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郭惠

作品数:7 被引量:18H指数:2
供职机构:河北工业大学更多>>
发文基金:河北省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 6篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 5篇砷化镓
  • 4篇GAAS
  • 2篇晶体管
  • 2篇半导体
  • 2篇半绝缘
  • 2篇背栅
  • 2篇背栅效应
  • 2篇场效应
  • 2篇场效应晶体管
  • 2篇淬火
  • 1篇单晶
  • 1篇导体
  • 1篇电路
  • 1篇电特性
  • 1篇定理
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁性
  • 1篇偏差定理
  • 1篇强偏差定理
  • 1篇稀磁半导体

机构

  • 7篇河北工业大学

作者

  • 7篇郭惠
  • 5篇杨瑞霞
  • 5篇刘力锋
  • 1篇付浚

传媒

  • 2篇半导体情报
  • 2篇河北工业大学...
  • 1篇红外技术

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2002
  • 4篇2001
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
非齐次树上马氏链场的强偏差定理研究
树模型近年来己引起物理学、概率论及信息论界的广泛兴趣。树指标随机过程己成为近年来发展起来的概率论的研究方向之一。而强偏差定理一直是国际概率论界研究的中心课题之一。  本文通过构造适当的非负鞅,将Doob鞅收敛定理应用于几...
郭惠
关键词:马氏链场强偏差定理
文献传递
基于GaAs的新型稀磁半导体材料(Ga,Mn)As被引量:6
2001年
介绍了一种基于 Ga As的新型稀磁半导体材料 ( Ga,Mn) As,包括 ( Ga,Mn) As的制备方法、结构特性、磁性质及磁输运性质。最后 ,展望了 ( Ga,Mn)
刘力锋杨瑞霞郭惠
关键词:稀磁半导体铁磁性砷化镓半导体材料
高温淬火对GaAs中深施主缺陷的影响
2001年
研究了1 120℃ 高温淬火对非掺杂半绝缘LECGaAS中 EL2浓度的影响.发现真空条件T,在1120℃热处理2h~8h并快速冷却后,样品中EL2浓度下降近一个数量级,提高高温过程中的 AS压,可抑制 EL2浓度的大幅下降.
杨瑞霞刘力锋郭惠
关键词:砷化镓集成电路
NDLECSI GaAs衬底材料对MESFET器件性能的影响
GaAs晶体是一种电学性能优越的Ⅲ—Ⅴ族化合物半导体材料,以其为衬底制作的半导体器件及集成电路由于具有信息处理速度快、超高频、低功耗、低噪声等突出的优点而受到青睐,成为近年来研究的热点。以非故意掺杂/(ND/)液封直拉/...
郭惠
关键词:砷化镓金属半导体场效应晶体管背栅效应
文献传递
热处理对非掺杂半绝缘LEC GaAs电特性的影响被引量:2
2001年
对非掺杂(ND)半绝缘(SI)液封直拉(LEC)GaAs单晶在 950℃下进行了不同 As压的热处理,研究了热处理对材料电特性的影响.发现在950℃温度和低As压条件下 进行14h热处理,可在样品中引入本征受主缺陷,并导致体霍尔迁移率大幅下降和体电阻 率明显增加.这些受主缺陷的产生是由于高温和低 AS压条件下 GaAs晶体中发生 As间隙 原子的外扩散.提高热处理过程中的As气压,可抑制这些受主缺陷的产生和电参数的变化.
刘力锋杨瑞霞郭惠
关键词:电特性单晶
热处理和淬火影响GaAs中EL2浓度机理的研究被引量:9
2002年
对非掺杂 (ND)半绝缘 (SI)液封直拉 (LEC)GaAs单晶在 5 0 0~ 1170℃温度范围进行了单步和多步的热处理和淬火 ,研究了热处理及淬火对GaAs中EL2浓度的影响 。
刘力锋杨瑞霞郭惠
关键词:半绝缘砷化镓淬火
GaAs MESFET中的背栅效应被引量:2
2001年
随着集成电路集成度的提高 ,器件间距不断减小 ,在 Ga As MESFET中产生了一种被称为背栅效应的有害寄生效应。由于器件间距越来越小 ,某一个器件的电极可能就是另一个器件的背栅 ,背栅效应影响了集成电路集成度的提高 ,因此背栅效应在国内外引起了重视。
郭惠杨瑞霞付浚刘力锋
关键词:背栅效应MESFET砷化镓场效应晶体管
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