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候德胜

作品数:6 被引量:4H指数:1
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 2篇科技成果

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇透镜
  • 2篇微透镜
  • 2篇微透镜列阵
  • 2篇列阵
  • 2篇激光
  • 2篇光刻
  • 1篇单层膜
  • 1篇电子器件
  • 1篇掩模
  • 1篇衰减率
  • 1篇衰减相移掩模
  • 1篇探测器
  • 1篇屏幕
  • 1篇屏幕显示
  • 1篇屏幕显示器
  • 1篇微波开关
  • 1篇微机电系统
  • 1篇微细图形
  • 1篇显示器
  • 1篇相移

机构

  • 6篇中国科学院
  • 1篇电子科技大学

作者

  • 6篇候德胜
  • 2篇杜春雷
  • 2篇白临波
  • 2篇张锦
  • 2篇邓启凌
  • 2篇陈波
  • 2篇王永茹
  • 2篇冯伯儒
  • 2篇邱传凯
  • 2篇潘丽
  • 2篇周礼书
  • 1篇谌贵辉
  • 1篇王菁
  • 1篇张万里
  • 1篇杜春蕾
  • 1篇林大键
  • 1篇罗红心
  • 1篇周崇喜
  • 1篇杨磊磊
  • 1篇赵泽宇

传媒

  • 2篇光电工程

年份

  • 1篇2005
  • 1篇2002
  • 1篇2001
  • 2篇2000
  • 1篇1996
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
衍射微透镜列阵应用技术研究
杜春蕾邱传凯白临波邓启凌潘丽陈波周礼书周崇喜王永茹候德胜
该项目首次将微透镜阵列成功集成在256×290元PtSi红外焦平面探测器芯片上。在红外成像测试系统中对集成芯片进行红外成像实验,结果良好,为提高大面阵红外探测器的探测性能提供了一个全新的技术。红外焦平面探测器的性能直接决...
关键词:
关键词:微透镜列阵红外焦平面探测器集成芯片
移动掩模法制作连续浮雕微透镜列阵
陈波杜春雷曾红军郭履容王菁潘丽邓启凌周礼书邱传凯罗红心白临波王永茹林大键候德胜杨磊磊
该项目针对科学领域对连续浮雕微透镜列阵(CMLA)的需求,提出和研究了制作CMLA的新方法----移动掩模连续光刻技术。该方法采用投影光刻或接近接触式光刻设备,通过对掩模结构的特殊设计、曝光过程中掩模的位移控制、及光刻材...
关键词:
关键词:微透镜列阵
小型波导传感器单元技术研究
1996年
本文提出用梯度有效折射率平面波导形成小型波导传感器的方案 ,对关键单元技术进行了分析和实验 。
杜春雷R.E.Kunz苗景歧候德胜
关键词:参数测量半导体激光器
串联RF MEMS开关的结构仿真被引量:4
2005年
RF微机电系统(MEMS)开关“断”状态时的隔离度依赖于其几何结构参数,因而需对其尺寸进行优化设计以获得高的隔离度。利用有限元软件HFSS对串联RFMEMS开关模型进行微波特性分析,系统研究了“断”状态下,MEMS开关的隔离度、回波损耗与其信号线宽度(w)、信号线间距(d)、气隙高度(g)、接触层面积(A)等结构参数的关系。结果表明,较小的w、较大的d、较高的g和较小的A可获得具有较小回波损耗和较大隔离度的MEMS开关。其中信号线间距对微波性能影响最大,是RFMEMS开关结构设计考虑的主要因素。设计了g=3μm,d=60μm,A=80×100μm2,w=100μm一个RFMEMS开关,在5GHz时其回波损耗小于0.2dB,隔离度大于35dB。
谌贵辉张万里彭斌蒋洪川赵泽宇候德胜
关键词:微机电系统微波开关
衰减相移掩模及其制作方法
本发明公开了一种单层膜结构的衰减相移掩模及其制作方法。该衰减相移掩模由基片上的光致抗蚀剂膜层构成同时满足衰减率和相移度要求的单层膜。其制作方法是将光致抗蚀剂均匀涂敷在玻璃或石英等透明基片上,成为衰减相移膜层,从而制成单层...
候德胜冯伯儒孙方张锦
文献传递
一种激光干涉光刻系统
一种激光干涉光刻系统,属于对微细图形光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光通过扩束准直和针孔空间滤波器后,由分光镜和反射镜装置分成三束平行光,然后相交叠加产生干涉;可通过快门挡住其中的一束,并通过转动机构使感光材料基片任...
张锦冯伯儒蒋世磊候德胜宗德蓉苏平
文献传递
共1页<1>
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