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文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 2篇等离子
  • 2篇等离子体
  • 2篇等离子体源
  • 2篇渗氮
  • 1篇渗氮技术
  • 1篇金属
  • 1篇活性
  • 1篇技术特性
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数
  • 1篇奥氏体
  • 1篇奥氏体不锈钢
  • 1篇不锈
  • 1篇不锈钢

机构

  • 2篇大连理工大学

作者

  • 2篇王中一
  • 1篇陈琳
  • 1篇曹雪梅
  • 1篇雷明凯
  • 1篇李广宇
  • 1篇王知源

传媒

  • 1篇金属热处理

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用被引量:16
2013年
活性屏等离子体源渗氮技术是一种先进的渗氮技术,消除了常规直流等离子体渗氮技术的固有缺陷,且可处理聚合物材料及表面附着氧化皮的金属材料。本文介绍了活性屏等离子体源渗氮技术传质机理的研究进展,在改性低合金钢、不锈钢、工具钢、聚合物材料以及抗菌功能材料等方面的最新结果,评述了活性屏等离子体源渗氮技术存在的问题和发展趋势。
李广宇王中一陈琳曹雪梅王知源雷明凯
关键词:金属
等离子体源渗氮AISI316奥氏体不锈钢工艺研究
等离子体源渗氮技术是一种新型离子渗氮技术,能够消除传统直流离子渗氮技术中存在的温度不均匀性、工件打弧和空心阴极效应等缺陷。本文系统研究了渗氮温度、渗氮气压、试样位置及试样电位状态等工艺参数对等离子体源渗氮AISI316L...
王中一
关键词:工艺参数技术特性
共1页<1>
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