您的位置: 专家智库 > >

马月英

作品数:51 被引量:115H指数:7
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国科学院知识创新工程更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 38篇期刊文章
  • 6篇会议论文
  • 5篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 31篇理学
  • 21篇机械工程
  • 9篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 33篇多层膜
  • 23篇软X射线
  • 14篇光学
  • 11篇溅射
  • 10篇软X射线多层...
  • 9篇光学元件
  • 8篇激光
  • 8篇X射线
  • 8篇磁控
  • 7篇磁控溅射
  • 6篇正入射
  • 6篇入射
  • 6篇射线
  • 5篇滤光片
  • 5篇极紫外
  • 4篇均匀性
  • 4篇宽带
  • 4篇基底
  • 4篇溅射法
  • 4篇反射镜

机构

  • 27篇中国科学院长...
  • 20篇中国科学院长...
  • 3篇中国科学院
  • 2篇同济大学
  • 2篇中国科学技术...
  • 1篇大连铁道学院
  • 1篇吉林工业大学
  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 50篇马月英
  • 20篇曹健林
  • 18篇裴舒
  • 15篇吕俊霞
  • 14篇陈星旦
  • 11篇曹健林
  • 10篇王占山
  • 8篇高宏刚
  • 8篇金春水
  • 7篇陈波
  • 6篇刘世界
  • 6篇刘毅楠
  • 5篇曹健林
  • 5篇王海峰
  • 5篇王孝东
  • 5篇郑鑫
  • 4篇何飞
  • 3篇张俊平
  • 3篇林强
  • 2篇乐孜纯

传媒

  • 6篇光学精密工程
  • 6篇光学学报
  • 6篇光学仪器
  • 4篇真空科学与技...
  • 2篇中国激光
  • 2篇强激光与粒子...
  • 2篇原子能科学技...
  • 2篇第十一届全国...
  • 1篇科学通报
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇物理
  • 1篇光学技术
  • 1篇光子学报
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇光学机械
  • 1篇自然科学进展...
  • 1篇第十一届全国...
  • 1篇中国兵工学会...

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 3篇2015
  • 1篇2011
  • 1篇2008
  • 3篇2003
  • 2篇2002
  • 7篇2001
  • 3篇2000
  • 11篇1999
  • 3篇1998
  • 2篇1997
  • 5篇1996
  • 4篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1992
  • 1篇1991
51 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
软X射线宽带多层膜设计与实验
1999年
以周期膜理论为基础 ,改进了已有的设计方法 ,采用随机数的方法在 1 8~ 2 0nm波段设计了积分反射率最大的宽带多层膜 ,理论上得到了高于周期膜系 8%的积分反射率 .同时给出了整体的设计步骤 ,并用磁控溅射方法对其进行了制备 .最后的X射线衍射测量和反射率的相对测试表明 ,与周期膜系相比 ,非周期多层膜的带宽展宽 ,反射率积分值增加 ,但峰值反射率略有降低 .膜厚变化的无规律性使得非周期多层膜的制备更加困难 ,进一步提高膜厚控制精度是今后实验的重点 .
王占山柯常军马月英张铁强曹健林陈星旦
关键词:软X射线多层膜随机数磁控溅射反射率
软X射线激光多层膜均匀性控制技术
软X射线激光技术在近年来得以较快的发展,而多层膜是其不可缺少的一项基础技术,软X射线激光多层膜本身的要求使得多层膜的结构性需达到很高的水平.现就软X射线激光多层膜的均匀性控制技术进行研究,以期得到更加精确的膜层结构.
林炳金春水马月英裴舒曹健林
关键词:软X射线激光多层膜
文献传递
用光学全息方法研制软X射线Bragg-Fresnel光学元件
1999年
介绍了软X射线Bragg Fresnel光学元件的特点 ,并以磁控溅射法制备多层膜 ,再采用光学全息方法在涂有光刻胶的多层膜表面上形成波带片图形 ,通过显影。
王占山马月英吕俊霞高宏刚刘毅楠裴舒曹健林徐向东洪义麟付绍军
关键词:软X射线光学元件多层膜
用磁控溅射法制备软X射线多层膜被引量:4
1995年
本文介绍用直流-射频平面磁控溅射法制备软x射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,严格按照设计周期制备了多层膜样品,并给出了X射线衍射仪小角衍射的检测结果。
张俊平马月英高宏刚陈斌裴舒吕俊霞曹健林
关键词:磁控溅射软X射线多层膜
X光多层膜反射镜的损伤与破坏实验研究被引量:2
1999年
产生 X 光激光的等离子体环境对 X 光多层膜反射镜造成损伤与破坏。通过模拟实验,给出国产 Mo/ Si多层膜反射镜的破坏阈值大约是 010 J/cm 2,在这个辐照剂量下,多层膜表面均方粗糙度明显增加,反射率几乎降至为零。提出了防止多层膜反射镜破坏的一些想法。
淳于书泰谷渝秋尤永禄黄文忠何颖玲马月英裴舒曹建林
28.4nm和30.4nm波段的C/Si多层膜被引量:3
1999年
对于宇宙的探讨,特别是对太阳大气层的研究,需要用X射线、极紫外及远紫外波段望远镜来观测。我们报道了一种新的材料组合C/Si用于28.4nm(43.65eV)和30.4nm (40.78eV)波段的多层膜反射镜,并且用离子束溅射装置制备了正入射条件下的C/Si多层膜反射镜。同时,我们用软X射线反射计测量了其反射率,在正入射条件下测得最大反射率达14% (30.4nm )。
王国田马月英曹健林
关键词:X射线光学多层膜离子束溅射望远镜
30.4nmSi/C多层膜反射镜的制备与测量被引量:1
2000年
采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。
刘毅楠马月英斐舒尼启良胡卫兵曹健林
关键词:软X射线多层膜离子束溅射反射镜
磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜被引量:1
1999年
用DC和RF磁控溅射法制备出了波长小于 10nm波段的Mo/B4 C软X射线多层膜反射镜。掠入射X射线衍射仪的测量结果表明 ,磁控溅射法有很高的控制精度 ,制备出的Mo/B4 C软X射线多层膜周期结构非常好 ,表 (界 )面粗糙度非常小 ,约为 0 4nm。
吕俊霞马月英裴舒曹健林陈星旦
关键词:软X射线多层膜
Mo/B_4C软X射线多层膜结构特性研究被引量:1
2000年
在 6.7<λ<1 0 .0 nm波段选择 Mo/ B4 C作为多层膜材料 ,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品 .这些多层膜样品的周期结构为 3 .3 5 nm~ 5 .5 2 nm.采用 X射线衍射仪和透射电镜 (TEM)对样品的微观结构进行研究 .结构表明 ,这些多层膜样品的结构质量很高 ,并有很好的热稳定性 .
吕俊霞马月英裴舒陈星旦曹健林
关键词:多层膜软X射线
13.9和19.6nm正入射Mo/Si多层膜反射镜的反射率测量被引量:4
2008年
为了进一步研究13.9 nm类镍银和19.6 nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜。设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组建了一套适合反射率测量的实验装置,利用此装置测量了实验室制备的多层膜反射镜的反射率。测量之前对单色仪进行了标定并对光源稳定性进行了测量,结果显示,波长准确度是0.08 nm,光源信号抖动范围<5%,光源稳定性好。反射率测量结果显示,实验室能够制备出中心波长分别是13.91和19.60 nm的Mo/Si多层膜反射镜,相应反射率分别为41.9%和22.6%,半宽度为0.56和1.70 nm。同时还用WYKO测量得到13.9和19.6 nmMo/Si多层膜的表面粗糙度分别为0.52和0.55 nm。
李敏董宁宁刘震刘世界李旭范鲜红王丽辉马月英陈波
关键词:表面粗糙度
共5页<12345>
聚类工具0