周顺
- 作品数：117 被引量：91H指数：5
- 供职机构：西安工业大学光电工程学院更多>>
- 发文基金：国防基础科研计划陕西省教育厅科研计划项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学自动化与计算机技术机械工程更多>>
- 火棉胶薄膜的图形化方法
- 本发明公开了一种镀制在衬底上的火棉胶薄膜的图形化方法。该方法包括如下步骤：利用薄膜沉积方法在火棉胶薄膜上沉积一种容易腐蚀的掩模层；利用微加工技术中的光刻、显影、腐蚀等方法把该掩模层进行处理，获得所需要火棉胶薄膜图形的掩模...
- 蔡长龙刘卫国牛晓玲韩雄刘欢周顺秦文罡
- 文献传递
- 一种针对激光散斑的图像噪声抑制方法及系统
- 本发明公开了一种针对激光散斑的图像噪声抑制方法及系统，涉及图像噪声抑制技术领域，首先获取两张相同位置的激光图像，并进行二维离散小波变换，得到高、低频图像；对高、低频图像进行融合，得到高频融合图像和低频融合图像；使用优化的...
- 谢一博程进周顺刘卫国
- 直流磁控溅射制备氧化钒薄膜被引量：4
- 2010年
- 讨论了在低温下以高纯金属钒作靶材,用直流磁控溅射的方法制备出了氧化钒薄膜。通过设计正交试验,分析了氩气和氧气的流量比,溅射功率,工作压强,基底温度对氧化钒薄膜沉积速率和电阻温度系数TCR的影响,采用RTP-500型快速热处理机对氧化钒薄膜样品进行了退火热处理,实验结果表明:当Ar与O2的比例为100:4,溅射功率为120W,工作压强为2Pa时,所获得薄膜TCR较大,都在-2%/K附近,最高的可达-3.6%/K。
- 杨旭蔡长龙周顺刘欢
- 关键词：直流磁控溅射氧化钒薄膜电阻温度系数
- PECVD技术制备光学薄膜的研究进展被引量：7
- 2020年
- 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在制备高激光损伤阈值的激光薄膜和渐变折射率结构的光学薄膜方面有独特的优点。通过大量的工艺研究,人们掌握了调控光学薄膜材料折射率和降低消光系数的方法。目前已知薄膜的最低折射率为1.16±0.01(632.8 nm波长处),有效拓展了薄膜材料的折射率范围。当薄膜的消光系数小于10-3时,薄膜折射率的可变范围为1.33~2.06,基本满足光学薄膜设计和制造的需求,且获得了大量中间折射率的制备工艺,基本满足光学薄膜设计和制造的需求。此外,薄膜制备工艺的稳定性和重复性也通过实验得到了验证。目前,PECVD技术已被用于制备多层光学薄膜,如减反膜、高反膜、Rugate滤光片、陷波滤光片,薄膜的光谱特性及抗激光损伤特性明显优于传统光学薄膜。特别是在渐变折射率薄膜的制造领域,PECVD技术有广阔的工程应用前景。
- 杭良毅刘卫国杭凌侠周顺
- 关键词：光学薄膜折射率消光系数
- 一种高精度多维信息光学检测系统及其检测方法
- 本发明涉及光学检测领域，具体涉及一种高精度多维信息光学检测系统及其检测方法，所述检测系统包括：CCD成像光路上依次设置的微透镜阵列、镜头、线性渐变滤光片，所述线性渐变滤光片位于平移台上，平移台通过控制器与PC连接。本发明...
- 谢一博孙泽华周顺程进刘卫国李庞跃
- 一种异质材料结构化多层薄膜吸波器及其制造方法
- 本发明公开了一种异质材料结构化多层薄膜吸波器及其制造方法，所述结构化多层薄膜包括硅基底，Ag薄膜、SiO<Sub>2</Sub>薄膜和SiN<Sub><I>x</I></Sub>薄膜从下往上依次层叠；该结构化多层薄膜整体...
- 刘卫国葛少博周顺杨鹏飞李世杰阳志强黄岳田
- 文献传递
- 一体化透镜阵列光束整形系统设计
- 2023年
- 半导体激光器在激光扫描中得到了广泛应用,但由于其快慢轴发散角差异较大,需要进行光束整形。为提高线阵半导体激光器的光束均匀性,并满足小型扫描成像系统的微型化需求,提出一体化透镜阵列光束整形系统设计方案。系统采用一体化非球面透镜对高斯光束进行整形,快轴进行准直,慢轴进行扩束,能够获得高长宽比、光强均匀分布的线光束。理论分析一体化非球面透镜阵列进行准直扩束的原理,依据费马原理确定系统初始结构参数。利用光学设计软件对系统进行仿真优化,得到快轴发散角为2.8 mrad、慢轴发散角为48.93°(长宽比为325)、能量利用率为88.79%、能量均匀度为94.51%的线光束。结果表明,此方法整形效果理想、结构简单、体积小,符合未来光束整形系统微型化的发展趋势。
- 李庞跃周顺程进赵翊博刘嘉豪刘卫国
- 关键词：光束整形光学设计
- 双晶单色器晶体切换机构
- 本发明涉及一种双晶单色器晶体切换机构。以满足对同步辐射双晶单色器工作晶体的切换，从而提供科研所需的2.1、2.3、2.5KeV（千电子伏能量单位）三个能量点的单色光束线。本发明采用晶体固定组件对三块切槽型晶体进行固定，通...
- 周顺江波阳志强冯勇
- 文献传递
- 晶体单色器微调结构设计分析
- 2016年
- 为了利用同步辐射单色光研究生物细胞、病毒等以促进生物医药学的发展,对输出单色光的晶体单色器的主要结构(微调结构)进行了设计分析.根据实际的应用要求,单色器只输出三个能量点分别为2.1keV、2.3keV和2.5keV的光束线,能量分辨率Δ≤5×10-4,角度重复精度小于3″,微调结构采用三块独立的切槽型晶体,设计了晶体安装座、柔性铰链和推杆等,利用步进电机实现晶体角度的精确微调.步进电机朝一个方向转到预设的光栅尺数值,并与自准直仪的监测数值比较.测试结果表明:角度微调的10次移动过程中,最大偏差2.79″,最小偏差-1.87″,满足重复精度小于3″的设计指标.
- 周顺冯勇阳志强江波
- 关键词：单色器柔性铰链步进电机
- 非制冷红外焦平面阵列读出电路的BCB牺牲层接触平坦化(英文)被引量：1
- 2012年
- 研究了一种基于BCB材料的牺牲层接触平坦化技术,用于红外焦平面阵列Post CMOS工艺之前对读出电路表面的平坦化,以利于微测辐射热计微桥阵列与读出电路的集成。利用该方法成功将2μm的电路表面突起,平坦化为表面起伏56 nm的平面,可替代会给器件带来颗粒和损伤的化学机械抛光(CMP)技术。并在该平坦层上方成功进行了非晶硅敏感薄膜的沉积、微桥结构的图形化以及同时作为牺牲层的BCB的释放。通过实验研究了BCB膜层的厚度与转速、固化温度的关系,实验发现BCB的收缩率随温度小范围变化,约为30%。研究了BCB的等离子刻蚀特性,表明该材料适合用等离子刻蚀的方法进行接触孔的刻蚀和牺牲层释放。最后,利用BCB牺牲层接触平坦化技术成功地在读出电路(ROIC)芯片上制作了160×120面阵的非制冷红外焦平面阵列。
- 刘欢刘卫国周顺蔡长龙
- 关键词：BCBROIC平坦化等离子刻蚀
