栾亚
- 作品数：5 被引量：12H指数：2
- 供职机构：西安理工大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 闭合状态对磁控溅射Cr镀层生长过程的影响被引量：4
- 2009年
- 利用非平衡磁控溅射离子镀技术于不同磁场闭合状态下在单晶硅基体上制备出Cr膜,采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪观察并分析了不同闭合状态下镀层的微观形貌和晶体择优生长趋势。结果表明:闭合状态显著影响着Cr膜生长过程中的柱状晶取向和致密度。不闭合状态下,Cr膜截面组织为典型疏松的柱状晶体组织,镀层沿(110)面择优生长;半闭合状态下,Cr膜截面组织为较致密的柱状晶体组织,在不同生长时期,镀层沿(110)或(200)面择优生长;完全闭合状态下,Cr膜截面组织在初始1μm范围内,为致密纤维状晶体组织,随后呈现致密的无明显柱状晶体形貌,镀层沿(200)面择优生长。
- 栾亚丁小柯蒋百灵鲁媛媛
- 关键词：磁控溅射
- 磁场闭合度对等离子体空间分布状态及CrN_x镀层沉积效率的影响被引量：2
- 2011年
- 采用Langmuir探针测定了不同磁场闭合状态下辉光放电环境中的电子温度(Te)、电子密度(ne)及离子密度(ni)空间分布状态,探讨了磁场闭合度对CrNx镀层沉积效率的影响机理。结果表明:三种磁场闭合状态下,电子温度都在靶面处最高,相邻靶间对称面最低,真空腔内部出现一个直径约240 mm的均匀中心区域;电子密度和离子密度在三种条件下均于真空腔中心处最高,边缘处最低,而随磁场闭合度的整体变化规律表现为这两个参数值在不闭合状态时小于半闭合和完全闭合状态时;完全闭合状态下镀层的厚度明显大于半闭合和不闭合状态下的镀层厚度。
- 蒋百灵曹政鲁媛媛栾亚
- 关键词：电子温度电子密度离子密度
- 靶基距对C/Cr复合镀层厚度影响的研究被引量：2
- 2006年
- 以四靶闭合场非平衡磁控溅射方法制备C/Cr镀层,用球痕法测量镀层厚度,研究了镀层厚度及均匀性随靶基距的变化规律,并探讨了靶基距影响镀层厚度的机理。结果表明:靶基距对镀层厚度有明显影响;镀层厚度随靶基径向距增大而显著减小,随靶基轴向距的增加变化不大;试样放置位置越靠近真空室中心区域,镀层厚度均匀性越好;磁场空间分布和粒子迁移中的散射碰撞是导致靶基距影响镀层厚度的主要原因。
- 邓凌超栾亚张国君蒋百灵
- 关键词：厚度
- 非平衡度和闭合状态对磁控溅射离子镀过程的影响被引量：4
- 2009年
- 利用非平衡磁控溅射离子镀技术于不同磁控管非平衡度和磁场闭合状态下在单晶硅基体上制备出Cr镀层,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪分析了不同生长阶段Cr镀层的微观形貌、表面粗糙度和晶体择优生长趋势的变化。结果表明:磁控管非平衡和磁场闭合状态的改变显著影响着Cr镀层生长过程中的结晶取向、表面粗糙度和致密度。不同非平衡度下,Cr镀层组织为疏松的柱状晶体组织,镀层表面粗糙度随磁控管非衡度的增大而增大。随着磁场闭合程度的增加,Cr镀层组织由疏松的柱状晶体组织,向较致密的柱状晶体再向致密的无明显柱状晶体的组织转化,镀层晶体有沿低能量(110)晶面生长向高能量(200)晶面过渡择优生长的趋势。
- 蒋百灵文晓斌栾亚丁小柯李显
- 关键词：磁控溅射离子镀粗糙度
- 磁控溅射参数对含铬类石墨碳膜沉积速率、组织与性能影响的研究
- 本文通过分别改变磁控溅射时铬靶电流和基体负偏压来研究这两种主要溅射参数对含铬类石墨碳膜沉积速率的影响,系统研究了铬靶电流对含铬类石墨碳膜努氏硬度、划痕结合强度和摩擦磨损性能的影响规律,应用Raman光谱以及四点探针法(F...
- 栾亚
- 关键词：沉积速率性能评价磁控溅射
- 文献传递
