杨亦赏
- 作品数：4 被引量：9H指数：2
- 供职机构：苏州大学物理科学与技术学院（能源学院）更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学医药卫生电子电信一般工业技术更多>>
- 源气体流量比对氟化类金刚石薄膜蛋白吸附能力的影响被引量：5
- 2011年
- 用316L不锈钢(SU316L)作基片,以高纯石墨作靶、CHF3和Ar作源气体,采用反应磁控溅射法在不同流量比R(CHF3/Ar)下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用双蒸水液滴法、BCA(二喹啉甲酸)法和傅里叶红外光谱(FTIR)探讨了影响薄膜蛋白吸附能力的因素.结果表明,镀有F-DLC薄膜的SU316L表面的血小板黏附量明显减少,血小板的变形程度显著减轻,相应的白蛋白与纤维蛋白原的吸附比普遍高于未镀膜的SU316L表面的相应值,说明镀上F-DLC薄膜可以改善样品的血液相容性.流量比为2:1左右时制备出的F-DLC薄膜,其白蛋白与纤维蛋白原的吸附比值达到最大,相应的血液相容性最佳.对薄膜的接触角和表面能以及FTIR光谱分析研究表明,SU316L表面的F-DLC薄膜的白蛋白与纤维蛋白原的吸附比及血液相容性与薄膜的中的—CFx键的含量(F/C比)和表面能(疏水性)直接相关,控制源气体流量比可以实现对薄膜的血液相容性的调制.
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- 关键词：反应磁控溅射氟化类金刚石薄膜蛋白吸附
- 氟化类金刚石薄膜附着性能的研究
- 本文研究了F-DLC薄膜的附着性能。实验制备了两种F-DLC薄膜样品，第一种采用反应磁控溅射法，以氩气(Ar)和三氟甲烷（CHF3）为源气体并利用316L不锈钢为基片，制备了F-DLC薄膜;第二种以Ar为源气体，以316...
- 杨亦赏
- 关键词：磁控溅射氟化类金刚石薄膜射频功率
- Si过渡层对氟化类金刚石薄膜附着特性的影响被引量：1
- 2012年
- 研究了不锈钢基片上Si过渡层对F-DLC薄膜附着特性的影响.采用反应磁控溅射法,以Ar为源气体,在316L不锈钢基片制备了Si薄层,并在Si薄层上沉积了F-DLC薄膜,通过划痕实验测试了各个样品的膜/基结合强度.结果表明,引入Si过渡层可以明显增强氟化类金刚石薄膜和不锈钢基片之间的结合强度,在200 W下制备的Si过渡层上,F-DLC薄膜的结合强度最佳.根据薄膜表面形貌的扫描电镜观察、晶粒尺寸的分析以及薄膜键结构的红外光谱、拉曼光谱分析,F-DLC薄膜的结合强度与Si—C键等基团的形成、含量以及Si的键入方式有关.
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- 关键词：磁控溅射氟化类金刚石薄膜
- SiC过渡层对氟化类金刚石薄膜附着特性的影响被引量：3
- 2013年
- 采用射频反应磁控溅射法在316L不锈钢基片上分别沉积了两种薄膜:一种是氟化类金刚石薄膜(F-DLC),另一种是先镀上一定厚度的SiC过渡层再沉积F-DLC.着重研究了薄膜的附着力随过渡层制备条件的变化规律.结果显示,增加SiC过渡层后薄膜的附着力明显增加,且附着力随SiC过渡层的制备条件有所变化,在射频输入功率为200W,沉积时间5min制备出的SiC过渡层上再沉积F-DLC时,附着力可达8.7N,远高于未加过渡层时F-DLC膜的附着力(4N).通过研究SiC的沉积速率曲线、表面形貌和红外光谱,探讨了SiC过渡层及其制备条件影响薄膜附着力的相关机制.
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- 关键词：红外光谱附着力
