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穆甫臣

作品数:21 被引量:51H指数:4
供职机构:北京大学信息科学技术学院微电子研究院更多>>
发文基金:北京市科技新星计划国家教育部博士点基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 19篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 21篇电子电信

主题

  • 7篇欧姆接触
  • 7篇晶体管
  • 5篇载流子
  • 5篇热载流子
  • 5篇可靠性
  • 5篇场效应
  • 5篇场效应晶体管
  • 4篇砷化镓
  • 4篇热载流子效应
  • 4篇阻挡层
  • 4篇扩散阻挡层
  • 3篇异质结
  • 3篇半导体
  • 3篇半导体器件
  • 3篇薄栅
  • 3篇MESFET
  • 3篇超薄
  • 3篇超薄栅
  • 3篇N-MOSF...
  • 2篇氧化层

机构

  • 13篇北京工业大学
  • 8篇北京大学
  • 4篇西安交通大学
  • 2篇信息产业部

作者

  • 21篇穆甫臣
  • 12篇李志国
  • 11篇孙英华
  • 10篇沈光地
  • 10篇程尧海
  • 9篇郭伟玲
  • 8篇许铭真
  • 8篇谭长华
  • 6篇陈建新
  • 5篇罗晋生
  • 3篇段小蓉
  • 2篇毛凌锋
  • 2篇胡靖
  • 2篇严永鑫
  • 2篇卫建林
  • 1篇李志国
  • 1篇张贺秋
  • 1篇薛静
  • 1篇穆杰

传媒

  • 8篇Journa...
  • 3篇半导体技术
  • 2篇北京工业大学...
  • 2篇微电子学
  • 1篇电子工艺技术
  • 1篇微电子学与计...
  • 1篇半导体杂志
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇第十二届全国...

年份

  • 2篇2002
  • 5篇2001
  • 2篇2000
  • 2篇1999
  • 10篇1998
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Si/SiGe/Si HBT频率特性的解析模型与模拟被引量:2
1998年
用解析的方法模拟了T=300K和77K时,fT和fmax与集电极电流密度Jc的关系,在大电流下考虑了异质结势垒效应的影响。模拟结果和用数值方法以及实验所得到的结果一致。同时,还建立了与之相应的Si/SiGeeb异质结和SiGe/Sibc异质结电容模型。
张万荣罗晋生李志国孙英华穆甫臣程尧海陈建新沈光地
关键词:异质结截止频率最高振荡频率HBT
超薄栅n-MOSFETs热载流子寿命预测模型被引量:1
2001年
对氧化层厚度为 4和 5 nm的 n- MOSFETs进行了沟道热载流子应力加速寿命实验 ,研究了饱和漏电流在热载流子应力下的退化 .在饱和漏电流退化特性的基础上提出了电子流量模型 ,此模型适用于氧化层厚度为 4— 5
穆甫臣许铭真谭长华段小蓉
关键词:热载流子效应N-MOSFET场效应晶体管
半导体器件欧姆接触中的扩散阻挡层被引量:12
1998年
为提高半导体器件欧姆接触的可靠性,一般要在金属化系统中加扩散阻挡层。本文介绍了扩散阻挡层的种类及其特性,并进行了比较和讨论。最后给出了在实际成功应用的例子。
张万荣李志国郭伟玲孙英华穆甫臣程尧海沈光地
关键词:欧姆接触扩散阻挡层半导体器件可靠性
对Fukui法测量MESFET栅极串联电阻的改进被引量:3
1999年
本文描述了改进的 Fukui法 .利用改进的 Fukui法可以精确地测量 Ga As MESFET的栅极串联电阻 .实测结果表明 ,漏 -源电阻的测量受栅势垒内建电势影响较小而受夹断电压影响较大 ,从漏 -源电阻与 X( X为栅势垒内建电势、夹断电压和栅 -源电压的函数 )
穆甫臣李志国张万荣郭伟玲孙英华严永鑫
关键词:MESFET半导体器件
4-9nm n-MOSFETs热载流子退化及寿命预测
本文对4-9nm n-MOSFETs进行了沟道热载流子应力加速寿命实验,在饱和漏电流退化特性的基础上提出了适用不同氧化层厚度器件的寿命预测模型,并进行了寿命预测.
穆甫臣许铭真谭长华段小蓉
关键词:MOS器件热载流子氧化层厚度
文献传递
砷化镓欧姆接触中的能带工程
1998年
介绍了欧姆接触中运用能带工程的原理,评述了近年来GaAs欧姆接触中能带工程应用的研究状况。具体分析了用薄的窄能隙材料做帽层降低势垒高度和基于In金属化系统的欧姆接触两方面的应用。
张万荣李志国穆甫臣郭伟玲孙英华陈建新沈光地
关键词:欧姆接触砷化镓
Si-SiGe/SiHBT真流特性的解析模型与模拟
1998年
在考虑了重掺杂效应、异质结势垒效应、各物理量随温度变化以及背注入空穴电流、BE结空间电荷区复合电流、中性基区复合电流对基极电流贡献后,对Si/SiGe/SiHBT的常温和低温直流特性进行了解析模拟.给出了T=77K和300K时的Si/SiGeHBTGummel图和电流增益β与集电极电流密度Jc的关系.研究了基区少子寿命对的影响.模拟显示,Si/SiGe/SiHBT在小电流和中等电流下有良好的常温和低温直流特性,在大电流下,由于异质结势垒效应的存在,电流增益β严重退化.
张万荣罗晋生李志国穆甫臣程尧海陈建新沈光地
关键词:异质结晶体管直流特性解析模型
Si/SiGe/SiHBT的优化设计被引量:5
1998年
给出了常温和低温Si/SiGe/SiHBT的设计原则,并进行了讨论。指出了低温和室温HBT设计上的差异。这些原则可用于优化设计特定要求的Si/SiGe/SiHBT。
张万荣李志国郭伟玲孙英华穆甫臣程尧海沈光地罗晋生
关键词:异质结晶体管双极晶体管
开态热载流子应力下的 n-MOSFETs的氧化层厚度效应(英文)
2002年
在最大衬底电流条件下 (Vg=Vd/ 2 ) ,研究了不同氧化层厚度的表面沟道 n- MOSFETs在热载流子应力下的退化 .结果表明 ,Hu的寿命预测模型的两个关键参数 m与 n氧化层厚度有着密切关系 .此外 ,和有着线性关系 ,尽管不同的氧化层厚度会引起不同的模型参数 ,但是如果对于不同厚度的氧化层 ,采用不同的 m与 n,Hu的模型仍然成立 .在这个结果的基础上 。
胡靖穆甫臣许铭真谭长华
关键词:热载流子效应氧化层场效应晶体管
提高半导体器件欧姆接触可靠性的扩散阻挡层及其应用被引量:3
1998年
为了提高半导体器件欧姆接触的可靠性,一般要在金属化系统中加扩散阻挡层。文中介绍了扩散阻挡层的种类及其特性,并进行了比较和讨论。最后给出了在实际成功应用的例子。
张万荣李志国郭伟玲孙英华穆甫臣程尧海陈建新沈光地
关键词:半导体欧姆接触扩散阻挡层
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