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王占山

作品数:27 被引量:48H指数:4
供职机构:中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金应用光学国家重点实验室开放基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信生物学更多>>

文献类型

  • 26篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 16篇理学
  • 15篇机械工程
  • 4篇电子电信
  • 2篇生物学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 19篇软X射线
  • 15篇多层膜
  • 6篇正入射
  • 6篇入射
  • 6篇射线
  • 5篇软X射线多层...
  • 5篇X射线
  • 4篇随机数
  • 4篇光学
  • 4篇光学元件
  • 3篇显微术
  • 3篇激光
  • 2篇等离子体
  • 2篇生物样品
  • 2篇透射
  • 2篇透射光
  • 2篇透射光栅
  • 2篇显微镜
  • 2篇溅射
  • 2篇光刻

机构

  • 27篇中国科学院长...
  • 4篇吉林工业大学
  • 3篇中国科学院上...
  • 2篇上海大学
  • 2篇中国科学技术...
  • 1篇吉林工学院

作者

  • 27篇王占山
  • 17篇曹健林
  • 12篇陈星旦
  • 10篇马月英
  • 6篇吕俊霞
  • 5篇高宏刚
  • 5篇刘毅楠
  • 4篇张铁强
  • 3篇柯常军
  • 2篇徐向东
  • 2篇曹健林
  • 2篇谭维翰
  • 2篇洪义麟
  • 2篇付绍军
  • 2篇裴舒
  • 1篇乐孜纯
  • 1篇马国彬
  • 1篇翁志成
  • 1篇张俊平
  • 1篇陈波

传媒

  • 12篇光学精密工程
  • 3篇光学学报
  • 2篇科学通报
  • 2篇强激光与粒子...
  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇原子能科学技...
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇中国兵工学会...

年份

  • 12篇1999
  • 7篇1998
  • 2篇1997
  • 4篇1996
  • 1篇1994
  • 1篇1990
27 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
提高光通量的软X射线非周期多层膜的数值模拟被引量:3
1999年
在周期多层膜基础上,采用随机数方法找到适当的非周期膜系,极大地提高了反射光通量,并给出了整体设计步骤。模拟计算结果表明非周期多层膜能扩展带宽和提高反射率积分值。在12.4~20.1nm波段内,最佳非周期多层膜与峰值在中心波长λ=16.25nm处的周期多层膜相比,理论积分反射率提高了75%。
柯常军王占山张铁强曹健林陈星旦
关键词:多层膜软X射线随机数
软X射线宽带多层膜设计与实验
1999年
以周期膜理论为基础 ,改进了已有的设计方法 ,采用随机数的方法在 1 8~ 2 0nm波段设计了积分反射率最大的宽带多层膜 ,理论上得到了高于周期膜系 8%的积分反射率 .同时给出了整体的设计步骤 ,并用磁控溅射方法对其进行了制备 .最后的X射线衍射测量和反射率的相对测试表明 ,与周期膜系相比 ,非周期多层膜的带宽展宽 ,反射率积分值增加 ,但峰值反射率略有降低 .膜厚变化的无规律性使得非周期多层膜的制备更加困难 ,进一步提高膜厚控制精度是今后实验的重点 .
王占山柯常军马月英张铁强曹健林陈星旦
关键词:软X射线多层膜随机数磁控溅射反射率
软X射线多层膜成像系统带宽匹配条件研究被引量:1
1998年
从多层膜反射软X射线的特性出发,分析了两块多层膜组成系统的光强传输效率和位相变化关系,给出了成像系统带宽匹配条件。
王占山曹健林
关键词:软X射线多层膜成像系统
用透射光栅谱仪测量多层膜的反射特性被引量:3
1999年
软 X 射线多层膜是当前应用光学和工程光学的研究热点之一,反射率是其性能和膜层质量最直观的参数,它的测量对了解多层膜性能和改进多层膜制备工艺具有重要意义。本文介绍采用带有前置光学系统的大面积透射光栅光谱仪分光,让软 X 射线多层膜反射+ 1 级或- 1 级软 X 射线,用国产的 S I O F M 型 X 射线胶片接受软 X射线,通过测量可定性地判断多层膜制备质量,为改进多层膜制备工艺提供重要的参考依据。
王占山
关键词:软X射线多层膜反射率
极紫外投影光刻技术被引量:5
1998年
极紫外光刻最有可能成为下世纪初批量生产线宽小于 0 1μm集成电路的技术 ,倍受世界各国 ,尤其是美国和日本两个集成电路生产大国的密切关注 ,近年来得到了飞速发展 .先后在极紫外光刻用无污染“碎片”激光等离子体光源、高反射率极紫外多层膜制备技术、面形精度达亚纳米表面粗糙度均方根值小于0 3nm的非球面超光滑表面加工与检测技术、无应力光学装校与调整、缺陷密度极小的反射式掩模、适于极紫外光曝光的表面成象光刻胶技术和稳定性达纳米量级工作台与对准精度达 15nm对准系统等关键技术上取得了重要进展 .已用极紫外光刻实验装置制作出线宽达 0 1μm的门电路 ,整个制作过程除光刻外 ,其他技术都是现有的集成电路制作技术 . 0 1μm线宽门电路研制成功表明极紫外光刻技术适合与现有其他技术相匹配 ,适合大批量生产 ,是现有光刻技术的合理延续 .我国在极紫外投影光刻各单元技术研究中有相当基础 ,在适当资助下 ,完全可以发展我国自己的极紫外投影光刻技术 .
王占山曹健林陈星旦
关键词:集成电路光刻技术极紫外投影光刻
软 X 射线接触式显微术抗蚀膜显影条件分析
1997年
按照生物样品各分辨单元具有多种透过率的特点,设计了一个多衬度的台阶状蛋白质模型,模拟各台阶的真实成像条件,测量了各台阶所对应的抗蚀膜显影速率曲线,对显影条件作了定量分析,并将显影条件与分辨率紧密结合起来,找到了一种较好的定量确定显影条件的方法。
刘毅楠王占山李哲曹健林林宜平
关键词:生物样品
带前置光学系统的软X射线透射光栅光谱仪被引量:3
1999年
软X射线检测是激光等离子体诊断中最复杂而又最重要的一项工作。
王占山田振华陈斌王智高劲松田兴志陈志伟范品忠陈星旦
关键词:软X射线透射光栅光谱仪激光等离子体
软X射线多层膜色散元件被引量:4
1994年
介绍研制软X射线多层膜色散元件的初步结果.结合M_0/S_1、W/Si色散元件的研制实例,讨论了包括设计、性能模拟计算、镀膜工艺、检测等在内的制备过程.这些元件将在X射线光学和X射线光谱学的有关研究工作中得到应用.
曹健林马月英张俊平高宏刚王占山裴舒陈星旦
关键词:软X射线
软X射线多层反射膜的一种新型设计方法被引量:5
1999年
在循环递推法基础上加入随机数运算,得到一种简易、精度高、有较高实用价值的多层发射膜设计方法。给出了设计步骤,进行了一系列多层膜设计。通过比较,这种方法与复振幅平面法所得结果非常接近,甚至有的多层膜的设计结果更好。
柯常军王占山张铁强曹健林陈星旦
关键词:软X射线多层膜随机数设计方法光学元件
软X射线接触式显微术研究
1999年
按照生物样品各分辨单元具有多种透过率的特点,设计了一个多衬度的台阶状蛋白质模型,根据曝光量与衬度,信噪比,抗蚀膜性能的关系,确定了曝光量。同时模拟样品模型各台阶的真实成像条件,测量了各台阶所对应的抗蚀膜显影速率曲线,对显影条件作了定量分析。将曝光量,显影条件,与分辨率紧密结合起来,找到了一种较好的实验方法。
刘毅楠王占山李哲曹健林林宜平
关键词:软X射线显微术生物样品曝光量
共3页<123>
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