邹延珂
- 作品数：13 被引量：2H指数：1
- 供职机构：西南应用磁学研究所更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电气工程更多>>
- 一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺方法
- 本发明涉及微加工领域，其公开了一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺，包括包括如下步骤：打磨基片侧边和非曝光面；将基片平放于器皿中，使用清洗剂在超声波清洗机对基片进行超声处理；将基片放于陶瓷坩埚中，用热水冲洗基片；对基片...
- 邹延珂陈彦王喜生倪经周俊黄豹曹照亮李晓静
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- 一种旋磁铁氧体基片快速激光通孔方法
- 本发明公开了一种旋磁铁氧体基片快速激光通孔方法，微加工技术领域,其方法是将待通孔的旋磁铁氧体基片固定在夹具上，并通过夹具中的电阻丝对基片进行加热，然后再进行激光通孔，本发明在旋磁铁氧体基片激光通孔时，对基片进行加热，可有...
- 周俊陈宁黄河倪经邹延珂郭韦徐德超林亚宁陈彦
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- NiFe层溅射气压对顶部钉扎NiFe/FeMn薄膜静态磁性能的影响
- 2018年
- 用直流磁控溅射制备了系列Ta/NiFe/FeMn/Ta薄膜样品。利用振动样品磁强计(VSM)、X射线衍射(XRD)等手段研究了溅射气压对NiFe层交换偏置场、矫顽力、截止温度的影响。结果表明,交换偏置场随NiFe层溅射气压和NiFe层厚度的增加均减小;在较低的NiFe层溅射气压下,可以获得具有较高交换偏置场He和较低矫顽力Hc的样品;截止温度Tb随着NiFe层溅射气压的减小而增高。通过对比研究0.8Pa、0.4Pa、0.2PaNiFe层溅射气压下NiFe/FeMn薄膜的静态磁性及微结构变化,发现以上现象是由于在较低的溅射气压能够获得较好织构的NiFe(111),进而诱导出较好取向的FeMn(111)。取向良好的NiFe/FeMn薄膜产生较大的交换偏置场和较小的矫顽力及更高的截止温度。
- 邹延珂王振李俊
- 关键词：溅射气压交换偏置微结构
- 缓冲层厚度对NiFe/FeMn薄膜静态磁性能的影响被引量：1
- 2019年
- 采用直流磁控溅射法沉积了Ta/NiFe/FeMn/Ta薄膜系列样品。通过振动样品磁强计(VSM)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等检测手段研究了Ta缓冲层厚度对NiFe/FeMn薄膜交换偏置场、矫顽力的影响。VSM测试结果表明,交换偏置场He随Ta缓冲层厚度增加而增大,矫顽力Hc随随Ta缓冲层厚度增加有减小的趋势。通过AFM检测了不同厚度Ta缓冲层上生长的NiFe层表面均方根粗糙度,发现其随Ta缓冲层厚度的增加而减小,表明NiFe/FeMn界面变得更加均匀,这导致了较大的He和较小的Hc。另外,通过XRD分析,发现随着Ta层厚度的增加Ta由非晶态转化为结晶状态并先后显示出Ta(300)、Ta(200)取向,表明随着Ta缓冲层厚度增加,其织构转变也可能会导致静态磁性的变化。
- 邹延珂周俊倪径郭韦徐德超
- 关键词：缓冲层交换偏置微结构
- 铁氧体基板FePt永磁薄膜的制备方法
- 本发明涉及磁性薄膜材料的制备工艺领域，特别涉及一种铁氧体基板FePt永磁薄膜的制备方法，包括如下步骤：（A）将基片放入盛有去离子水的结晶皿中，用超声波清洗机清洗，再将基片放入盛有去离子水的陶瓷坩埚中，在可调功率设备上加热...
- 郭韦倪经黄豹邹延珂
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- 提高隧道结薄膜磁电阻效应的制备方法
- 本发明涉及一种隧道结(MTJ)薄膜的制备方法，其公开了一种可以提高巨磁电阻效应的隧道结薄膜的制备方法，包括如下步骤：(a)在基底上依次沉积底电极层、反铁磁层、钉扎铁磁层、隧穿层、自由铁磁层；(b)对制备的底电极层、反铁磁...
- 周俊倪经陈彦黄豹邹延珂郭韦曹照亮
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- 新型的旋磁铁氧体基片的平整化方法
- 本发明涉及微加工领域，其公开了一种旋磁铁氧体材料基片的平整化方法，包括如下步骤：清洗旋磁铁氧体基片；基片放入；腔室抽真空；基片加热；基片表面清洁；制备Si0<Sub>2</Sub>薄膜；基片降至室温后取出。本发明的有益效...
- 邹延珂倪经周俊陈彦黄豹郭韦
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- 一种旋磁铁氧体基片快速激光通孔方法
- 本发明公开了一种旋磁铁氧体基片快速激光通孔方法，微加工技术领域,其方法是将待通孔的旋磁铁氧体基片固定在夹具上，并通过夹具中的电阻丝对基片进行加热，然后再进行激光通孔，本发明在旋磁铁氧体基片激光通孔时，对基片进行加热，可有...
- 周俊陈宁黄河倪经邹延珂郭韦徐德超林亚宁陈彦
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- 顶电极层(Ta)与自由铁磁层(FeCoB)在退火过程中层间扩散对隧道结磁电阻效应的影响
- 近年来隧道结无论是作为读出磁头、各类传感器,还是作为磁随机存储器,都具有明显的优势,其应用前景十分看好,引起世界各国军事科学家的高度重视.有研究表明,在退火过程中顶电极层与自由铁磁层的层间扩散对MTJ的TMR 效应有较大...
- 邹延珂周俊倪经
- 铁氧体基板永磁薄膜的快速退火方法
- 本发明涉及磁性薄膜材料的退火工艺领域，其公开了一种铁氧体基板永磁薄膜的快速退火方法，包括如下步骤：（A）用N2气清洁基片；（B）放在陶瓷平板上；（C）在激光退火炉中进行高温退火处理，退火的同时在垂直膜面方向施加强磁场;（...
- 郭韦倪经周俊黄豹邹延珂
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