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王文东

作品数：64 被引量：12H指数：3
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信金属学及工艺理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 55篇专利
  • 7篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 4篇一般工业技术
  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 40篇等离子
  • 39篇喷涂
  • 36篇等离子喷涂
  • 36篇离子喷涂
  • 25篇涂层
  • 21篇SUB
  • 18篇等离子体喷涂
  • 18篇陶瓷
  • 18篇陶瓷涂层
  • 12篇刻蚀
  • 11篇喷涂技术
  • 9篇信号
  • 9篇碳化硼
  • 9篇喷涂设备
  • 8篇等离子喷涂技...
  • 8篇电路
  • 8篇杂色
  • 8篇射频
  • 8篇射频电源
  • 8篇相位

机构

  • 62篇中国科学院微...
  • 3篇北京科技大学
  • 2篇中国石油大学...
  • 1篇中国石油大学...
  • 1篇北京联合涂层...

作者

  • 64篇王文东
  • 47篇夏洋
  • 40篇李勇滔
  • 29篇刘邦武
  • 15篇邵花
  • 13篇闫坤坤
  • 12篇李英杰
  • 6篇李超波
  • 6篇罗小晨
  • 5篇夏洋
  • 2篇赵嵩卿
  • 2篇赵章琰
  • 2篇汪明刚
  • 2篇孙小孟
  • 2篇刘杰
  • 1篇张庆钊
  • 1篇刘金虎
  • 1篇张有茶
  • 1篇赵昆
  • 1篇刘训春

传媒

  • 2篇金属热处理
  • 2篇热加工工艺
  • 1篇功能材料
  • 1篇热喷涂技术
  • 1篇应用物理

年份

  • 2篇2018
  • 1篇2017
  • 10篇2016
  • 10篇2015
  • 10篇2014
  • 24篇2013
  • 1篇2012
  • 3篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇1997
  • 1篇1993
共 64 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种低压等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法
本发明涉及半导体设备中刻蚀工艺腔室内表面防蚀处理技术领域，具体涉及一种低压等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法。所述方法，包括如下步骤：步骤（1），选择碳化硼粉末，并将碳化硼粉末送入真空等离子喷涂设备；步骤（2），对待喷涂...
王文东刘邦武黄春夏洋
文献传递
一种Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>耐侵蚀陶瓷涂层的改进方法
本发明涉及大气等离子喷涂技术领域，具体涉及一种Y<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>耐侵蚀陶瓷涂层的改进方法。所述改进方法，包括如下步骤：步骤（1），选择纯度大于99.95％的Y<Sub>2</Sub>O<...
邵花王文东夏洋李勇滔
文献传递
一种电路单元
本发明涉及放大器技术领域，具体涉及一种补偿射频场效应管非线性电容的电路单元。所述电路单元，包含电压源、开关二极管、去耦电容和变容二极管，所述电压源与所述开关二极管串联，串联后的电路与所述去耦电容并联，并联后的电路与所述变...
赵章琰李勇滔李英杰夏洋王文东
文献传递
一种全时测量PV组件功率特性的装置
本发明公开了一种全时测量PV组件功率特性的装置，包括太阳光模拟器、工件台、电信号测试电路和运算控制器，工件台为旋转工件台，工件台分别与电信号测试电路、运算控制器相连接，电信号测试电路与运算控制器相连接；其中，太阳光模拟器...
李勇滔夏洋刘邦武王文东
文献传递
一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法
本发明提供了一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法，包括如下步骤：步骤(1)，将碳化硼粉和碳粉均匀混合，将混合后的粉末送入等离子体喷涂设备；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过所述等离子体喷涂设备在所述...
王文东黄春闫坤坤夏洋
文献传递
可实现快速阻抗匹配的射频电源系统
本发明公开了一种可实现快速阻抗匹配的射频电源系统，包括射频功率发生器和阻抗匹配器，射频功率发生器输出的射频功率信号的频率根据阻抗匹配器获取的检测值来变化；阻抗匹配器包括检测器、控制器和执行机构；执行机构包括固定阻抗元件、...
李勇滔孙小孟李英杰夏洋王文东
文献传递
甩带Cu-Co合金的巨磁电阻及其微结构研究
王文东
关键词：巨磁电阻金属导电材料
一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法
本发明涉及半导体刻蚀机内衬及石英表面防蚀处理技术领域，具体涉及一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法。所述制备方法，包括如下步骤：步骤（1），选择碳化硼粉末，并将碳化硼粉末送入等离子喷涂设备；步骤（2），对待喷涂的石英...
王文东夏洋李楠
文献传递
刻蚀腔室内衬用抗等离子体腐蚀涂层的研究现状被引量：1
2014年
干法刻蚀(等离子体刻蚀)技术产生的等离子体会对半导体制造工艺以及微电子IC制造工艺中的刻蚀腔室内衬产生腐蚀。本文综述了国内外腔室防等离子体腐蚀用材料的发展历程与现状,从耐等离子体刻蚀材料、悬浮液等离子喷涂技术和在线监测技术领域的发展展望了抗等离子体刻蚀涂层的未来发展趋势。
张有茶夏洋贾永昌张庆钊王文东刘金虎王聪瑜
关键词：等离子体刻蚀在线监测
射频信号相位可数字式调节的射频电源
本发明公开了一种射频信号相位可数字式调节的射频电源，所述射频电源包括射频信号发生器、射频功率放大电路、供电线路和射频功率检测器；所述射频信号发生器包括相位调节电路，所述相位调节电路用于调节外输入射频信号的相位。由于本发明...
李勇滔李英杰夏洋王文东
文献传递
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