲线为幂指数函数，磁控放电的离子电流与磁场强度无关，但磁场强度必须足以产生稳定的磁控放电。压强－离子电流曲线与灭弧室电极几何构造和触头的状况有关。
- 程仲元王瑛
- 关键词：真空测量真空灭弧室真空计
- 真空等离子沉积中真空电弧的产生及触发电路的设计被引量：2
- 2000年
- 在真空等离子沉积中 ,首先要触发真空电弧 ,由于等离子沉积本身所具有的复杂性 ,要成功地触发真空电弧必须考虑很多因素 ,如 :阴极的材料、电极的结构、阴阳两电极之间的间隙、电极的表面状态、触发方式等。文中对影响触发电弧的因素以及在设计触发电路时需要考虑的因素作了一定的分析 ,并在此基础上 。
- 袁安富程仲元王珉
- 关键词：触发电路电弧喷涂真空
- 真空电弧沉积薄膜显微硬度与工艺参数的关系被引量：5
- 2004年
- 测试了各种工艺条件下真空电弧沉积 (VAD)的TiN薄膜的显微硬度 ,并研究了TiN薄膜硬度随基材、电弧电流、基片温度、氮气压力及负偏压的变化。实验结果表明 :在多数基材上 ,薄膜硬度均接近或超过 2 0GPa ,且薄膜的硬度与基材的硬度不呈比例关系 ,TiN薄膜的硬度随电流的增加有减少的趋势 ;在相当宽的温区内 ,TiN薄膜的硬度随温度上升而增大 ,而且在高温下的硬度值比低温时稳定 ,总体上 ,VAD比其它离子镀具有更宽阔的T区 ;在氮气压力为 0 .1Pa～ 1Pa的区域内 ,TiN薄膜的硬度稳定在 2 0MPa以上 ,而且适当的负偏压有利于提高TiN薄膜的硬度。
- 李亮程仲元王珉
- 关键词：显微硬度电弧离子镀TIN薄膜
- 真空电弧沉积技术中的弧源设计被引量：2
- 1999年
- 讨论了真空电弧沉积中弧源设计的有关问题 ,如电弧运行模式、电弧极性、点火方式、电弧的约束方式以及宏观粒子抑制方式等。分析表明 ,合理选择电弧运行模式和电弧极性 ,以满足涂料粒子蒸发与离化的要求 ;选择合适的弧源结构 ,加强对电弧的约束与烧蚀的控制 ,或用过滤弧源 ,以抑制宏观粒子对涂层的污染 。
- 程仲元王珉
- 关键词：真空电弧涂层离子镀VAD
