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王新峰

作品数:5 被引量:15H指数:2
供职机构:山东理工大学理学院更多>>
发文基金:山东省自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信自动化与计算机技术机械工程更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇直流磁控
  • 2篇直流磁控溅射
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射法
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇氧化锌
  • 1篇直流磁控溅射...
  • 1篇透明导电
  • 1篇透明导电薄膜
  • 1篇全息
  • 1篇滤波
  • 1篇巨磁电阻
  • 1篇计算全息
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇溅射功率
  • 1篇傅里叶
  • 1篇傅里叶变换
  • 1篇

机构

  • 4篇山东理工大学

作者

  • 4篇王新峰
  • 2篇刘汉法
  • 2篇张化福
  • 1篇郭美霞
  • 1篇刘瑞金
  • 1篇类成新
  • 1篇周爱萍
  • 1篇史晓菲
  • 1篇陈钦生
  • 1篇魏功祥
  • 1篇袁长坤
  • 1篇梅玉雪
  • 1篇刘云燕

传媒

  • 2篇人工晶体学报
  • 2篇山东理工大学...

年份

  • 2篇2010
  • 1篇2007
  • 1篇2006
5 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
衬底温度对直流磁控溅射法制备掺锆氧化锌透明导电薄膜性能的影响(英文)被引量:11
2010年
利用直流磁控溅射法在石英衬底上制备出了高透明导电的掺锆氧化锌(ZnO:Zr)薄膜。研究了衬底温度对ZnO:Zr薄膜结构、形貌及光电性能的影响。XRD表明实验中制备的ZnO:Zr为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,具有垂直于衬底方向的c轴择优取向。实验所制备ZnO:Zr薄膜的晶化程度和导电性能对衬底温度有很强的依赖性。当衬底温度为300℃时,ZnO:Zr薄膜具有最小电阻率7.58×10-4Ω.cm,其可见光平均透过率超过了91%。
张化福刘瑞金刘汉法陈钦生王新峰梅玉雪
关键词:衬底温度直流磁控溅射
基于TN-LCSLM的计算全息实时再现被引量:1
2006年
分析了计算全息图编码原理,介绍了用MATLAB编程计算全息编码的主要步骤.用Matlab模拟了计算全息图的再现结果.将编码全息图实时输出到高分辨扭曲向列型液晶空间光调制器(TN LCSLM)上,和傅里叶变换透镜、滤波器、CCD等组成计算全息实时再现系统,实现了全息图的实时再现.最后,分析了提高再现像质量的方法.
魏功祥袁长坤张化福类成新刘云燕周爱萍王新峰
关键词:计算全息傅里叶变换滤波
溅射功率对直流磁控溅射法沉积TGZO薄膜性能的影响被引量:3
2010年
利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的钛镓共掺杂氧化锌(TGZO)透明导电薄膜。研究了溅射功率对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明:溅射功率对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响。X射线衍射分析表明,TGZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。在溅射功率为120W时,实验获得的TGZO薄膜的方块电阻为2.71Ω/□,此时电阻率具有最小值2.18×10-4Ω·cm。实验制备的TGZO薄膜在可见光区范围内平均透过率达到了90%以上。
史晓菲郭美霞刘汉法王新峰
关键词:透明导电薄膜溅射功率磁控溅射
巨磁电阻锰氧化物材料的低温电阻率行为的研究
2007年
对巨磁电阻锰氧化物材料(1-x)La2/3Ca1/3MnO3/(x)YSZ(钇稳定氧化锆)—(1-x)LCMO/(x)YSZ系列样品低温下电阻率行为进行了研究.(1-x)LCMO/(x)YSZ的R-T曲线低温拟合系数的分析结果表明,在低温下电阻率行为式ρ=0ρ+ATa+BTb中,b=5是合理的,T5代表电子-声子散射项.
王新峰
关键词:巨磁电阻
共1页<1>
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