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倪翰

作品数：7 被引量：7H指数：1
供职机构：武汉材料保护研究所更多>>
相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇会议论文
  • 2篇期刊文章

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇气相沉积
  • 2篇氮化
  • 2篇等离子处理
  • 2篇等离子体
  • 2篇物理气相沉积
  • 2篇离子氮化
  • 2篇溅射
  • 2篇PVD
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇阳极
  • 1篇真空
  • 1篇真空离子
  • 1篇渗硫
  • 1篇离子渗
  • 1篇离子渗硫
  • 1篇脉冲偏压
  • 1篇金属
  • 1篇辅助阳极
  • 1篇PMD

机构

  • 7篇武汉材料保护...

作者

  • 7篇倪翰
  • 7篇凌国伟
  • 5篇萧域星
  • 2篇王万泉

传媒

  • 2篇真空
  • 1篇第四届全国表...
  • 1篇全国薄膜学术...
  • 1篇首届全国耐蚀...
  • 1篇首届全国耐蚀...

年份

  • 3篇2001
  • 2篇1999
  • 2篇1998
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
真空离子渗硫技术及设备特点
简要介绍了离子渗硫技术，论述了当前离子渗硫技术的发展、应用的一些方面。提出了有关设备的几个关键问题。
凌国伟倪翰萧域星
关键词：离子渗硫等离子体表面处理
磁控溅射技术的新进展
凌国伟倪翰萧域星
关键词：磁控溅射
真空电弧沉积技术发展
凌国伟倪翰萧域星
关键词：脉冲偏压
文献传递
材料表面等离子处理技术发展趋势和特点
本文就材料表面等离子处理技术近年来的技术发展趋势和特点加以论述,并对一些要点进行了讨论。
凌国伟王万泉倪翰
关键词：物理气相沉积PVD离子氮化
文献传递
材料表面等离子处理技术发展趋势和特点
本文就材料表面等离子处理技术近年来的技术发展趋势和特点加以论述,并对一些要点进行了讨论.
凌国伟王万泉倪翰
关键词：物理气相沉积PVD离子氮化
文献传递
阴极电弧沉积技术的新发展被引量：6
1999年
本文介绍了三件阴极电弧沉积的专利。这些专利代表了近年来阴极电弧沉积技术的发展状况，并给予简要的一些评论。
凌国伟倪翰萧域星
关键词：气相沉积辅助阳极金属
等离子增强磁控溅射沉积技术(PMD)被引量：1
2001年
本文介绍了等离子增强磁控溅射沉积技术。有关技术背景、技术发展、技术应用都作了论述。对技术关键问题进行了评论 。
凌国伟倪翰萧域星
关键词：磁控溅射等离子体气相沉积PMD
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