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陈彦

作品数:11 被引量:4H指数:1
供职机构:西南应用磁学研究所更多>>
发文基金:中国电子科技集团公司创新基金武器装备预研基金更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程理学电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇专利
  • 5篇期刊文章

领域

  • 3篇电气工程
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 5篇微加工
  • 4篇铁氧体
  • 3篇旋磁
  • 2篇软磁
  • 2篇软磁薄膜
  • 2篇酮类
  • 2篇清洗工艺
  • 2篇清洗机
  • 2篇微波铁氧体
  • 2篇微加工技术
  • 2篇微裂纹
  • 2篇激光
  • 2篇激光功率
  • 2篇光功率
  • 2篇光刻
  • 2篇超声波清洗
  • 2篇超声波清洗机
  • 2篇超声处理
  • 2篇醇类
  • 2篇大功率激光

机构

  • 11篇西南应用磁学...

作者

  • 11篇陈彦
  • 11篇倪经
  • 10篇周俊
  • 7篇邹延珂
  • 6篇郭韦
  • 5篇黄豹
  • 2篇陈学平
  • 2篇陈宁
  • 2篇李晓静
  • 2篇王喜生
  • 1篇谭士杰
  • 1篇王自力

传媒

  • 5篇磁性材料及器...

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2019
  • 2篇2016
  • 3篇2015
  • 3篇2014
  • 1篇2012
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺方法
本发明涉及微加工领域,其公开了一种基于中性溶液的铁氧体基片的清洗工艺,包括包括如下步骤:打磨基片侧边和非曝光面;将基片平放于器皿中,使用清洗剂在超声波清洗机对基片进行超声处理;将基片放于陶瓷坩埚中,用热水冲洗基片;对基片...
邹延珂陈彦王喜生倪经周俊黄豹曹照亮李晓静
文献传递
铁氧体薄膜器件的光刻多次涂胶工艺
2014年
提出了铁氧体薄膜器件光刻多次涂胶新工艺,研究了涂覆次数对光刻胶的表面粗糙度、均匀性和厚度的影响。同时结合培烘试验,对一种实际电路基片进行了验证。试验结果表明:随着光刻胶涂覆次数的增加,光刻胶厚度逐渐增大,增加幅度逐渐减小,涂覆光刻胶的表面粗糙度有明显改善,均匀性也逐渐提高。当烘焙温度为50℃、烘焙时间为25min,光刻胶与基底的附着力、感光性和耐腐蚀性均能满足铁氧体器件薄膜电路制作工艺的要求。利用多次涂胶法可有效去除电路手工修补工艺,从而提高铁氧体薄膜器件的电路图形加工质量及效率。
陈学平陈彦倪经王自力
关键词:光刻
永磁薄膜材料的研究进展被引量:1
2016年
永磁薄膜是相关电子器件及系统小型化、集成化的关键材料。首先概括介绍了永磁薄膜的常用制备技术,包括电沉积、溅射、激光脉冲沉积等方法。在此基础上,总结了各种永磁薄膜(金属合金、铁氧体、稀土化合物等)的国内外研究进展,以及在相关器件上的应用。最后展望了永磁薄膜的发展趋势和前景。
郭韦倪经周俊曹照亮陈彦
一种旋磁铁氧体基片快速激光通孔方法
本发明公开了一种旋磁铁氧体基片快速激光通孔方法,微加工技术领域,其方法是将待通孔的旋磁铁氧体基片固定在夹具上,并通过夹具中的电阻丝对基片进行加热,然后再进行激光通孔,本发明在旋磁铁氧体基片激光通孔时,对基片进行加热,可有...
周俊陈宁黄河倪经邹延珂郭韦徐德超林亚宁陈彦
文献传递
FeCo基软磁薄膜的研究与应用进展被引量:1
2016年
Fe Co基软磁薄膜以高饱和磁化强度、高截止频率为特点,在高频领域获得广泛研究与应用。概括介绍了各类Fe Co基软磁薄膜的国内外研究进展,包括非晶薄膜、纳米晶薄膜、纳米颗粒膜、图形化薄膜、多层薄膜。对Fe Co基软磁薄膜的三类重要应用:MEMS微电感、吸波材料、磁记录进行了分类综述。最后展望了Fe Co基软磁薄膜的发展趋势和前景。
郭韦倪经周俊曹照亮陈彦
关键词:软磁薄膜截止频率磁导率
提高隧道结薄膜磁电阻效应的制备方法
本发明涉及一种隧道结(MTJ)薄膜的制备方法,其公开了一种可以提高巨磁电阻效应的隧道结薄膜的制备方法,包括如下步骤:(a)在基底上依次沉积底电极层、反铁磁层、钉扎铁磁层、隧穿层、自由铁磁层;(b)对制备的底电极层、反铁磁...
周俊倪经陈彦黄豹邹延珂郭韦曹照亮
文献传递
新型的旋磁铁氧体基片的平整化方法
本发明涉及微加工领域,其公开了一种旋磁铁氧体材料基片的平整化方法,包括如下步骤:清洗旋磁铁氧体基片;基片放入;腔室抽真空;基片加热;基片表面清洁;制备Si0<Sub>2</Sub>薄膜;基片降至室温后取出。本发明的有益效...
邹延珂倪经周俊陈彦黄豹郭韦
文献传递
矩形铁氧体衬底抗蚀剂的旋涂特性被引量:1
2012年
采用半导体工艺的旋转涂胶法,在矩形铁氧体衬底上旋涂抗蚀剂,研究了其涂覆特性,给出了抗蚀剂的厚度与旋涂转速和旋涂时间的关系曲线及均匀性。随着旋涂转速的提高,抗蚀剂的厚度逐渐减薄;当旋涂转速大于2500r/min时,抗蚀剂厚度差小于5%。同时,随着旋涂时间的延长,抗蚀剂厚度也会减小,并最终趋向一个恒定值;当旋涂时间长于20s时,抗蚀剂厚度差小于5%。最后,分析了旋涂中心对抗蚀剂旋涂性能的影响。
倪经魏恭陈彦周俊谭士杰
关键词:光刻抗蚀剂旋涂
一种旋磁铁氧体基片快速激光通孔方法
本发明公开了一种旋磁铁氧体基片快速激光通孔方法,微加工技术领域,其方法是将待通孔的旋磁铁氧体基片固定在夹具上,并通过夹具中的电阻丝对基片进行加热,然后再进行激光通孔,本发明在旋磁铁氧体基片激光通孔时,对基片进行加热,可有...
周俊陈宁黄河倪经邹延珂郭韦徐德超林亚宁陈彦
文献传递
FeCoAlN软磁薄膜的制备与性能被引量:1
2014年
采用磁控溅射法在Ar+N2的混合气氛中制备FeCoAlN薄膜,并对其进行磁场真空热处理,以研究薄膜的结构、磁性及热稳定性。当N2与(N2+Ar)的流量比为9%时制备的薄膜具有良好的软磁性能。随着Al含量的增加,薄膜的热稳定性明显得到改善。Al含量为13.5%的(Fe64.8Co35.2)AlN薄膜在400℃真空磁场热处理60min,仍然具有良好的软磁性能,其饱和磁化强度μ0Ms为1.2T,易轴矫顽力为0.68kA/m,各向异性场为2.8 kA/m。
周俊陈彦倪经陈学平黄豹邹延珂
关键词:磁性能热稳定性
共2页<12>
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