杨旭
- 作品数：1 被引量：4H指数：1
- 供职机构：西安工业大学光电工程学院光电微系统研究所更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 直流磁控溅射制备氧化钒薄膜被引量：4
- 2010年
- 讨论了在低温下以高纯金属钒作靶材,用直流磁控溅射的方法制备出了氧化钒薄膜。通过设计正交试验,分析了氩气和氧气的流量比,溅射功率,工作压强,基底温度对氧化钒薄膜沉积速率和电阻温度系数TCR的影响,采用RTP-500型快速热处理机对氧化钒薄膜样品进行了退火热处理,实验结果表明:当Ar与O2的比例为100:4,溅射功率为120W,工作压强为2Pa时,所获得薄膜TCR较大,都在-2%/K附近,最高的可达-3.6%/K。
- 杨旭蔡长龙周顺刘欢
- 关键词：直流磁控溅射氧化钒薄膜电阻温度系数
