您的位置: 专家智库 > >

孟凡涛

作品数:12 被引量:38H指数:4
供职机构:大连理工大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术理学机械工程更多>>

文献类型

  • 6篇专利
  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 2篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇光电
  • 4篇埋层
  • 4篇刻蚀
  • 4篇刻蚀工艺
  • 3篇亚波长
  • 3篇亚波长光栅
  • 3篇严格耦合波理...
  • 3篇耦合波
  • 3篇耦合波理论
  • 3篇纳米
  • 3篇纳米压印
  • 3篇光栅
  • 3篇波长
  • 2篇导航传感器
  • 2篇电极
  • 2篇氧化硅
  • 2篇软模板
  • 2篇网格
  • 2篇网格结构
  • 2篇纳米点

机构

  • 12篇大连理工大学

作者

  • 12篇孟凡涛
  • 11篇褚金奎
  • 10篇韩志涛
  • 6篇王志文
  • 3篇郭庆
  • 2篇赵开春
  • 2篇陈文静
  • 1篇张娜

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇光子学报
  • 1篇传感技术学报
  • 1篇半导体光电
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 3篇2012
  • 2篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种硅光电二极管的制作方法
本发明一种硅光电二极管的制作方法属于半导体器件制作领域,尤其涉及一种硅光电二极管的制作方法。本发明采用绝缘体上硅晶片作衬底,绝缘体上硅晶片包括支撑硅片、二氧化硅埋层和器件层。采用干法刻蚀工艺在器件层上先加工一个闭环的隔离...
褚金奎韩志涛孟凡涛王志文
基于一维软模板纳米压印制作三维纳米网格结构的方法
本发明属于微纳制造技术领域,具体为基于一维软模板纳米压印技术制作大面积三维纳米网格结构的方法。其步骤包括:利用软模板进行第一次纳米压印,然后采用氧RIE刻蚀去除压印胶残留层。利用制作的压印胶图形为掩膜刻蚀基底材料,去胶后...
褚金奎孟凡涛王志文韩志涛
基于严格耦合波理论的亚波长金属光栅偏振器设计被引量:20
2006年
亚波长周期结构光栅具有传统光栅所不具有的特殊性质.针对仿生微纳导航系统敏感波段0.52-0.59μm的要求,采用严格耦合波理论分析了不同光栅材料、光栅面型及光栅结构参数对TM偏振透射率及透射消光比的影响,设计了对应的金属偏振光栅.所设计的光栅与传统金属光栅不同之处在于基底和光栅之间增加了氟化镁介质,在垂直入射条件下,TM偏振透射率及消光比都增大.在0.38μm^0.40μm及0.50μm^0.76μm全光波段内,TM偏振透射率都大于50%,消光比都大于170,达到了宽带宽、TM偏振透射率及透射消光比都较高的要求.
张娜褚金奎赵开春孟凡涛
关键词:二元光学亚波长光栅
纳米光刻技术及其在三端结器件和纳米光栅偏振器中的应用
电子束光刻技术是目前发展最完善的纳米光刻技术之一,其具有超高分辨率、操作灵活、不需要掩模以及可以制作各种纳米结构的优点使得它成为当今微纳米科学研究与技术开发的重要工具。但是电子束光刻技术固有的邻近效应和场拼接误差对大面积...
孟凡涛
关键词:纳米光刻电子束光刻纳米压印
文献传递
亚波长金属光栅偏振器设计被引量:9
2007年
针对仿生微纳导航传感器敏感波段380~520nm的要求,基于严格耦合波理论,设计了一种适用于蓝紫光波段的金属光栅偏振器,并应用等效介质理论直观地分析了金属光栅偏振器的工作原理.所设计的金属光栅偏振器与传统的金属光栅偏振器的不同之处在于:在基底和金属线栅之间增加了氟化镁薄膜,并且刻蚀一部分氟化镁薄膜.在垂直入射条件下,在整个可见光波段,金属光栅偏振器TN透射效率大于61.5%,消光比大于370;数值计算和理论分析表明,所设计的金属光栅偏振器是一种宽带宽、高TN透射效率和高消光比的偏振器件.
孟凡涛褚金奎韩志涛赵开春
关键词:亚波长光栅严格耦合波理论
导航传感器的微型偏振光检测装置
本发明导航传感器的微型偏振光检测装置属于传感器设计领域,特别涉及了一种仿照昆虫复眼结构设计的导航传感器的微型偏振光检测装置。检测装置有三个通道,每个通道由两个单元组,共六个单元。每个单元都具有一个微型光栅和一个光电薄膜来...
褚金奎孟凡涛陈文静韩志涛王志文
文献传递
基于一维软模板纳米压印制作三维纳米网格结构的方法
本发明属于微纳制造技术领域,具体为基于一维软模板纳米压印技术制作大面积三维纳米网格结构的方法。其步骤包括:利用软模板进行第一次纳米压印,然后采用氧RIE刻蚀去除压印胶残留层。利用制作的压印胶图形为掩膜刻蚀基底材料,去胶后...
褚金奎孟凡涛王志文韩志涛
文献传递
一种硅光电二极管的制作方法
本发明一种硅光电二极管的制作方法属于半导体器件制作领域,尤其涉及一种硅光电二极管的制作方法。本发明采用绝缘体上硅晶片作衬底,绝缘体上硅晶片包括支撑硅片、二氧化硅埋层和器件层。采用干法刻蚀工艺在器件层上先加工一个闭环的隔离...
褚金奎韩志涛孟凡涛王志文
文献传递
导航传感器的微型偏振光检测装置
本发明导航传感器的微型偏振光检测装置属于传感器设计领域,特别涉及了一种仿照昆虫复眼结构设计的导航传感器的微型偏振光检测装置。检测装置有三个通道,每个通道由两个单元组,共六个单元。每个单元都具有一个微型光栅和一个光电薄膜来...
褚金奎孟凡涛陈文静韩志涛王志文
热压印中聚合物填充过程的仿真分析被引量:6
2008年
基于有限元方法并借助ANSYS软件对热压印过程中二维的聚合物填充过程进行模拟。聚合物加热温度高于剥离转化温度时,采用Mooney-Rivlin模型表示聚合物的机械性能。详细分析了深宽比、凹槽宽度、占空比、摩擦系数对聚合物变形的影响。数值计算结果表明,深宽比对聚合物高度影响显著;凹槽宽度对聚合物形成单、双峰结构影响较大;占空比影响残留比率;摩擦系数对聚合物高度的影响较小。在制作高质量的热压印图形中,该数值分析结果有助于优化过程参数。
褚金奎郭庆孟凡涛韩志涛
关键词:热压印占空比
共2页<12>
聚类工具0