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沈洁

作品数:4 被引量:8H指数:2
供职机构:上海交通大学材料科学与工程学院金属基复合材料国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技支撑计划国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇微结构
  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇碳化钒
  • 2篇力学性能
  • 2篇薄膜微结构
  • 2篇力学性
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质薄膜
  • 1篇铝基
  • 1篇可溶盐
  • 1篇基片
  • 1篇溅射参数
  • 1篇溅射气压
  • 1篇固溶
  • 1篇TEM
  • 1篇TI

机构

  • 4篇上海交通大学
  • 1篇上海电机学院

作者

  • 4篇沈洁
  • 4篇李戈扬
  • 2篇李玉阁
  • 2篇杨铎
  • 2篇李冠群
  • 1篇尚海龙
  • 1篇孙士阳
  • 1篇董玉军

传媒

  • 1篇金属学报
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇电子显微学报
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
一种气相沉积薄膜TEM样品制备技术——改进的可溶盐基片法
2012年
本文对可溶盐基片方法制备薄膜TEM样品进行了改进。改进后不仅保持了原可溶盐基片法方便、高效和快捷的特点,还可以根据表征需要获得薄膜在不同生长阶段微结构的样品。
杨铎董玉军沈洁李戈扬
关键词:TEM
靶成分和溅射参数对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响被引量:4
2012年
为了提高碳化物靶溅射薄膜的结晶程度和相应的力学性能,采用等化学计量比的vc靶(n(c):n(V)=1:1)和富V的VC靶(n(c):n(v)=0.75:1)通过磁控溅射方法制备了一系列VC薄膜,利用EDS、XRD、SEM和微力学探针研究了靶成分、溅射气压和基片温度对薄膜化学成分、微结构和力学性能的影响.结果表明,对于等化学计量比的VC靶,在Ar气压为2.4-3.2Pa的范围内可获得结晶程度和硬度较高的VC薄膜,其最高硬度为28GPa.而采用富V的VC靶时,在较低的Ar气压(0.6-1.8Pa)下就可获得结晶程度高的VC薄膜,其硬度达到31.4GPa.可见,相对于溅射参数的Ar气压和基片温度,靶的成分对于所获薄膜的成分、微结构和力学性能影响更显著,因而适当提高靶中金属组分的含量是获得结晶良好且具高硬度的VC薄膜更为有效的途径.
沈洁李冠群李玉阁李戈扬
关键词:碳化钒微结构力学性能磁控溅射
Ti,C超过饱和固溶铝基复合薄膜的微结构和力学性能被引量:1
2013年
采用Al和TiC靶通过磁控共溅射方法制备了Ti:C≈1的不同Ti和C含量的铝基复合薄膜,研究了Ti和C含量对薄膜微观结构和力学性能的影响.结果表明:Ti和C的共同加入使复合薄膜形成了同时具有置换固溶和间隙固溶特征的"双超"过饱和固溶体,复合薄膜的晶粒尺寸在较低的溶质含量下就迅速减小到100 nm以下,并随溶质含量的增加继续减小.相应地,薄膜的硬度也从纯Al的1.3 GPa迅速提高,在含0.6%(Ti,C)时可达到2.1 GPa,并在含6.4%(Ti,C)时达到最高值7.0 GPa.随溶质含量的进一步提高,复合薄膜逐渐呈现非晶态,硬度也略有降低.研究结果显示了Ti和C双超过饱和固溶对铝基薄膜具有显著的晶粒细化作用和强化效果.
尚海龙沈洁杨铎孙士阳李戈扬
关键词:微结构力学性能磁控溅射
溅射气压对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响被引量:4
2011年
采用碳化钒靶的磁控溅射方法在不同的Ar气压下制备了一系列碳化钒薄膜,利用能量分析光谱仪,X射线衍射,扫描电子显微镜,原子力显微镜和微力学探针研究了气压对薄膜成分、相组成、微结构以及力学性能的影响。结果表明磁控溅射VC陶瓷靶可以方便地制备晶体态的单相碳化钒薄膜,并且溅射气压对薄膜的化学成分、相组成、微结构以及相应的力学性有较大的影响。在溅射气压为2.4~3.2 Pa的范围内,可获得结晶程度好和硬度与弹性模量较高的碳化钒薄膜,其最高硬度和弹性模量分别为28,269 GPa。低的溅射气压(0.32~0.9 Pa)下,所得薄膜结晶较差且硬度较低;过高的溅射气压(〉4.0 Pa),薄膜的溅射速率降低,结晶变差,其硬度和弹性模量亦随之降低。低气压下薄膜碳含量较高和高气压下溅射原子能量降低可能是薄膜结晶程度降低的主要原因。
沈洁李冠群李玉阁李戈扬
关键词:碳化钒硬质薄膜微结构磁控溅射
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