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祁英昆

作品数:4 被引量:9H指数:1
供职机构:浙江大学材料与化学工程学院硅材料国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇氮化
  • 2篇氮化硼
  • 2篇性能研究
  • 2篇XN
  • 2篇BP
  • 2篇掺杂
  • 1篇氮化硼薄膜
  • 1篇紫外
  • 1篇紫外吸收
  • 1篇磷掺杂
  • 1篇磷元素
  • 1篇光电
  • 1篇光电薄膜
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体材料
  • 1篇SEM
  • 1篇XRD
  • 1篇BN
  • 1篇FTIR
  • 1篇X

机构

  • 4篇浙江大学

作者

  • 4篇祁英昆
  • 3篇韩高荣
  • 3篇张溪文
  • 2篇徐世友
  • 1篇翁文剑
  • 1篇董博
  • 1篇郝天亮
  • 1篇赵高凌
  • 1篇沈鸽
  • 1篇杜丕一

传媒

  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 3篇2003
  • 1篇2002
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
氮化硼光电薄膜材料的制备及其性能研究被引量:7
2002年
本文通过热丝辅助等离子体增强化学气相沉积法 (HF PECVD)在单晶硅片和石英片衬底上分别成功生长了氮化硼薄膜材料。用X射线衍射 (XRD和傅立叶变换红外光谱 (FTIR)分析了薄膜样品的结构和组成 ,用扫描电镜 (SEM)观察了薄膜样品的表面形态 ,用紫外—可见光分光光度计 (UV)研究了薄膜样品的紫外吸收特征 ,并确认薄膜样品的光学能隙。此外 。
祁英昆张溪文郝天亮董博沈鸽杜丕一翁文剑赵高凌韩高荣
关键词:氮化硼紫外吸收半导体材料
BP_xN_(1-x)薄膜的制备及磷元素对其光学能隙的影响被引量:1
2003年
本文从应用出发 ,选择光学石英为衬底 ,采用热丝辅助射频化学气相沉积的方法沉积BPxN1 -x薄膜 ,对样品进行了X射线衍射 (XRD)、扫描电子显微镜 (SEM)、紫外 可见等测试。XRD、SEM结果显示薄膜多晶态 ,表面形貌随时间变化 ,最终为胞状 ;紫外 可见光光谱结果显示BPxN1 -x薄膜的紫外吸收边随沉积时间的加长、PH3流量的增加而向长波长方向移动。因此 ,该材料的光学能隙可以通过生长工艺适当调整。另外 ,BPxN1
徐世友祁英昆张溪文韩高荣
关键词:磷元素掺杂氮化硼
氮化硼薄膜的热丝辅助等离子体增强化学气相沉积法制备及其紫外光敏性能研究
该实验以氮化硼薄膜在紫外空间光探测器件-紫外液晶光阀中的实际应用为出发点,以独立设计搭建的钟罩式热丝辅助电容耦合射频等离子体增强化学气相沉积(HF-PECVD)设备,以经过超声预处理的单晶硅和石英破璃为衬底,在低温条件下...
祁英昆
关键词:氮化硼薄膜磷掺杂
文献传递
BN薄膜的制备及BP_xN_(1-X)薄膜的紫外光敏特性被引量:1
2003年
采用热丝和射频等离子体辅助化学气相沉积方法(HF-PECVD),以单晶硅为衬底在低温(<500℃)条件下沉积氮化硼(BN)薄膜材料。通过傅立叶变换红外光谱(FTIR)、X射线衍射(XRD)及扫描电镜(SEM)对薄膜样品的组成和结构进行了分析,探讨了温度和等离子体对沉积BN薄膜的影响。此外,用紫外-可见光分光光度计(UV)测试了石英衬底上生长磷掺杂氮化硼(BPXN1-X)薄膜样品的紫外吸收特征,分析了磷掺杂对BN光学能隙的调节作用以及BPXN1-X薄膜在紫外空间探测领域的应用前景。结果表明,以单晶硅和光学石英玻璃为衬底在低温条件下用HF-PECVD方法可以沉积较高质量的BN薄膜,BN的光学能隙宽度通过磷的掺杂可以得到连续调节,在紫外空间光探测领域具有很大的应用潜力。
祁英昆张溪文徐世友韩高荣
关键词:FTIRXRDSEM
共1页<1>
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