车德良
- 作品数：7 被引量：26H指数：3
- 供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学金属学及工艺化学工程更多>>
- 多弧离子镀氮化物薄膜的性能及应用
- 本文综述了多弧离子镀沉积技术的原理和发展，阐述了多弧离子镀沉积技术在工业方面的应用。
介绍了多弧离子镀设备构成，并以Cr、Ti、TiAl靶为例，测量了实验系统中影响沉积薄膜性能的有关参数。采用多弧离子镀沉积Cr...
- 车德良
- 关键词：多弧离子镀显微硬度耐磨性
- 文献传递
- 氮分压对电弧离子镀CrNx薄膜结构与性能的影响
- 采用电弧离子镀技术,在不同N分压下沉积了一系列Cr/CrNx薄膜。并使用X射线衍射技术(XRD)、努普硬度计和UMT型球-盘摩擦试验机分别测试了薄膜相结构、显微硬度和摩擦磨损性能。研究了N分压对薄膜相组成、硬度、摩擦磨损...
- 钟彬车德良苟伟李国卿陈玲玲
- 关键词：电弧离子镀显微硬度
- 文献传递
- 非平衡磁控溅射系统的离子束流控制被引量：2
- 2004年
- 在非平衡磁控溅射沉积非磁性金属薄膜过程中,离子 原子到达比、沉积速率等参数是影响薄膜结构和性能的重要因素。根据非平衡磁控溅射沉积过程中离子的分布特点,分别考虑离子和中性粒子的传输,导出了对圆形平面靶非平衡磁控溅射沉积薄膜的放电功率、气压和离子束流密度等参数之间的关系,阐明了放电参数对于沉积过程离子束流密度等参数的影响。在Ar放电条件下,测量了系统的伏安特性;采用偏压平面离子收集电极测量了溅射系统轴向离子束流密度随不同的气压、溅射电流和空间位置的变化规律。结果表明模型分析的结论和实验数据的变化趋势相符合。
- 牟宗信李国卿黄开玉车德良
- 关键词：放电参数放电功率
- 多弧离子镀沉积过程中等离子体参数对薄膜沉积的影响被引量：6
- 2006年
- 采用平面探针测试了衬底附近的电流密度,弧电流和衬底偏压的增加均有助于增加到达衬底附近的离子的数量。弧电流增加引起衬底的温升,衬底偏压对衬底温度影响较小。采用多弧离子镀技术沉积C r-N薄膜,衬底偏压对薄膜的硬度影响较小;弧电流增大,薄膜的硬度随之降低。XRD分析表明,弧电流较高时,不利于C r-N相的形成,薄膜中以C r的宏观液滴为主,薄膜硬度较低。
- 车德良钟彬苟伟李国卿陈玲玲
- 关键词：多弧离子镀偏压
- 非平衡磁控溅射沉积系统伏安特性模型研究被引量：8
- 2004年
- 非平衡磁控溅射沉积系统的伏安特性对阴极溅射和薄膜沉积过程具有重要的影响 .通过分析在常规磁控溅射沉积系统中非平衡磁场对于放电过程的影响 ,根据蔡尔得定律研究了非平衡磁场对磁控溅射沉积系统伏安特性影响的基本规律 ;
- 牟宗信李国卿车德良黄开玉柳翠
- 关键词：等离子体金属薄膜伏安特性磁场分布
- 非平衡磁控溅射系统离子束流磁镜效应模型被引量：3
- 2005年
- 为了研究非平衡磁控溅射沉积系统的等离子体特性 ,采用常规磁控溅射靶和同轴约束磁场构成非平衡磁控溅射沉积系统 .在放电空间不同的轴向位置 ,Ar放电 ,0 2Pa和 15 0V偏压条件下 ,采用圆形平面离子收集电极 ,测量不同约束磁场条件下的饱和离子束流密度 .研究结果表明 ,在同轴磁场作用下 ,收集电极的离子束流密度能达到饱和值 9mA cm2 左右 ,有利于在沉积薄膜的过程中产生离子轰击效应 .根据磁流体理论分析了同轴约束磁场形成的磁镜效应和对放电过程的影响机理 .实验与模型计算结果的比较表明 ,模型从理论上表达了同轴磁场约束对非平衡磁控溅射等离子体特性的影响规律 .
- 牟宗信李国卿秦福文黄开玉车德良
- 关键词：磁镜非平衡磁控溅射束流离子束等离子体集电极
- 单重态氧发生器轻型真空储罐的研究及优化设计被引量：1
- 2006年
- 单重态氧发生器是化学氧碘激光器真空条件下使用的核心部件,为减轻自重,采用碳纤维复合材料取代不锈钢制作单重态氧发生器。本文采用有限元分析方法,探索采用树脂复合材料制作真空罐体和封头的设计方法和优化方案。研究表明,其强度和真空性能均达到设计要求,为采用现代方法设计真空设备开辟新路。
- 陈文武李国卿桑凤亭蔡龙刘宇时金玉奇车德良葛增杰张长良
- 关键词：单重态氧发生器真空有限元分析碳纤维
